椭偏仪系列针对研发领域薄膜材料分析.doc

椭偏仪系列，针对研发领域薄膜、材料分析光谱范围 : 190-2500 nmSENresearch 宽波段光谱椭偏仪系列针对满足现代研究的需求， 为任何应用都能够提供出色的测量速度和精确度该系列光谱椭偏仪能够测量薄膜厚度，折射率，吸收系数，并能够描述材料性质，如材料组分、折射率梯度、表面和界面粗糙层、各向异性材料和多层膜SENresearch 光谱椭偏仪能够分析并不理想的样品，如退偏效应，非均匀样品，散射和背板反射SENresearch 由 SpectraRay II 软件操作 , 完善的软件能够测量数据，建模，拟合并作出椭偏测量、反射 /透射测量的结果报告research 系列各型号的光谱范围 :步进扫描分析器工作模式，超消色差单色仪，电脑控制起偏器， UV-VIS 波段快速二极管 /CCD 阵列探测器和 NIR 波段干涉仪调制探测器能提供快速测量和高信噪比， 并为任何测量在全部 psi,delta 范围（ 0-90 deg(psi) and 0 –360 deg (delta).）都提供最高的测量精度SENresearch 系列光谱椭偏仪能够测量反射光偏振状态，修正由于非均匀样品、粗糙表面、聚焦角度所导致的退偏效应。

并能够分析各向异性样品和材料SENTECH 先进的地貌图扫描选项，支持对复杂多层膜样品在全波段快速测量并分析其均匀性（最小每点 5 秒）数据可按照设定的地图图案表现为 2D-, 3D- 或等高线图，并能够进行全面统计分析SENresearch 能够测量反射率、透射率光度测量数据可通过 SpectraRay II 软件分析可选自动角度计，提供更大范围入射角度 (20-90 deg)可选低温保持器用于温度控制测量SENresearch 技术指标 :光谱范围 : (* 括号中表示可扩展光谱范围)SE 800:(290) 350–850 nmSE 850:(290) 350–1700 (2500) nmSE 800 DUV190 –950 nmSE 850 DUV190 –1700 (2500) nmSE 850 Z(290) 350–1700 nm起偏器 / 分析器 :电机驱动，步进扫描分析器操作模式补偿器 :超级消色差补偿器光源 :Xe 灯 , 氘灯 , 卤素钨灯 (UV-VIS),卤素钨灯 (NIR)探测单元 :二极管阵列 / CCD 阵列 (UV-VIS), FT-IR光谱仪 (NIR)样品校准 :自动对准镜，高精度校准高度、倾斜度样品尺寸 :最大 300 mm软件 :SpectraRay II选项 :角度计 :电机驱动Mapping地貌图扫描:电机驱动，从50 x 50 mm2至300 x 300 mm2微细光斑:200 μm光斑直径，或可定制更小值低温保持器4 K–700 K液体膜测量单元。