镀膜实验报告.docx

多层介质膜滤光片的镀制摘要：本实验以蒸发真空镀膜机对滤光片镀膜，采用干涉原理对膜厚进行监控使用单色仪把 光源透过滤光片并有反射镜反射回来到单色仪上的光，经由单色仪原理被分成不同的光束， 再由光电倍增管将光信号放大并转化为电信号通过理论模拟和实际实验结果进行比较，分 析实验误差产生的原因关键词：干涉滤光片、高真空镀膜、光学极值法测膜厚、真空检验引言：当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），大约有5% 会被反射掉，在光学瞄 准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%现代光学透镜 通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至 1.5%，多层增透膜则 可让反射降低至 0.25%，所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达 95%镀了单 层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜这种方法最早由M.法拉 第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、 陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方待系统抽至高真空后，加热使其中的物质蒸发。

蒸发物质 的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面薄膜厚度可由数百埃至数微米膜厚决定于蒸发 源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关对于大面积镀膜，常 采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性从蒸发源到基片的距离应小于蒸 气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用蒸气分子 平均动能约为0.1〜0.2电子伏本实验通过蒸发真空镀膜设备对滤光片镀膜原理：1、真空技术“真空”是指气压低于一个大气压的气体状态在真空状态下，单位体积中的气体分子 数大大减少，分子平均自由程增大，气体分子之间、气体分子与其他粒子之间的相互碰撞也 随之减少这些特点被广泛应用于科学研究和生产的许多领域中，例如：电子器件、大规模 集成电路、加速器、表面物理、热核反应、空间环境模拟、真空冶炼和真空包装等真空泵是把被抽容器中的气体排放出从而降低容器内气压的机具根据排气压强，真空 泵大致可分为三类第一类是往大气中排气的泵，这种泵一般称为粗抽泵或前级泵，它可以从大气压下开始 工作，可以单独使用或与其他需要在出口处维持一低气压的泵连用旋转机泵、活塞式机械 泵等都属于这一类第二类是只向低于大气压的环境中排气的泵。

这类泵是在气体相当稀薄 时才能开始工作，并气体排除到已被前级泵抽成低真空的地方这类泵称为高真空泵，如扩 散泵、分子泵等第三类是可束缚住系统中的气体和蒸汽的泵，如吸附泵和低温泵等而在本实验中，我们可以通过机械泵和油扩散泵的配合使用达到高真空条件但扩散泵 不能再大气下运行，因此在高真空泵能够工作之前，必须先用机械泵通过低真空阀门分别将 钟罩内和扩散泵中的大部分气体抽到大气中扩散泵需要预热，待真空度合适后，将低真空 阀放在抽扩散泵一侧，然后慢慢打开高真空阀门扩散泵和机械泵的组合可使钟罩内的压强 降到大约7X1O-Pa2、反射膜光线在单一分界面上的反射光线垂直入射到透明介质界面时，反射系数r和反射率R分别为r 二 ttn + nit2-1)n - n_ (「 L)2n + nit2-2)n n n n其中i、 t分别为两种介质的折射率知道i和t便很容易地计算光垂直入射在该界面上 时的反射特性在一般情况下，光线以一定的角度入射到分界面上，这时，要对两种偏振分别计算反射率和透射率假设入射光为平面电磁波E，并在波前平面内的偏振分量P波和与该平面垂直的分量s波，反射波和透射波也做同样的分解，用上标‘、r和t分别代表入射波、反射波和投射波。

于是，P波和s波的反射率和透射率分别为图2-1光线在单一界面上的反射Er tan® -p )r = p = i t -p Ei tan(p +p)p i tEt 2cos p sinpt 二 P 二 i tp Ei cos(p -p )sin(p + p )p i t i tEr sin(p - p )r 二 旷二 i —s Ei sin(p + p )s i tEt 2cos p sinpt — s — i ts Ei sin(p + p )s i t定义介质的光学导纳| H |r — hI K x E I//(2-3)(2-4)其中K为与界面垂直方向的单位矢，H和E分别为磁场强度矢量和电场强度矢量,脚标“// ”指平行于界面的方向"的大小既与介质的折射率n有关，也与入射角巴和Pt有关，由折射定律n- Sin巴—ntSinPt和绝缘介质面上电磁场的边值关系kx(E -E)—0,kx(H -H )—0t i t i(2-5)以及H和E的振幅比可以推出如下关系IH I ：8卄 = —I E I 卩//Q 二一1 ，耳 t =—匕—(p波)(2-7a)p COS 9 p COS 9it(2-7b)耳 i = n cos9，耳 t = n cos9 (s波) s i i S t t于是可得振幅反射率及能量反射率( 2-8)qi _qtR = (- — )2(2-9)q i +—t（2-8）、2-9）两式中的-无论对于P波还是*波都适用。

2-8）、（2-9）两式的形式与（2-1）、（2-2）两式完全相同，这就是说定义了介质的光学导纳-之后，我们就可以用同一形式的公式来处理问题而不必区分垂直还是斜入射由于不论对P还是s，在忽略吸收条件下都有R+T=1 (2-10)因此，知道R后，便可求得T不必再直接计算3、单层膜的反射率考虑在基片上单层膜平行平面薄膜的情况光线入射时，会在界面I和界面1】上产生 多光束干涉，.对这种情况下计算器反射率可以发现，可把它看做是单一界面的情况，即可n _ n _ n n _ Y以把0 1 2的单层膜系统看做0 的单一界面来处理，并且仍然可以用（2-9）式来 计算反射率RY称为单层膜系统的有效导纳为了计算方便，我们采用矩阵法单层膜系个各光学参数间的关系可用矩阵表示为：cos 51sin511i sin 5q1cos51(3-1)n等式右边2x2矩阵为膜层"1的特征矩阵，其中5=孚nd cos9(3-2)1 九 1 1 1nn称为1膜层的相位因子，i为虚数单位，2x1矩阵称为基底为2的特征矩阵等式右边的矩阵称为膜系的特征矩阵，膜系的有效导纳Y由此矩阵的两个矩阵元决定,(3-3)由此单层膜的反射率为(q - Y—0 E + Y丿0(3-4)4、多层膜的反射率对于多层介质膜系，也可以把膜层ni'n2‘……nk和基底"g等效成有效导纳为Y的单一界面，此时(3-3)式仍然成立，而(3-1)式对应改为」Mi=1(3-5)其中cos 8i、iq sin 8iii sin 8 ' iqicos8 丿i(3-6)为第i层的特征矩阵。

即整个膜系的所有光学参数及其相对反射特性的影响取决于各膜层的 特征矩阵的乘积在相位因子8i中，我们称ndicos 8 i为第i层的光学厚度，当它是九/4的时候，膜层叫九/4层若每层的光学厚度都是九/4的整数倍，则整个膜系叫做九/4膜系我们用字母的排列“GHLH…”表示膜系的情况，其中，H、L分别代表光学厚度为九/4的高、低折射率膜层，G为基片对in d cos 8 =九 / 4i8 =兀 / 2 cos 8 = 0 的膜系， ii ，该层对应的特征矩阵为qi0丿q满足这一条件的单层膜与基底g构成的膜系有( iq Aqi0丿(3-7)(3-8)所以n g―i—ngn — 1设 n0 1，正入射时，R—(3-10)若ni > ng则Y >ng, R为极大值，这样的九/4层为高反射层，若n-< ng，则Y

全介质九/4膜系构成高反射膜它的反射率随波长变化情 况在计算中没有考虑光从空气中入射到玻璃基片时的透过率的损失5、膜厚的监控准确地控制每一层介质膜的厚度是制备多层介质膜的关键一般膜层厚度的允许误差的 最好小于2%,偶尔允许到5%，本实验采用极值法进行膜厚度监控当膜厚的光学厚度 0 /4 的整数倍时，薄膜的透射率或反射率出现极值，即薄膜的透射率与反射率随膜厚呈周期性的 变化选定控制波长后，将通过监控片的光信号用光电探测器接收，再用放大器显示出来电信号从每个极大到极小所对应的膜厚度为 0 /4，反之，电信号从每个极小到每个极大所对经的厚度也是 0 /4实验仪器与实验内容：实验设备如图，其操作原理电子枪蒸发源加热使得H (硫化锌ZnS nh=2.35) L(冰晶石 Na3AlF6)的材料分别挥发到了基片上冷凝附着，光源射出的光通过斩波器后变成波长在 632.8nm左右的单色光，经过基片，与基片表面上的膜发生干涉作用，透过的光强有所改变， 当薄膜厚度在1/4波长时有极值出现，表现为光强的大小有极值在通过反射镜，放射至单 色仪上，单色仪分离掉其他光束(632.8nm之外的)再经过光电倍增管，把光信号转化为电 信号，并于膜厚控制仪上显示。

当出现极值时，也就是1/4波长出现的时刻此时换L和H 的镀膜比阿11 ：. 1勺 I-f-i Jj*5t 占占 f未 栩％斩波M41 f i&图1实验仪器示意图实验步骤：1、 抽真空前的准备工作用吸尘器吸净中招内的杂质与灰尘，在舟1、舟2内方硫化锌，舟3、舟4内方冰晶石， 用酒精洗干净玻璃片后放入钟罩内置基片的地方2、 抽真空先用机械泵将系统和钟罩内抽真空至7Pa后，用已经预热过的扩散泵抽真空在压强低 于7*后对舟1、2、3、4进行预熔3、 镀膜预熔后开始镀制11层全介质干涉膜膜系为HLHLH2LHLHLH在镀膜的过程中，观察光 电流的走向，当出现极值点时，应及时更换镀膜材料镀膜完毕，待镀膜机冷却后，方可将 镀膜片取出4、 测量用分光光度计测量窄带滤光片的透过率曲线，在曲线上标出峰值波长、半高宽和最大透 过率，光路示意图如图2）PM TS2TU-122L紫外和可见光分光光度计的光路示意團数据处理与数据结果分析：1、干涉滤光片的镀制（H为高折射率，L为低折射率）层编号折射率光电流强度（uA）层编号折射率光电流强度（卩A）1H102.2-85.98L35.1-50.42L8。