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硅太阳能电池-制造工艺作者:日期:PV的意思：它是英文单词Photovoltaic的简写，中文意思是''光生伏特"（简称''光伏”） 在物理学中，光生伏特效应（简称为光伏效应），是指光照使不均匀半导体或半导体与金属 组合的不同部位之间产生电位差的现象硅太阳能电池制造工艺流程图1、硅片切割，材料准备:工业制作硅电池所用的单晶硅材料，一般采用坩锅直拉法制的太阳级单晶硅棒，原始的 形状为圆柱形，然后切割成方形硅片（或多晶方形硅片），硅片的边长一般为10~15cm, 厚度约200~350um，电阻率约Idem的p型（掺硼）2、 去除损伤层：硅片在切割过程会产生大量的表面缺陷，这就会产生两个问题，首先表面的质量较差， 另外这些表面缺陷会在电池制造过程中导致碎片增多因此要将切割损伤层去除，一般采用 碱或酸腐蚀，腐蚀的厚度约10um3、 制绒：制绒，就是把相对光滑的原材料硅片的表面通过酸或碱腐蚀，使其凸凹不平，变得粗糙， 形成漫反射，减少直射到硅片表面的太阳能的损失对于单晶硅来说一般采用NaOH加醇 的方法腐蚀，利用单晶硅的各向异性腐蚀，在表面形成无数的金字塔结构，碱液的温度约 80度，浓度约1~2%，腐蚀时间约15分钟。

对于多晶来说，一般采用酸法腐蚀4、 扩散制结：扩散的目的在于形成PN结普遍采用磷做n型掺杂由于固态扩散需要很高的温度， 因此在扩散前硅片表面的洁净非常重要，要求硅片在制绒后要进行清洗，即用酸来中和硅片 表面的碱残留和金属杂质5、 边缘刻蚀、清洗：扩散过程中，在硅片的周边表面也形成了扩散层周边扩散层使电池的上下电极形成短 路环，必须将它除去周边上存在任何微小的局部短路都会使电池并联电阻下降，以至成为 废品目前，工业化生产用等离子干法腐蚀，在辉光放电条件下通过氟和氧交替对硅作用， 去除含有扩散层的周边扩散后清洗的目的是去除扩散过程中形成的磷硅玻璃6、 沉积减反射层：沉积减反射层的目的在于减少表面反射，增加折射率广泛使用PECVD淀积SiN，由于PECVD淀积SiN时，不光是生长SiN作为减反射膜，同时生成了大量的原子氢，这些氢原子 能对多晶硅片具有表面钝化和体钝化的双重作用，可用于大批量生产上电极N型硅PN结P型砖下电极太阳电池结构原理硅太阳电池结构示意图当光线照射太阳电池表面时，一部分光子被硅材料吸收;光子的能量传递给了硅原子， 使电子发生了越迁，成为自由电子在P-N结(pn junction)两侧集聚形成了电位差，当外 部接通电路时，在该电压的作用下，将会有电流流过外部电路产生一定的输出功率。

这个过 程的的实质是：光子能量转换成电能的过程1、太阳能光伏系统的组成和原理太阳能光伏系统由以下三部分组成：太阳电池组件；充、放电控制器、逆变器、测试 仪表和计算机监控等电力电子设备和蓄电池或其它蓄能和辅助发电设备太阳能光伏系统具有以下的特点：-没有转动部件，不产生噪音；-没有空气污染、不排放废水；-没有燃烧过程，不需要燃料；-维修保养简单，维护费用低；-运行可靠性、稳定性好；-作为关键部件的太阳电池使用寿命长，晶体硅太阳电池寿命可达到25年以上；
v/a>-根据需要很容易扩大发电规模光伏系统应用非常广泛，光伏系统应用的基本形式可分为两大类：独立发电系统和并网 发电系统应用主要领域主要在太空航空器、通信系统、微波中继站、电视差转台、光伏水 泵和无电缺电地区户用供电随着技术发展和世界经济可持续发展的需要，发达国家已经开 始有计划地推广城市光伏并网发电，主要是建设户用屋顶光伏发电系统和MW级集中型大 型并网发电系统等，同时在交通工具和城市照明等方面大力推广太阳能光伏系统的应用光伏系统的规模和应用形式各异，如系统规模跨度很大，小到0.3〜2W的太阳能庭院 灯，大到MW级的太阳能光伏电站，如3.75kWp家用型屋顶发电设备、敦煌10MW项 目。

其应用形式也多种多样，在家用、交通、通信、空间应用等诸多领域都能得到广泛的应 用尽管光伏系统规模大小不一，但其组成结构和工作原理基本相同图4-1是一个典型 的供应直流负载的光伏系统示意图其中包含了光伏系统中的几个主要部件： 九光伏组件方阵：由太阳电池组件（也称光伏电池组件）按照系统需求串、并联而成，在 太阳光照射下将太阳能转换成电能输出，它是太阳能光伏系统的核心部件九蓄电池：将太阳电池组件产生的电能储存起来，当光照不足或晚上、或者负载需求大于 太阳电池组件所发的电量时，将储存的电能释放以满足负载的能量需求，它是太阳能光伏系 统的储能部件目前太阳能光伏系统常用的是铅酸蓄电池，对于较高要求的系统，通常采用 深放电阀控式密封铅酸蓄电池、深放电吸液式铅酸蓄电池等九控制器：它对蓄电池的充、放电条件加以规定和控制，并按照负载的电源需求控制太阳 电池组件和蓄电池对负载的电能输出，是整个系统的核心控制部分随着太阳能光伏产业的 发展，控制器的功能越来越强大，有将传统的控制部分、逆变器以及监测系统集成的趋势， 如AES公司的SPP和SMD系列的控制器就集成了上述三种功能九逆变器：在太阳能光伏供电系统中，如果含有交流负载，那么就要使用逆变器设备，将 太阳电池组件产生的直流电或者蓄电池释放的直流电转化为负载需要的交流电。

太阳能光伏供电系统的基本工作原理就是在太阳光的照射下，将太阳电池组件产生的电能通 过控制器的控制给蓄电池充电或者在满足负载需求的情况下直接给负载供电，如果日照不足 或者在夜间则由蓄电池在控制器的控制下给直流负载供电，对于含有交流负载的光伏系统而 言，还需要增加逆变器将直流电转换成交流电光伏系统的应用具有多种形式，但是其基本 原理大同小异对于其他类型的光伏系统只是在控制机理和系统部件上根据实际的需要有所 不同，下面将对不同类型的光伏系统进行详细地描述2、光伏系统的分类与介绍一般将光伏系统分为独立系统、并网系统和混合系统如果根据光伏系统的应用形式、 应用规模和负载的类型，对光伏供电系统进行比较细致的划分，可将光伏系统分为如下六种 类型：小型太阳能供电系统（Small DC）；简单直流系统（Simple DC）；大型太阳能供电 系统（Large DC）；交流、直流供电系统（AC/DC）；并网系统（Utility Grid Connect）； 混合供电系统（Hybrid）；并网混合系统多晶硅薄膜材料同时具有单晶硅材料的高迁移率及非晶硅材料的可大面积、低成本制备的优 点因此，对于多晶硅薄膜材料的研究越来越引起人们的关注，多晶硅薄膜的制备工艺可分为两大类：一类是高温工艺，制备过程中温度高于600°C,衬底使用昂贵的石英，但制备工 艺较简单。

另一类是低温工艺，整个加工工艺温度低于600C，可用廉价玻璃作衬底，因 此可以大面积制作，但是制备工艺较复杂目前制备多晶硅薄膜的方法主要有如下几种：低压化学气相沉积（LPCVD）这是一种直接生成多晶硅的方法LPCVD是集成电路中所用多晶硅薄膜的制备中普遍 采用的标准方法，具有生长速度快，成膜致密、均匀、装片容量大等特点多晶硅薄膜可采 用硅烷气体通过LPCVD法直接沉积在衬底上，典型的沉积参数是：硅烷压力为13.3〜 26.6Pa，沉积温度Td = 580〜630C，生长速率5〜10nm/min由于沉积温度较高，如 普通玻璃的软化温度处于500〜600C，则不能采用廉价的普通玻璃而必须使用昂贵的石 英作衬底LPCVD法生长的多晶硅薄膜，晶粒具有择优取向，形貌呈“V字形，内含高密度的微 挛晶缺陷，且晶粒尺寸小，载流子迁移率不够大而使其在器件应用方面受到一定限制虽然 减少硅烷压力有助于增大晶粒尺寸，但往往伴随着表面粗糙度的增加，对载流子的迁移率与 器件的电学稳定性产生不利影响固相晶化（SPC）所谓固相晶化，是指非晶固体发生晶化的温度低于其熔融后结晶的温度这是一种间接 生成多晶硅的方法，先以硅烷气体作为原材料，用LPCVD方法在550C左右沉积a-Si:H 薄膜，然后将薄膜在600C以上的高温下使其熔化，再在温度稍低的时候出现晶核，随着 温度的降低熔融的硅在晶核上继续晶化而使晶粒增大转化为多晶硅薄膜。

使用这种方法，多 晶硅薄膜的晶粒大小依赖于薄膜的厚度和结晶温度退火温度是影响晶化效果的重要因素， 在700C以下的退火温度范围内，温度越低，成核速率越低，退火时间相等时所能得到的 晶粒尺寸越大；而在700C以上，由于此时晶界移动引起了晶粒的相互吞并，使得在此温 度范围内，晶粒尺寸随温度的升高而增大经大量研究表明，利用该方法制得的多晶硅晶粒 尺寸还与初始薄膜样品的无序程度密切相关，T.Aoyama等人对初始材料的沉积条件对固 相晶化的影响进行了研究，发现初始材料越无序，固相晶化过程中成核速率越低，晶粒尺寸 越大由于在结晶过程中晶核的形成是自发的，因此，SPC多晶硅薄膜晶粒的晶面取向是 随机的相邻晶粒晶面取向不同将形成较高的势垒，需要进行氢化处理来提高SPC多晶硅 的性能这种技术的优点是能制备大面积的薄膜，晶粒尺寸大于直接沉积的多晶硅可进行 原位掺杂，成本低，工艺简单，易于形成生产线由于SPC是在非晶硅熔融温度下结晶， 属于高温晶化过程，温度高于600C，通常需要1100C左右，退火时间长达10个小时以 上，不适用于玻璃基底，基底材料采用石英或单晶硅，用于制作小尺寸器件，如液晶光阀、 摄像机取景器等。

准分子激光晶化（ELA）激光晶化相对于固相晶化制备多晶硅来说更为理想,其利用瞬间激光脉冲产生的高能量 入射到非晶硅薄膜表面，仅在薄膜表层100nm厚的深度产生热能效应，使a-Si薄膜在瞬 间达到1000C左右，从而实现a-Si向p-Si的转变在此过程中，激光脉冲的瞬间（15〜 50ns）能量被a-Si薄膜吸收并转化为相变能，因此，不会有过多的热能传导到薄膜衬底， 合理选择激光的波长和功率，使用激光加热就能够使a-Si薄膜达到熔化的温度且保证基片 的温度低于450C,可以采用玻璃基板作为衬底，既实现了 p-Si薄膜的制备，又能满足LCD 及OEL对透明衬底的要求其主要优点为脉冲宽度短（15〜50ns）,衬底发热小通过选 择还可获得混合晶化，即多晶硅和非晶硅的混合体准分子激光退火晶化的机理：激光辐射 到a-Si的表面，使其表面在温度到达熔点时即达到了晶化域值能量密度Eca-Si在激光 辐射下吸收能量，激发了不平衡的电子-空穴对，增加了自由电子的导电能量，热电子空穴 对在热化时间内用无辐射复合的途径将自己的能量传给晶格，导致近表层极其迅速的升温，由于非晶硅材料具有大量的隙态和深能级，无辐射跃迁是主要的复合过程，因而具有较高的 光热转换效率，若激光的能量密度达到域值能量密度Ec时，即半导体加热至熔点温度，薄 膜的表面会熔化，熔化的前沿会以约10m/s的速度深入材料内部，经过激光照射，薄膜形 成一定深度的融层，停止照射后，融层开始以108〜1010K/S的速度冷却，而固相和液相 之间的界面将以1〜2m/s的速度回到表面，冷却之后薄膜晶化为多晶，随着激光能量密度 的增大，晶粒的尺寸增大，当非晶薄膜完全熔化时，薄膜晶化为微晶或多晶，若激光能量密 度小于域值能量密度Ec，即所吸收的能量不足以使表面温度升至熔点,则薄膜不发生晶化。

一般情况下,能量密度增大，晶粒增大，薄膜的迁移率相应增大，当Si膜接近全部熔化时， 晶粒最大但能量受激光器的限制，不能无限增大，太大的能量密度反而令迁移率下降激 光波长对晶化效果影响也很大，波长越长，激光能量注入Si膜越深，晶化效果越好ELA法制备的多晶硅薄膜晶粒大、空间选择性好，掺杂效率高、晶内缺陷少、电学特性 好、迁移率高达到400cm2/v.s,是目前综合性能最好的低温多晶硅薄膜工艺成熟度高， 已有大型的生产线设。