现代材料分析方法试习题及答案.doc

一、单项选择题（每题 2 分，共 10 分） 1．成分和价键分析手段包括【 b 】 （a）WDS、能谱仪（EDS）和 XRD （b）WDS、EDS 和 XPS （c）TEM、WDS 和 XPS （d）XRD、FTIR 和 Raman 2．分子结构分析手段包括【 a 】 （a）拉曼光谱（Raman）、核磁共振（NMR）和傅立叶变换红外光谱（FTIR） （b） NMR、FTIR 和 WDS （c）SEM、TEM 和 STEM（扫描透射电镜） （d） XRD、FTIR 和 Raman 3．表面形貌分析的手段包括【 d 】 （a）X 射线衍射（XRD）和扫描电镜（SEM） (b) SEM 和透射电镜（TEM） (c) 波谱仪（WDS）和 X 射线光电子谱仪（XPS） (d) 扫描隧道显微镜（STM）和SEM 4．透射电镜的两种主要功能：【 b 】 （a）表面形貌和晶体结构 （b）内部组织和晶体结构 （c）表面形貌和成分价键 （d）内部组织和成分价键 5．下列谱图所代表的化合物中含有的基团包括：【 c 】 （a）–C-H、–OH 和–NH2 (b) –C-H、 和–NH2, (c) –C-H、和-C=C- (d) –C-H、 和 CO 二、判断题（正确的打√，错误的打×，每题 2 分，共 10 分）1．透射电镜图像的衬度与样品成分无关。

（ × ） 2．扫描电镜的二次电子像的分辨率比背散射电子像更高 （ √ ） 3．透镜的数值孔径与折射率有关 （ √ ） 4． 放大倍数是判断显微镜性能的根本指标 （ × ）5．在样品台转动的工作模式下，X射线衍射仪探头转动的角速度是样品转动角速度的二倍 √ ）三、简答题（每题 5 分，共 25 分） 1. 扫描电镜的分辨率和哪些因素有关为什么 和所用的信号种类和束斑尺寸有关， 因为不同信号的扩展效应不同，例如二次电子产生的区域比背散射电子小束斑尺寸越小，产生信号的区域也小，分辨率就高 2．原子力显微镜的利用的是哪两种力，又是如何探测形貌的 范德华力和毛细力 以上两种力可以作用在探针上，致使悬臂偏转,当针尖在样品上方扫描时，探测器可实时地检测悬臂的状态，并将其对应的表面形貌像显示纪录下来 3.在核磁共振谱图中出现多重峰的原因是什么 多重峰的出现是由于分子中相邻氢核自旋互相偶合造成的。

在外磁场中，氢核有两种取向，与外磁场同向的起增强外场的作用，与外磁场反向的起减弱外场的作用根据自选偶合的组合不同，核磁共振谱图中出现多重峰的数目也有不同，满足“n+1”规律 4． 什么是化学位移，在哪些分析手段中利用了化学位移 同种原子处于不同化学环境而引起的电子结合能的变化，在谱线上造成的位移称为化学位移在 XPS、俄歇电子能谱、核磁共振等分析手段中均利用化学位移拉曼光谱的峰位是由什么因素决定的, 试述拉曼散射的过程 拉曼光谱的峰位是由分子基态和激发态的能级差决定的 在拉曼散射中，若光子把一部分能量给样品分子，使一部分处于基态的分子跃迁到激发态，则散射光能量减少，在垂直方向测量到的散射光中，可以检测到频率为（ν0 - Δν)的谱线，称为斯托克斯线相反，若光子从样品激发态分子中获得能量，样品分子从激发态回到基态，则在大于入射光频率处可测得频率为（ν0 + Δν)的散射光线，称为反斯托克斯线 四、问答题 （10 分） 说明阿贝成像原理及其在透射电镜中的具体应用方式答：阿贝成像原理（5 分）：平行入射波受到有周期性特征物体的散射作用在物镜的后焦面上形成衍射谱，各级衍射波通过干涉重新在像平面上形成反映物的特征的像。

在透射电镜中的具体应用方式（5 分）利用阿贝成像原理，样品对电子束起散射作用，在物镜的后焦面上可以获得晶体的衍射谱，在物镜的像面上形成反映样品特征的形貌像当中间镜的物面取在物镜后焦面时, 则将衍射谱放大，则在荧光屏上得到一幅电子衍射花样；当中间镜物面取在物镜的像面上时，则将图像进一步放大,这就是电子显微镜中的成像操作五、计算题（10 分） 用 Cu Kα X 射线（λ=）的作为入射光时，某种氧化铝的样品的 XRD 图谱如下，谱线上标注的是 2θ的角度值，根据谱图和 PDF 卡片判断该氧化铝的类型，并写出 XRD 物相分析的一般步骤 答：确定氧化铝的类型（5 分） 根据布拉格方程 2dsinθ=nλ，d=λ/(2sinθ) 对三强峰进行计算：,,,与卡片 10-0173 α-Al2O3符合，进一步比对其他衍射峰的结果可以确定是 α-Al2O3 XRD 物相分析的一般步骤5 分） 测定衍射线的峰位及相对强度 I/I1： 再根据 2dsinθ=nλ求出对应的面间距 d 值 (1) 以试样衍射谱中三强线面间距 d 值为依据查 Hanawalt 索引 (2) 按索引给出的卡片号找出几张可能的卡片，并与衍射谱数据对照。

(3) 如果试样谱线与卡片完全符合，则定性完成六、简答题（每题5 分，共 15 分） 1．透射电镜中如何获得明场像、暗场像和中心暗场像 答：如果让透射束进入物镜光阑，而将衍射束挡掉，在成像模式下，就得到明场象如果把物镜光阑孔套住一个衍射斑，而把透射束挡掉，就得到暗场像，将入射束倾斜，让某一衍射束与透射电镜的中心轴平行，且通过物镜光阑就得到中心暗场像 2． 简述能谱仪和波谱仪的工作原理答：能量色散谱仪主要由 Si(Li)半导体探测器、在电子束照射下，样品发射所含元素的荧光标识 X 射线，这些 X 射线被 Si(Li)半导体探测器吸收，进入探测器中被吸收的每一个 X 射线光子都使硅电离成许多电子—空穴对，构成一个电流脉冲，经放大器转换成电压脉冲，脉冲高度与被吸收的光子能量成正比最后得到以能量为横坐标、强度为纵坐标的 X 射线能量色散谱 在波谱仪中，在电子束照射下，样品发出所含元素的特征 x 射线若在样品上方水平放置一块具有适当晶面间距 d 的晶体，入射 X 射线的波长、入射角和晶面间距三者符合布拉格方程时，这个特征波长的 X 射线就会发生强烈衍射波谱仪利用晶体衍射把不同波长的 X 射线分开，即不同波长的 X 射线将在各自满足布拉格方程的 2θ 方向上被检测器接收，最后得到以波长为横坐标、强度为纵坐标的 X射线能量色散谱。

3． 电子束与试样物质作用产生那些信号？说明其用途1）二次电子当入射电子和样品中原子的价电子发生非弹性散射作用时会损失其部分能量 (约 30～50 电子伏特)，这部分能量激发核外电子脱离原子，能量大于材料逸出功的价电子可从样品表面逸出，变成真空中的自由电子，即二次电子二次电子对试样表面状态非常敏感，能有效地显示试样表面的微观形貌 （2）背散射电子背散射电子是指被固体样品原子反射回来的一部分入射电子既包括与样品中原子核作用而形成的弹性背散射电子，又包括与样品中核外电子作用而形成的非弹性散射电子利用背反射电子作为成像信号不仅能分析形貌特征，也可以用来显示原子序数衬度，进行定性成分分析 （3）X 射线当入射电子和原子中内层电子发生非弹性散射作用时也会损失其部分能量(约几百电子伏特)，这部分能量将激发内层电子发生电离，失掉内层电子的原子处于不稳定的较高能量状态，它们将依据一定的选择定则向能量较低的量子态跃迁，跃迁的过程中将可能发射具有特征能量的 x 射线光子由于 x 射线光子反映样品中元素的组成情况，因此可以用于分析材料的成分七、问答题 1．根据光电方程说明 X 射线光电子能谱（XPS）的工作原理。

5 分) 以Mg Kα射线(能量为 eV)为激发源，由谱仪（功函数 4eV）测某元素电子动能为，求此元素的电子结合能5 分）答：在入射X光子的作用下，核外电子克服原子核和样品的束缚，逸出样品变成光电子入射光子的能量hυ被分成了三部分：（1）电子结合能EB；（2）逸出功（功函数）ФS和（3）自由电子动能Ek hυ= EB + EK +ФS因此，如果知道了样品的功函数，则可以得到电子的结合能X 射线光电子能谱的工资原理为，用一束单色的 X 射线激发样品，得到具有一定动能的光电子光电子进入能量分析器，利用分析器的色散作用，可测得起按能量高低的数量分布由分析器出来的光电子经倍增器进行信号的放大，在以适当的方式显示、记录，得到 XPS 谱图，根据以上光电方程，求出电子的结合能，进而判断元素成分和化学环境 此元素的结合能EB = hυ－ EK －ФS＝面心立方结构的结构因子和消光规律是什么（8 分） 如果电子束沿面心立方的【100】晶带轴入射，可能的衍射花样是什么，并对每个衍射斑点予以标注（7 分） 现代材料分析测试期末试题2 一、 填空题 （每空1分 共20分） 1. .XRD、SEM、TEM、EPMA、DTA分别代表 、 、 和 分析方法。

2. X 射线管中，焦点形状可分为 和 ，适合于衍射仪工作的是 3. 电磁透镜的像差有 、 、 和 4. 电子探针是一种 分析和 分析相结合的微区分析 5. 红外光谱图的横坐标是 、纵坐标是 6. 表面分析方法有 、 、 和 分析四种方法 现代材料分析方法2[答案] 一、填空题（每空1分 共20分） 1. .XRD、SEM、TEM、EPMA、DTA分别代表 X射线衍射分析 、 扫描电子显微分析 、 透射电子显微分析 、 电子探针分析 和 差热分析 分析方法 2. X 射线管中，焦点形状可分为 点焦点 和 线焦点 ，适合于衍射仪工作的是 线焦点 3. 电磁透镜的像差有 球差 、 色差 、 轴上像散 和 畸变 4. 电子探针是一种 显微 分析和 成分 分析相结合的微区分析 5. 红外光谱图的横坐标是 波长（波数） 、纵坐标是 透过率（吸光度） 。

6. 表面分析方法有 俄歇电子能谱 、 紫外电子能谱 、光电子能谱 和 离子探针显微分析 四种方法 二、 名词解释 名词解释 名词解释 名词解释（每小题4分 共20分） 1. 标识X射线和荧光X射线： 标识X射线：只有当管电压超过一定的数值时才会产生，且波长与X射线管的管电压、管电流等工作条件无关，只决定于阳极材料，这种X射线称为标识X射线 荧光X射线：因为光电吸收后，原子处于高能激发态，内层出现了空位，外层电子往此跃迁，就会产生标识X射线这种由X射线激发出的X射线。