破坏试验的具体做法与要求.doc

破坏试验的具体做法与要求破坏试验，也称为强制降解试验（stressing test），在人为设定的特殊条件下，如酸、碱、氧化、高温、光照等，引起药物的降解，通过对降解产物的测定，验证检测方法的可行性，同时分析药物可能的降解途径和降解机制破坏性试验的设计常结合具体药物的特点，选择合适的条件，使药物在每种环境下尽可能都有一定量的降解，并根据剂型的特点充分分析药物的降解途径和降解机制，保证试验的意义对于相对稳定的药物，可增强破坏的强度，至少在 1 种条件下的降解达到 10%，很少有药物对所有条件都稳定1.酸破坏试验 一般选择 0.1～1mol/L 的盐酸，在室温或加热条件下进行考察一般配制 2 倍浓度溶液，测定时以方便用等浓度的碱溶液调节 pH 值至中性2.碱破坏试验 一般选择 0.1～1 mol/L 的氢氧化钠溶液，在室温或加热条件下进行考察一般配制 2 倍浓度溶液，测定时以方便用等浓度的酸溶液调节 pH 值至中性3.高温破坏试验（热破坏） 分别在固体和溶液状态下进行考察固体一般 60℃或者 80℃下15～30 天，溶液可水浴或者 130℃烘箱下放置数小时4.光破坏试验 分别在固体和溶液状态下进行考察（考察 15～30 天）。

5.氧化破坏试验 主要在溶液状态下进行考察，氧化剂可采用饱和的氧气或不同浓度的过氧化氢（双氧水），分别在室温或加热条件下进行考察需要同法进行空白试验，如为原料破坏可仅进行氧化破坏空白试验结束后需要报告得出明确的结论：药品在各种条件下的稳定特性、降解途径与降解产物，有关物质分析方法是否可用于检查降解产物等破坏试验常规要求：1.对于采用 HPLC 法测定降解产物时，以主成分计算一般降解 10％即可并需要采用有效的方法对降解产物进行检测，需要报告测定的回收量，通常应达到 90％左右，以证明检测方法的有效性2.对于破坏性试验时降解量较大的降解产物，建议结合稳定性研究中加速试验和长期试验的具体杂质数据，参考 ICH 对新原料药中杂质的规定（每日服用最大剂量不超过 2 克时，鉴定阈值为0.10％；每日服用最大剂量超过 2 克时，鉴定阈值为 0.05％），必要时进行定性分析，并作为已知杂质，根据安全性数据，采用已知杂质对照，确定合理的限度，订入质量标准不能采用已知杂质进行对照时，可通过测定降解产物、主成分在测定波长处的吸收系数，分析两者的差异若两者吸收系数相差较大时，建议采用响应因子校正后进行有效控制；如果两者吸收系数相差较小，建议采用自身对照法或峰面积归一化法进行有效控制。

3. 破坏性试验产生的降解产物的个数比较多，采用 HPLC 法测定时，需考虑主成分与降解产物之间、降解产物相互之间的分离度，保证降解产物峰与主峰、降解产物峰之间有良好的分离度另外，对于原料药，分离度符合要求也应考虑到主药与起始原料、各合成中间体是否有良好的分离度；对于制剂，应注意辅料、辅料降解产物的干扰需要值得一提的是色谱条件的确定通常以最难分离的两个降解产物或降解产物与主成分之间的分离度符合要求作为依据之一 4.对于创新药物的破坏性试验来说，峰纯度分析非常重要，一是可以了解降解产物的特性；二是可以有效地检出和控制杂质检测峰纯度通常采用二级管阵列检测器或者液质连用技术分析测定各色谱峰的纯度，说明在主峰中、各降解产物峰中有没有包含其它峰简单地通过观察峰形判断峰的纯度没有说服力5.如辅料破坏出峰，不能从样品破坏峰中扣除，溶剂峰除外（譬如双氧水的峰）参考案例：破坏试验对本品进行酸破坏、碱破坏、氧化破坏、高温破坏及光破坏试验，了解本品的降解途径，同时考察破坏产物峰与主峰的分离情况，以验证方法的专属性取本品 10 片，研细，备用；取按处方比例混合的辅料适量，备用酸破坏：精密称取本品细粉适量（约相当于 XXX15mg） ，置 30ml 刻度试管中，加入 1mol/L 盐酸溶液 15ml，置水浴中加热 5 小时，调节 pH 值至中性，加流动相稀释至 30ml，滤过，取续滤液作为酸破坏溶液。

碱破坏：精密称取本品细粉适量（约相当于 XXX15mg） ，置 30ml 刻度试管中，加入 1mol/L 氢氧化钠溶液 15ml，置水浴中加热 5 小时，调节 pH 值至中性，加流动相稀释至 30ml，滤过，取续滤液作为碱破坏溶液氧化破坏：精密称取本品细粉适量（约相当于 XXX15mg），置 30ml 刻度试管中，加入 5%双氧水溶液 5ml，置水浴中加热 1 小时，加流动相稀释至 30ml，滤过，取续滤液作为氧化破坏溶液高温破坏：精密称取本品细粉适量（约相当于 XXX15mg） ，置 30ml 刻度试管中，加水 15ml，置水浴中加热 5 小时，加水稀释至 30ml，滤过，取续滤液作为溶液高温破坏溶液；取本品细粉适量，于60℃下放置 15 天，精密称取适量，加流动相制成每 1ml 约含 0.5mg 的溶液，滤过，取续滤液作为固体高温破坏溶液光破坏：精密称取本品细粉适量（约相当于 XXX15mg） ，置 30ml 刻度试管中，加水 15ml，置4500LX 照度下照射 15 天，加流动相稀释至 30ml，滤过，取续滤液作为溶液光破坏溶液；取本品细粉适量，置 4500LX 照度下照射 15 天，精密称取约 10mg，置 30ml 刻度试管中，加流动相 30ml，超声处理 10 分钟，滤过，取续滤液作为固体光破坏溶液。

同法进行辅料空白破坏试验，分别精密量取各破坏后溶液各 20μl，注入色谱仪，记录色谱图色谱图见图 13～26，结果见表 1表 1 XXXX 破坏试验结果破坏条件主峰保留时间（min）面积归一化法含量（%）降解产物峰保留时间（分）回收量（%）与主峰相邻峰分离度酸破坏 5.720 98.5 3.378、4.471、14.284 98.2 3.02碱破坏 5.693 95.2 3.368、4.683、11.191 95.2 3.01氧化破坏 5.625 85.53.366、4.693、7.008、11.124、14.52697.8 2.49溶液热破坏 5.721 99.3 3.378、4.698 99.1 3.89固体热破坏 5.621 99.5 3.330、4.655 99.3 2.86溶液光破坏 5.648 99.5 3.366、4.615 99.2 3.09固体光破坏 5.721 99.8 3.365、4.663 99.5 2.99试验结果表明，本品在酸、碱、氧化、高温、光照条件下均有杂质降解，尤其在氧化条件下降解程度最大，各破坏产物峰与主峰分离良好，拟定的色谱条件具有较强的专属性，辅料在各条件下均不干扰测定，可用于本品有关物质检查。