刻蚀操作规程07107A.docx

刻蚀操作规程1 准备工作1.1 进入净化室必须穿工作衣、工作鞋，戴工作帽；工作时必须佩戴手套、口罩1.2 做工艺卫生工作每班刻蚀前必须用酒精棉擦洗石英钟罩内壁一遍，去除壁 上残余污染物，以保证等离子体正常工作1.3开启等离子刻蚀机电源开关、冷却水开关，开氧气（02）和四氟化碳（CF4） 气瓶开关（两小格即可）1.4 打开射频电源预热 20 分钟2 对上到来料进行检验2.1 检验要求确认有检验人员签字的流程卡才能进行去边3 作业过程3.1 将扩散完、待加工的硅片整齐地叠在一起，在最上面、最下面的硅片上加同 规格的塑料薄片，用四氟片压好，盖上盖板，平衡拧紧螺丝，（控制好力度， 要压紧，但也不要太过用力，以免压碎硅片）放入离子刻蚀机反应室，对准 盖好上盖板3.2 打开机械泵，开主抽，开始抽真空，抽到最低，同时开启氧气和四氟化碳， 并按工艺条件调节氧气和四氟化碳的流量比例3.3打开射频电源Ua，调节电压到工艺设定条件，真空室开始发出粉红偏白的 辉光，再调节C1和C2匹配，是入射功率最大，反射功率最小3.4刻蚀设定时间（详见工艺）到后，关闭射频电源Ua，关闭氧气和四氟化碳3.5 继续抽真空，抽到最低，关主抽开充气，反复两至三次。

3.6 2、 3号刻蚀机操作3.1 结束后，只需揿下“运行”按钮，刻蚀机即会按照预 定程序进行刻蚀，刻蚀结束后，刻蚀机自动报警3.7 打开上盖板，取出已去边的硅片，拿开上下塑料薄片，取上、下及中间（每 隔 10 片左右抽一片）的硅片, 用万用表检测硅片四个周边电阻值是否符合工艺规范之要求3.8 工作结束后，把硅片夹放回真空室，开主抽，抽一会儿真空（10 秒即可）， 关主抽，关机械泵，关射频电源和冷却水，关闭氧气和四氟化碳气瓶开关4 操作结束后，进行自检4.1 自检要求a. 刻边氧化层，距边缘距离小于5mm为优、5-8mm为良、大于8mm为差 （用钢皮尺测量）如有刻边情况大于8mm的操作人员应查找问题之所在；如果不能解决，应及时汇报b. 抽样检测的硅片的周边电阻应大于或等于5K Q如一张流程卡抽测出现 不符规范，不符规范的硅片须重刻（重刻按周边电阻大小而定具体时间）4.2 符合要求，在“流程卡”上做好记录，并流下工序；否则交工艺师处理5 备注（注意事项）5.1 操作人员必须经过高频设备操作技术学习，使用设备必须严格要求遵守操作 规程，否则易出操作事故5.2 每班人员应在设备记录本上认真填写该班作业时间，满 50 小时必须及时加 油及保养，以便检修。

5.3 每班操作人员即为该设备的机长，未征得机长同意，任何人员不得操作该设 备5.4 严禁在手动操作时，既开工作气体调节阀又开主抽5.5四氟化碳（CF4）为有毒气体，注意安全5.6 新瓶启用时，应做漏气检验5.7 放入和取出硅片夹具时必须谨慎小心，以免损伤石英器皿5.8 发生停电时，关闭各电源和气源，硅片留在刻蚀机内。