我国有了光刻机核心技术_
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1、第 10 期张存鹰 等: AMT 位移传感器性能检测试验平台应用研究147每个输入通道的增益可编程。研华 PCI-1240U 运动控制卡是通用 PCI 步进 / 脉冲伺服电机运动控制卡，其功能为 2 /3 轴线性插补功能、2 轴圆弧插补功能、手轮和慢进功能、独立 4 轴伺服电机控制、连续插补功能等。 电气工作原理图如图 5 所示。图 5 电气工作原理图 驱动及采集原理图如图 6 所示。图6 驱动及采集原理图 5.2 控制程序设计 控制程序是位移传感器性能检测设备设计的核心之一，程序设计的好坏关系到检测设备的使用性能和操 作方便性，同时须考虑程序的工作效率。因此，该设备 控制程序设计为复位操作、单周期循环等组成环节，各 控制环节程序相互融合，设计精巧。各环节程序控制原 理如下:回原点操作: 为了确保设备从正确的初始位置开始工作，开机时首先 要进行初始化操作，否则设备不能被启动。单周期循环工作: ( 1) 点击启动按钮后，X、Z轴直线运动单元和旋转机构带动磁钢实现直线往复运动和旋转运动。 ( 2) 位移传感器接收到磁钢的位移信号，将信号传输给采集卡。 ( 3) 工控机分析采集信号，自动计算
2、同方向运动每个点检测数据的平均值、最大值、最小值，自动判断数据是否超出误差，对超差数据进行标示和提示。绘制位移 电压输出曲线并与标准位移 电压输出曲线对比。 ( 4) 完成检测后自动停止复位。6结论针对产品的设计技术要求，设计了一种新型的位移传感器性能试验平台，该平台采用高精度直线运动单元带动旋转机构夹持磁钢作往复直线和旋转运动;位移传感器放置在 Y 轴手动直线运动单元上的旋转机构上。与现有 X、Y、Z 三轴定位平台相比，该设备具有结构简单、精度高、可靠性强、使用寿命长、成本低等特点，能更好地完成位移传感器性能检测工作，具有较好的使用价值和应用前景。 参考文献:1黄介彬 汽车检测设备中的常用传感器J 汽车维修与保养，2001( 6) : 51 532 Intechno Consulting Sensor Markets 2008M，20083冯成龙，刘洪恩 传感器应用技术项目化教程M 北京: 清华大学出版社，20094陈超祥，叶修梓 2010 版 SolidWorks 高级教程简编M北京: 机械工业出版社，20105申永胜 机械原理教程M 北京: 清华大学出版社，2000: 378 3
3、866邓星钟 机电传动控制M 武汉: 华中科技大学出版社，2008: 406 435 櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢毟櫢我国有了光刻机核心技术櫢櫢对于普通人来说，光刻机或许是一个陌生的名词，但它却是制造大规模集成电路的核心装备，每颗芯片诞生之初， 都要经过光刻技术的锻造。国家科技重大专项 “光刻机双工件台系统样机研发”通过验收，使我国成为少数能研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域尖端系统的国家之一。“简单地说，光刻机就是把工程师的设计 印入基底材料，其核心技术长期被荷兰、日本、德国等把持。” “”专家、从事密码芯片研发的九州华兴集成电路设计公司首席科学家丁丹在接受科技日报记者采访时说， “我们研发的芯片投入生产时，130 nm 的芯片开模就是 120 万元人民币，而 28 nm 的芯片开模费用高达上千万元人民币。”据介绍，为了将设计图形制作到硅片上，并在 2 3 cm2 的方寸之地集成数十亿晶体管，光刻机需达到几十纳米甚至更高的图像分辨率。而光刻机两大核心部件之一的工件台，在高速运动下需达到 2 nm ( 相当于头发丝直径的三万分之一) 的运动精度。因此光刻机双工件台又被称为 “超精密技术皇冠上的明珠”。专家组认为，历经 5 年攻关，研究团队研制出 2 套光刻机双工件台掩模台系统 样机，关键技术指标已达到国际同类光刻机双工件台水平，并获得专利授权 122项，为后续产品研发和产业化打下了坚实基础。 ( 内容来源: 科技日报)毟毟櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢櫢
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