用于MEMS加工的双面深度光刻机对准系统设计_马平
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电子工业专用设备 新设备与新工艺7?/$6+“$2+-(2-)8 9:-(?4, !“#$#%89:+(3)0#,934,; )=)*-95#+6+2.(N5N 可 安 装 ! 到 “ 个 自 动 托 盘 供 料 器（#$%& ）( 从而可以装入各种类型的复杂元件。新的 #$% 由于采用了双塔的概念，可以实现不停机换料。因此，通过托盘续装元件，对 )*+,-%. /0 的贴装速度没有任何负面影响。? ABC?3?DED?( BAA=FEDG B FEH? IBJE? D?F #$% CBD O? J?LEAA?H HQJEDG ABC?3?DBDG? E D=? ABC?3?DED? HQ? ? ?J?L=J? ? SRBNM装头的 # 轴也用了线性驱动电机。这样? =L EA?BH EG?JABC?3?D? AED?BJ 3=? GBDB? KBI? ? ?)*+,-%. $FED 机。该系统配备 5 种可自由编程光线对/?BH B B ABJG? 12N 52 33LE?AH =LIEE=DP %=3=D?DEJ?QA?B3? B %M 元器件进行可靠识别。:-=J 0AE %EP!（上接第 !“ 页）底面对准技术积累了宝贵经验及一定的技术基础。 !结束语底面对准系统设计是双面深度光刻机研制中的 难点之一，国内以前还未见底面对准技术应用于双面深度光刻机的报道，我们在研究、设计及装调等 过程中都遇到了许多技术难点，该项目的成功开展是 克服诸多技术难点的结果，同时也为以后开展参考文献“#$%陈伟明，杨维全&对准标记处理的改进亚象素细分定位算法&#%微细加工技术，()$，（!）：*+,*“#(%王继红-苏伟军&亚微米接触式 . 射线曝光对准系统&#%微细加工技术，()$，（$）：$/,$0$ %&( “227 （总第 !27 期）
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