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工业英文专有名词介绍 - 图文 英文專出名詞介紹1. General (一般專出名詞)英 文 專 有 名 詞 LCD (Liquid Crystal Display) Glass, substrate or glass substrate TFT(Thin Film Transistor) Panel Array Cell 中 文 說 明〔數字表示有詳註〕 液晶顯示器*註. 玻璃基版*註. 薄膜電晶體*註. 面板 排列,指在玻璃基板上做TFT的製程 LCD-Array 液晶填充製程…….分為 LCD-FEOL〔Cell前段〕 LCD-BEOL〔Cell後段含Cell Tester〕 Module Monitor 模組,指後段組裝製程 LCM 監視器 像素*註. Pixel XGA: eXtended Graphics Array=1024*768Pixels PS. 像素越多表示解析度越高 SXGA: Super XGA=1280*1024Pixels Computer Notebook RGB (Red, Green, Blue) PM (Preventive Maintenance) Quality Standard Material Yield CIM (Computer Integration Manufacturing) FA (Factory Automation) Exit Precaution Warning Emergency Alarm 電腦 筆記型電腦〔簡稱為NB〕 指紅綠藍三原色 預防保養 品質 標準 (指作業標準或品質指標) 材料 良率 電腦整合製造〔指以電腦系統整合製造流程〕 工廠自動化 出口 預防措施 警告 緊急 警報 2. Clean Room (潔淨室專出名詞)英 文 專 有 名 詞 Clean room Particle HEPA (High Efficient Particulate Air) filter Contamination Temperature (TEMP) Humidity Pressure UPW (Ultra-Pure Water) DIW (De-Ionized Water) IPA (Isopropyl Alcohol) Sticky mat Cleanliness ESD (Electro-static Discharge) Laminar flow Turbulent flow Alcohol Acetone Particle Dust Gowning room Raised floor (grating floor) Air shower Prohibit Clean suit (bunny suit, dust-free garment) Glove Hairnet Hood Mask Clean shoes (dust-free shoes, boots) 潔淨室***註. 微粒子***註. 高效能粒子空氣過濾網 污染 溫度 濕度 壓力 超純水 去離子水 異丙醇 腳踏黏墊***註. 潔淨度 靜電破壞***註. 層流〔流體力學名詞〕 擾流〔流體力學名詞〕 酒精 丙酮 微粒子 灰塵 換衣間***註. 高架地板***註. 氣浴室***註. 制止 無塵衣***註. 手套 網帽 頭罩 口罩 無塵鞋 中 文 說 明 3. Factory Automation (工廠自動化專出名詞)英 文 專 有 名 詞 Vehicle AGV (Automatic Guided Vehicle) MGV (Manual Guided Vehicle) 自動搬運車 人力搬運車 中 文 說 明 運輸工具或載具 Clean lifter LIM (Linear Induction Motor) Carrier OHS (Overhead Shuttle) Stocker (clean depot) Battery Bay Bumper Charger Controller Conveyor Crane FFU (Fan Filter Unit) Host I/O (Input / Output) Inter-bay Intra-bay IR (Infra-Red) IRIF(Infra-Red InterFace) Load Unload Magnetic tape POSEIDON Retrieve RTM (Rotary Transfer Machine) SCARA arm Reset Transportation 天井傳送車 線性感應馬達傳送載具 天車或稱軌道車 存放Cassette(架子)的暫存區 電池 作業區 保險槓 充電器 限制器 輸送帶 吊車〔在Stocker內〕 風扇過濾器 主機 輸入/輸出 作業區和作業區之間 作業區之內 紅外線 紅外線介面 進料 卸貨 AGV路徑所运用的磁條 海神生產作業系統 【電腦】檢索,擷取(資料) 旋轉傳送機 AGV之傳送手臂 重新設定 傳輸 *註.OPI(Operation POSEIDON Instruction)海神生產作業系統專出名詞介紹英 文 專 有 名 詞 Recipe Stock out Request Transfer Instruction Select Cancel Operation 程式,製程參數 將Cassette取出 請求,要求 傳送,運送 吩咐,指令 選擇 取消 作業,操作 中 文 說 明 Support Process Start Comp. Batch Lot ID (Identity) Sheet Chip Inspection Defect Production Hold Release Equipment Tool WIP (Work In Process) Maintenance Cassette Empty Reserve Report Scrap Rework Log on Log off Note 支援 製程 開始 Completion的縮寫,意指完成 批量 指生產線上的在製品或產品,簡稱「貨」 識別碼(如Lot ID or Chip ID) 片(Array區玻璃基版計數單位)***註. 片(Cell區玻璃計數單位)***註. 檢驗 缺陷 生產 留置在當站製程〔如有品質問題時〕 將hold住的貨放行,釋出 設備〔簡稱為EQP〕 工具,機台 在製品〔製程在製品〕 維修保養 裝在製品的架子***註. 空的 預約 報告 報廢 重工 登帳 除帳 註解 5. Array段製程專出名詞介紹英 文 專 有 名 詞 Material Metal Target MoW (Moly-tungsten) Mo (Molybdenum) ITO (Indium Tin Oxide) Al (Aluminum) AlNd(Aluminum and Neodymium Alloy) Reticle or Mask Detergent (LH-300) LAL-50 O3〔Ozone〕 NBA (1-butyl Acetate) Resist or Photo Resist HMDS AC-1 TMAH (供應商型號為KTM-25) Oxalic Acid (H2C2O4) DHF ITO-Etchant BHF Al-Etchant IPA 材料 金屬 靶 鎢化鉬 鉬 銦錫氧化物 鋁 鋁和釹的合金以上皆為濺鍍機金屬靶的材料之一 光罩 界面活性劑的一種〔清洗機用來清洗玻璃外表用LH-300為供應商型號〕 含NH4F與HF，為清洗機用來清洗玻璃外表氧化層的化學溶液 臭氧，主要為各製程用來去除有機物的污染或殘留 乙酸正丁酯，主要用來清洗旋轉塗佈光阻時殘留在玻璃邊緣的光阻液 光阻〔簡稱PR〕 Hexamethyldisilazane的簡寫，為一種化學中間體，用以增加光阻塗佈時對晶片外表之附著力 帶靜電防止劑〔ESD-Preventer〕，在上光阻機內运用，防止靜電產生，破壞玻璃元件 Tetra-Methyl Ammonium Hydroxide的簡寫，為廠內所运用之顯影液 草酸，濕蝕刻機中用來蝕刻5PEP中的a-ITO膜 成份為49%氫氟酸HF，主要為濕蝕刻機中用來蝕刻7PEP中的SiNx膜 成份中含鹽酸HCl及硝酸HNO3，主要用來蝕刻7PEP中的Poly-ITO 成份中含氟化銨NH4F及HF，主要用來蝕刻7PEP中的SiON 成份中含乙酸CH3COOH、磷酸H3PO4及硝酸HNO3，主要用來蝕刻Mo/Al/Mo的沈積層 異丙醇 Isopropyl Alcohol的簡稱，主要用來作為設中 文 說 明備擦拭液，在去光阻製程中亦用來去除玻璃基板上的有機殘留物〔如光阻或去光阻液〕 N-300 (Process) Gas SiH4 NH3 N2O PH3 N2 H2 NF3 Kr Ar O2 BCl3 SF6 He Cl2 HCl CF4 Equipment Vender Cleaner CVD (Chemical Vapor Deposition) Sputter Coater Pre-bake Stepper Exposure Backside-Exposure 去光阻液，N-300為廠商型號，成份為單乙醇銨與單丁醚的混合物 (製程)氣體…目前大多數種類的氣體，多為供应CVD，Sputter及乾蝕刻電漿源之用 矽甲烷……製程氣體〔洩漏有爆炸危險〕 氨……製程氣體 笑氣……製程氣體 磷化氫……製程氣體 氮氣……製程氣體，常用為破真空Vent或吹乾的媒介 氫氣……製程氣體 氟化氮……製程氣體，常用為去除CVD反應室壁沈積矽Si媒介 氪氣……製程氣體，用來轟擊濺鍍機上的金屬靶 氰氣……製程氣體，用來轟擊濺鍍機上的金屬靶或常用為加熱設備的熱傳媒介 常用來作電漿的根本組成， 氯化硼……製程氣體，在乾蝕刻中用以作為蝕刻AlNd的電漿源 氟化硫……製程氣體，常用的主要乾蝕刻電漿源以為供应蝕刻主原料氟的來源 氩氣……製程氣體，混合在其它製程氣體中，共同形成電漿源，使電漿組成分佈均勻 氯氣……製程氣體 氯化氫……製程氣體，蝕刻n+時的電漿源之一 四氟化碳……製程氣體，常用的主要乾蝕刻電漿源以為供应蝕刻主原料氟的來源 機台(儀器) 廠商 清洗機***註. 化學氣相沉積***註. 濺鍍機***註. 上光阻機***註. 預烘***註. 步進式曝光機***註. 曝光 反面曝光 刻號機，廠內局部的顯影機具有此功能，將玻璃基Titler 板的Chip ID, Glass ID及Veri-Code曝出，以為人員及機台辦認之用 簡稱ER，指在旋轉塗佈光阻後，用NBA洗淨殘留在玻璃邊緣的光阻 邊緣曝光，指在顯影前將玻璃基板邊緣光阻較厚的局部再曝光，以防曝光量缺乏，造成光阻在顯影後殘留 Developer Hard bake Etcher Wet Etch Dry Etch Plasma RIE (Reactive ion etching) PE (Plasma Etch) ICP (Inductive Coupled Plasma) Stripper O3 Asher Tester Anneal AMSR (Sheet Resistance) ATOS (Open/Short Tester) ATTG (TEG Tester or TFT Device Measurement) ATAR (Array Tester) ALSR (Laser Repair) ANNI (Anneal Oven) AMGI (Particle Counter) AMOR; AMKL (Pattern Inspection) AMSP (Surface Profiler) AMOV (CD/Overlay) AMSH (Microscope) 顯影機***註。