机械设备公司绩效指标方案_范文.docx

泓域/机械设备公司绩效指标方案机械设备公司绩效指标方案目录一、 公司基本情况 1二、 产业环境分析 3三、 原子层刻蚀为未来技术发展方向 4四、 必要性分析 8五、 项目基本情况 8六、 确定关键绩效指标的方法 14七、 关键绩效指标的含义 15八、 平衡计分卡的提出 17九、 平衡计分卡的实施流程 19十、 标杆管理的缺陷 23十一、 标杆管理的含义 25十二、 项目风险分析 26十三、 项目风险对策 29十四、 组织机构、人力资源分析 30劳动定员一览表 30十五、 法人治理 32十六、 发展规划分析 43一、 公司基本情况（一）公司简介公司在“政府引导、市场主导、社会参与”的总体原则基础上，坚持优化结构，提质增效不断促进企业改变粗放型发展模式和管理方式，补齐生态环境保护不足和区域发展不协调的短板，走绿色、协调和可持续发展道路，不断优化供给结构，提高发展质量和效益牢固树立并切实贯彻创新、协调、绿色、开放、共享的发展理念，以提质增效为中心，以提升创新能力为主线，降成本、补短板，推进供给侧结构性改革公司自成立以来，坚持“品牌化、规模化、专业化”的发展道路以人为本，强调服务，一直秉承“追求客户最大满意度”的原则。

多年来公司坚持不懈推进战略转型和管理变革，实现了企业持续、健康、快速发展未来我司将继续以“客户第一，质量第一，信誉第一”为原则，在产品质量上精益求精，追求完美，对客户以诚相待，互动双赢二）核心人员介绍1、钟xx，中国国籍，无永久境外居留权，1959年出生，大专学历，高级工程师职称2003年2月至2004年7月在xxx股份有限公司兼任技术顾问；2004年8月至2011年3月任xxx有限责任公司总工程师2018年3月至今任公司董事、副总经理、总工程师2、李xx，中国国籍，1976年出生，本科学历2003年5月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理；2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司执行董事、总经理；2004年4月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理2018年3月起至今任公司董事长、总经理3、蒋xx，1957年出生，大专学历1994年5月至2002年6月就职于xxx有限公司；2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事2018年3月至今任公司董事4、付xx，中国国籍，1977年出生，本科学历2018年9月至今历任公司办公室主任，2017年8月至今任公司监事。

5、龙xx，中国国籍，无永久境外居留权，1970年出生，硕士研究生学历2012年4月至今任xxx有限公司监事2018年8月至今任公司独立董事二、 产业环境分析以“中国制造2025”和“互联网+”行动计划为引领，实施产业强县战略，推进新型工业化进程，实现工业率先发展着力建设一流的经济开发区，打造现代制造业先进配套基地以开发区和特色产业基地为发展平台，以项目建设为发展支撑，深入推进传统特色产业转型升级和新兴产业率先发展，形成先进制造业主导的工业发展格局到“十三五”末，力争全部工业总产值突破500亿元；规模以上企业数量每年新增15家以上，达到220家以上，规上工业增加值增速达到9%以上一）着力推进园区率先发展以规划为引领，完善基础设施建设，加快招商引资进度，以“工业新城•生态园区”为目标，助力产业转型发展、率先发展二）加快传统产业转型升级“十三五”期间，配合产业转型升级，逐步淘汰低端钢铁压延、低端零配件加工制造等技术含量低、高耗能低产出行业，实现传统特色制造业高端化发展三）推动新兴产业发展壮大坚持传统产业与新兴产业双轮驱动，大力培育壮大新能源车辆制造、汽车零部件生产、数控设备生产等新兴产业，为经济发展提供新的支撑。

力争到“十三五”末，新兴产业产值占工业总产值的比重达到30%以上三、 原子层刻蚀为未来技术发展方向随着国际上高端量产芯片从14nm-10nm阶段向7nm、5nm甚至更小的方向发展，当前市场普遍使用的沉浸式光刻机受光波长的限制，关键尺寸无法满足要求，必须采用多重模板工艺，利用刻蚀工艺实现更小的尺寸，使得刻蚀技术及相关设备的重要性进一步提升制程升级背景下，刻蚀次数显著增加随着半导体制程的不断缩小，受光波长限制，关键尺寸无法满足要求，必须采用多重模板工艺，重复多次薄膜沉积和刻蚀工序以实现更小的线宽，使得薄膜沉积和刻蚀次数显著增加以及刻蚀设备在晶圆产线中价值比率不断上升，其中20纳米工艺需要的刻蚀步骤约为50次，而10纳米工艺和7纳米工艺所需刻蚀步骤则超过100次以硅片上的原子层刻蚀为例，首先，氯气被导入刻蚀腔，氯气分子吸附于硅材料的表面，形成一个氯化层这一步改性步骤具有自限制性：表面一旦饱和，反应立即停止紧接着清楚刻蚀腔中过量的氯气，并引入氩离子使这些离子轰击硅片，物理性去除硅-氯反应后产生的氯化层，进而留下下层未经改性的硅表面这种去除过程仍然依靠自限制性，在氯化层被全部去除后，过程中止以上两个步骤完成后，一层极薄的材料就能被精准的从硅片上去除。

半导体设备市场快速发展，刻蚀设备价值量可观半导体设备市场快速发展，2022有望再创新高随着2013年以来全球半导体行业的整体发展，半导体设备行业市场规模也实现快速增长根据SEMI统计，2013年到2020年间，全球半导体设备销售额由320亿美元提升至712亿美元，年复合增速达到12.10%2021年全球半导体设备市场规模突破1000亿美元，达到历史新高的1026亿美元，同比大增44根据SEMI预测，2022年全球半导体设备市场有望再创新高，达到1140亿美元目前全球半导体设备的市场主要由国外厂商高度垄断根据芯智讯发布的基于各公司财报统计数据显示，在未剔除FPD设备及相关服务收入、以2021年度中间汇率为基准进行计算，2021年全球前十五大半导体设备厂商中仅有一家ASMPacificTechnology来自中国香港，2021年销售额为17.39亿美元，位列榜单第14位整体来看目前全球半导体设备市场主要被外国市场垄断刻蚀设备投资占比不断，成为半导体产业第一大设备先进集成电路大规模生产线的投资可达100亿美元，75%以上是半导体设备投资，其中最关键、最大宗的设备是等离子体刻蚀设备根据SEMI的统计数据，2018年晶圆加工设备价值构成中，刻蚀、光刻、CVD设备占比分别为22.14%、21.30%、16.48%，刻蚀设备成为半导体产业第一大设备。

过去50年中，人类微观加工能力不断提升，从电子管计算机到现在的14纳米、7纳米器件，微观器件的基本单元面积缩小了一万亿倍由于光的波长限制，20纳米以下微观结构的加工更多使用等离子体刻蚀和薄膜沉积的组合集成电路芯片的制造工艺需要成百上千个步骤，其中等离子体刻蚀就需要几十到上百个步骤，是在制造过程中使用次数频多、加工过程非常复杂的重要加工技术泛林半导体占据刻蚀设备半壁江山光刻机和刻蚀机作为产业的核心装备，占据了半导体设备投资中较大的份额随着半导体技术进步中器件互连层数增多，介质刻蚀设备的使用量不断增大，泛林半导体利用其较低的设备成本和相对简单的设计，逐渐在65nm、45nm设备市场超过TEL等企业，占据了全球大半个市场，成为行业龙头根据Gartner的数据显示，目前全球刻蚀设备行业的龙头企业仍然为泛林半导体、东京电子和应用材料三家，从市占率情况来看，2020年三家企业的合计市场份额占到了全球刻蚀设备市场的90%以上，其中泛林半导体独占44.7%的市场份额全球龙头持续投入，加强研发、外围并购维持竞争力应用材料于2018年6月宣布成立材料工程技术推动中心（META中心），主要目标是加快客户获得新的芯片制造材料和工艺技术，从而在半导体性能、成本方面实现突破。

泛林半导体依靠自身巨大的研发投入和强大的研发团队，自主研发核心技术，走在半导体设备的技术前沿，开创多个行业标准，如其KIYO系列创造了业内最高生产力、选择比等多项记录，其ALTUSMaxE系列采用业界首款低氟钨ALD工艺，被视作钨原子层沉积的行业标杆除此之外，泛林半导体首创ALE技术，实现了原子层级别的可变控制性和业内最高选择比四、 必要性分析1、提升公司核心竞争力项目的投资，引入资金的到位将改善公司的资产负债结构，补充流动资金将提高公司应对短期流动性压力的能力，降低公司财务费用水平，提升公司盈利能力，促进公司的进一步发展同时资金补充流动资金将为公司未来成为国际领先的产业服务商发展战略提供坚实支持，提高公司核心竞争力五、 项目基本情况（一）项目承办单位名称xx有限责任公司（二）项目联系人钟xx（三）项目建设单位概况公司秉承“以人为本、品质为本”的发展理念，倡导“诚信尊重”的企业情怀；坚持“品质营造未来，细节决定成败”为质量方针；以“真诚服务赢得市场，以优质品质谋求发展”的营销思路；以科学发展观纵观全局，争取实现行业领军、技术领先、产品领跑的发展目标 公司注重发挥员工民主管理、民主参与、民主监督的作用，建立了工会组织，并通过明确职工代表大会各项职权、组织制度、工作制度，进一步规范厂务公开的内容、程序、形式，企业民主管理水平进一步提升。

围绕公司战略和高质量发展，以提高全员思想政治素质、业务素质和履职能力为核心，坚持战略导向、问题导向和需求导向，持续深化教育培训改革，精准实施培训，努力实现员工成长与公司发展的良性互动公司在“政府引导、市场主导、社会参与”的总体原则基础上，坚持优化结构，提质增效不断促进企业改变粗放型发展模式和管理方式，补齐生态环境保护不足和区域发展不协调的短板，走绿色、协调和可持续发展道路，不断优化供给结构，提高发展质量和效益牢固树立并切实贯彻创新、协调、绿色、开放、共享的发展理念，以提质增效为中心，以提升创新能力为主线，降成本、补短板，推进供给侧结构性改革公司自成立以来，坚持“品牌化、规模化、专业化”的发展道路以人为本，强调服务，一直秉承“追求客户最大满意度”的原则多年来公司坚持不懈推进战略转型和管理变革，实现了企业持续、健康、快速发展未来我司将继续以“客户第一，质量第一，信誉第一”为原则，在产品质量上精益求精，追求完美，对客户以诚相待，互动双赢四）项目实施的可行性1、不断提升技术研发实力是巩固行业地位的必要措施公司长期积累已取得了较丰富的研发成果随着研究领域的不断扩大，公司产品不断往精密化、智能化方向发展，投资项目的建设，将支持公司在相关领域投入更多的人力、物力和财力，进一步提升公司研发实力，加快产品开发速度，持续优化产品结构，满足行业发展和市场竞争的需求，巩固并增强公司在行业内的优势竞争地位，为建设国际一流的研发平台提供充实保障。

2、公司行业地位突出，项目具备实施基础公司自成立之日起就专注于行业领域，已形成了包括自主研发、品牌、质量、管理等在内的一系列核心竞争优势，行业地位突出，为项目的实施提供了良好的条件在生产方面，公司拥有良好生产管理基础，并且拥有国际先进的生产、检测设备；在技术研发方面，公司系国家高新技术企业，拥有省级企业技术中心，并与科研院所、高校保持着长期的合作关系，已形成了完善的研发体系和创新机制，具备进一步升级改造的条件；在营销网络建设方面，公司通过多年发展已建立了良好的营销服务体系，营销网络拓展具备可复制性刻蚀设备处于半导体产业链上游环节半导体产业链的上游由为设计、制造和封测环节提供软件及知识产权、硬件设备、原材料等生产资料的核心产业组成半导体产业链的中游可以分为半导体芯片设计环节、制造环节和封装测试环节半导体产业链的下游为半导体终端产品以及其衍生的应用、系统等五）项目建设选址及建设规模项目选址位于xxx（以选址意见书为准），。