研磨剂生产新配方设计新工艺与制备新方法新技术实用专利手册.docx

研磨剂生产新配方设计新工艺与制备新方法新技术实用专利手册主编:专利编写组出版发行:内部发行资料2023年规格:全五卷16开精装+1张CD光盘定价:1880元 优惠价:1580元具体目录1 .3 可电解的金属结合剂超硬磨料砂轮及其制备方法2 .0 可电解的金属结合剂超硬磨料砂轮使用的磨削液及其制备方法3 03148284.8 具规则性排列磨料研磨工具的制造方法4 02820394.1 磨料容纳袋子5 02820724.6 研磨剂、研磨剂的制造方法以及研磨方法6 .5 等离子显示板的隔壁形成用磨料及等离子显示板的制造方法7 .4 研磨液组合物8 .6 磁盘用研磨液组合物9 .7 磨料浆体射流切割用的浆料及其制备方法10 02823057.4 研磨玻璃表面或物体解决剂及其用途和制备方法11 .X 一种用稻壳灰制作牙膏或牙粉研磨剂的方法及用途12 .2 浆料与高压传递介质分别独立循环的磨料浆体射流装置13 02819457.8 具有精细研磨的天然白垩的口腔组合物14 .9 一种平面往复式磨料磨损实验装置15 02825566.6 对包含第Ⅷ族金属的表面采用固定磨料制品的平面化方法16 02826000.7 用于研磨料回收的方法和装置以及废料分离系统17 02826551.3 研磨液及研磨方法18 .8 磁盘用研磨液试剂盒19 .7 用于生产磨料颗粒的清吹制粒方法20 .9 带有用于减少浆液消耗的凹槽排列的研磨垫21 .3 带有用于提高浆液运用率的凹槽的研磨垫22 .7 化学机械研磨用研磨剂及基板的研磨法23 .4 硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用24 .8 磨料射流快速公路切割机25 .6 一种非标尺寸有源矩阵液晶显示器及其研磨制造方法26 .0 研磨液再运用装置及其系统27 .6 用于彩色光阻材料平面化的研磨浆液28 03807719.1 金属镀层磨料、使用金属镀层磨料的砂轮以及生产金属镀层磨料的方法29 03807940.2 研磨基材的方法及组合物30 .6 化学机械研磨浆液及其使用方法31 03806350.6 塑性材料及其组合物的研磨方法32 .9 化学机械研磨用水性分散剂及其化学机械研磨方法33 03809590.4 研磨液及研磨方法34 .9 一种用于存储器硬盘磁头背面研磨的研磨液35 03811386.4 用于制备三元组合物的共研磨方法36 .X 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法37 03813586.8 用于从研磨的聚氨酯颗粒和多元醇液体的混合物中连续除去空气的设备和方法38 03812783.0 研磨液及研磨方法39 03814247.3 改善的涂覆磨料40 .5 研磨用磨料、研磨剂、研磨液、研磨液的制造方法、研磨方法以及半导体元件的制造方法41 03817513.4 半导体用研磨剂、该研磨剂的制造方法和研磨方法42 .4 研磨液组合物43 03818945.3 磨料夹持器44 03818946.1 CMP研磨剂及基板的研磨方法45 .6 用于钨和钛的化学机械平坦化的研磨剂和组合物46 03821127.0 具有树脂控制添加剂的研磨制品47 03821131.9 半导体集成电路用绝缘膜研磨剂组合物及半导体集成电路的制造方法48 .9 半导体芯片化学机械研磨剂及其配制方法49 .3 研磨液组合物50 .0 金属用研磨液及研磨方法51 .1 半导体芯片化学机械研磨后清洗液52 03822423.2 研磨剂组合物、其制备方法及研磨方法53 .4 化学机械研磨用水性分散剂及其化学机械研磨方法54 03822712.6 熔融钎焊涂层超磨料颗粒和有关方法55 03152471.0 研磨液组合物56 03152478.8 研磨液组合物57 03142418.X 用于制造铈磨料的轻稀土原料58 02802801.5 "形成精细间隔壁的方法,生产平面显示装置的方法,及喷射加工用磨料"59 02802963.1 铈类研磨材料浆剂及其制造方法60 01818179.1 多晶磨料61 03155119.X 半导体装置的研磨剂和用研磨剂的半导体装置的制造方法62 02156346.2 磨料及其制造方法63 02148174.1 研磨剂、基片的研磨法和半导体装置的制造方法64 01821238.7 制备附聚物磨料颗粒的喷雾干燥方法和磨料制件65 01819592.X 用于水性悬浮液中矿物质研磨的助剂、所形成的水性悬浮液及其用途66 01819593.8 "用于水性悬浮液中矿物质研磨和/或分散的助剂,所形成的水性悬浮液及其用途"67 01819652.7 铈基磨料及其生产过程68 03155318.4 研磨液组合物69 03154996.9 研磨垫用组合物以及使用它的研磨垫70 03127654.7 硅藻土磨料抛光剂的制备方法71 01822459.8 "涂银磨料,含涂银磨料的刀具,和这些刀具的应用"72 03158608.2 具有被埋入的液态微量成分的研磨垫及其制造方法73 03127287.8 研磨液组合物74 02145989.4 化学机械研磨浆液组合物及其使用方法75 01823099.7 填有磨料的热固性组合物及其制备方法和填有磨料的制品及其制备方法76 .7 测量液晶显示面板研磨量的设备和方法77 .7 评价磨粒质量的方法、抛光方法以及玻璃抛光用的磨料78 .8 研磨液组合物79 .4 研磨液组合物80 02811396.9 聚氨酯组合物以及研磨垫81 .5 研磨液组合物82 .4 研磨液组合物83 .5 研磨液组合物84 02810471.4 蜂窝状磨料制品85 03115702.5 水下高围压后混合磨料射流模拟实验装置系统86 03119819.8 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法87 .7 具有优化地貌的单层钎焊金刚石固结磨料工具的工艺方法88 03119818.X 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法89 .0 液晶面板表面的研磨装置及研磨方法90 03800709.6 抛光方法及研磨液91 02806168.3 铈类研磨材料及研磨材料浆液和铈类研磨材料的制造方法92 02810421.8 磨料流体喷射系统93 01816826.4 抛光涉及铜和钨的半导体器件结构中使用的浆液与固定磨料型抛光垫以及抛光方法94 01816199.5 磨料组合物及其制备方法95 01816200.2 制备磨料组合物的方法及其产品96 .9 一种陶瓷材料研磨助剂的制备方法97 02816872.0 液晶聚合物的研磨98 .X 尼龙波纹磨料丝及其制造方法99 .1 分散稳定性良好的研磨剂浆体及基板的制造方法100 .8 化学机械研磨剂组合及其化学机械研磨方法101 01823810.6 磨料流动加工设备及方法102 01822485.7 磨料金刚石复合材料及其制造方法103 .3 减少研磨料浆含杂量的方法及系统104 .0 单层超硬磨料工具的制造方法105 .4 铈系磨料用原料以及铈系磨料用原料的制造方法、铈系磨料以及铈系磨料的制造方法106 .9 磨料颗粒、抛光浆料及其制造方法107 .9 研磨剂、基片的研磨法和半导体装置的制造方法108 .4 大型零件的抛光方法及在该方法中使用的磨料109 .7 碳酸铈的焙烧温度的设立方法、氧化铈磨料的生产方法及由该方法制得的氧化铈磨料110 02810207.X 立方氮化硼磨料颗粒的生产方法111 03825640.1 用于透明牙膏的磨料组合物112 .3 碳黑树脂研磨组合物、碳黑树脂组合物及应用其的胶印油墨113 .9 研磨液组合物114 .7 研磨矿物质的低离子负载水悬浮液及其用途115 .X 化学机械研磨用水性分散剂以及化学机械研磨方法116 .4 一种不锈钢表面快速化学研磨抛光浴液及方法117 .X 水力自旋式可控磨料射流切割装置及其操作方法118 .9 研磨液组合物119 .6 CMP研磨剂以及研磨方法120 .3 立方氮化硼陶瓷结合剂研磨盘及其生产方法121 .2 混合研磨剂抛光组合物及其使用方法122 .3 化学机械研磨用浆料组合物、运用它的半导体元件的表面平坦化方法以及浆料组合物的选择比控制方法123 .9 研磨垫用组合物124 .6 一种具有团块的磨料制品的用途125 .3 聚丙烯酸作为碳酸钙的研磨助剂的用途126 .6 高压磨料水射流切割头装置及混合管127 .0 用于制造改善的氧化铈研磨颗粒及涉及这种颗粒的组合物的方法128 .3 磨料硬表面清洁组合物129 .4 磨粒、磨料制品及其制造和使用方法130 .6 研磨液组合物131 .1 不含磨料的化学机械抛光组合物及相关方法132 .1 半导体基板用研磨液组合物133 .0 具有曲折表面形貌之覆层的磨料颗粒134 .4 CMP方法用研磨液及研磨方法135 .7 金属结合剂超硬磨料砂轮的电火花-机械复合整形方法136 .1 一种合用于青铜结合剂超硬磨料砂轮高速电解修锐磨削的磨削液137 03826622.9 金属用研磨液以及研磨方法138 .4 磨料发射装置139 .6 抛光磨料及其制造方法140 .9 玻璃基板用研磨液组合物141 .4 光敏树脂结合剂研磨盘的制备方法142 .6 研磨剂及研磨方法143 .5 金属研磨液材料、金属研磨液、其制造方法及使用它的研磨方法144 .7 用于化学机械抛光的二氧化铈研磨剂145 .X 用于测量微米超级磨料的压碎强度的装置146 .7 化学机械研磨用水系分散体及研磨方法、调制用的试剂盒147 .3 化学机械研磨机台的研磨液供应设备与研磨液混合方法148 .8 硼涂覆磨料149 .0 半导体平坦化用研磨剂150 .6 重叠振动复合磨料加工方法及装置151 .2 具有抗菌功效的含磨料牙刷丝152 .3 超级磨料线锯及相关制造方法153 .4 半导体硅晶片水基研磨液154 .2 用于铌酸锂光学晶片研磨抛光的抛光液155 .7 用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液156 .2 研磨用组合物及研磨方法157 .1 电子玻璃的纳米SiO₂磨料抛光液158 .7 磨削不锈钢的菱苦土磨料砂轮及其制造方法159 .8 铈盐、其制造方法、氧化铈以及铈系研磨剂160 .8 组合物、经解决的背衬和包含这样的组合物和背衬的经涂敷的磨料制品161 .7 用于化学机械抛光的磨料颗粒162 .5 液状组合物、其制造方法、低介电常数膜、研磨料及电子部件163 .8 硅片研磨液164 .6 磨料水射流井下多辐射孔超深钻孔装置165 .8 化学机械研磨用水系分散体及研磨方法、调制用的试剂盒166 .1 带涂层磨料的制造方法167 .7 结构化磨料制品168 .6 磨料制品及其制造方法169 .0 用于磨料制品的复合物170 .5 具有抛物面的结构磨料171 .3 带涂层磨料的制造方法172 .8 结构化磨料制品173 .9 液晶显示设备用研磨机轮和用其制造液晶显示设备的方法174 .7 超大规模集成电路多层布线SiO₂介质的纳米SiO₂磨料抛光液175 .4 CMP用研磨液及其制备方法以及基板的研磨方法176 .X。