蚀刻液均匀性与蚀刻因子测试报告1月.docx

SUB：碱性蚀刻测试报告一、 试验目的：为了验证碱性蚀刻线的均匀性与蚀刻因子，是否满足公司生产要求， 制作样板进行测试二、 试验的要求：1、板材要求：FR4板料，板厚1.5MM，铜厚分为1/30Z, H/HOZ, 1/10Z三种三、 试验的流程：1、 开料f钻孔f沉铜f板电（5 8微米）f线路f图电f蚀刻f切片检测2、 参数控制：缸名控制要求实测温度备注膨松缸48±2°C47.8C合格退膜缸48±2°C48.2C合格蚀刻缸50±2C48.9C合格退锡缸28-32C30.2C合格3.新蚀刻液化验测结果：分析项目控制范围1.15白班1.15晚班1.16白班1.16晚班1.17白班1.17晚班CL-175±15(g/L)188.86187.44186.02188.86186.02188.86CU2+140±20(g/L)138.51143.6141.05139.15143.60141.05PH8.3±38.368.428.388.348.358.29分析项目控制范围1.18白班1.18晚班1.19白班1.19晚班1.20白班1.20晚班CL-175土15(g/L)187.44190.00188.86188.86187.44190CU2+140土20(g/L)141.05142.0139.78138.51143.6143.6PH8.3±38.388.228.328.48.38.3结论：从以上化验分析结果看药水稳定无异常。

4•蚀刻因子测试结果：蚀刻因子要求：M2I板中：l/3oz底铜蚀刻因子为9.79小结：1/3oz底铜蚀刻因子9. 79-15.96合格前左角：H/Hoz底铜蚀刻因子为5.36 前右角：H/Hoz底铜蚀刻因子为6.2后左角：H/Hoz底铜蚀刻因子为5.39 后右角：H/Hoz底铜蚀刻因子为4.85板中：H/Hoz底铜蚀刻因子为6.88小结：H/Hoz底铜蚀刻因子4. 85-6.88合格前左角：1/loz底铜蚀刻因子为5.31 前右角：1/loz底铜蚀刻因子为5.03后左角：1/loz底铜蚀刻因子为5.03 后右角：1/loz底铜蚀刻因子为5.18P哪K ■「・ *「:, t 二 33 腑t]h2L*436f 卜：」Jh1 j: jfc/p _ . jRI1F ：'1 • " rai ■ * 3 r» " k J '□.•■ ■■ iflMF・…:八‘ ：is板中：l/loz底铜蚀刻因子为5.29小结：l/loz底铜蚀刻因子5・03-5.31合格5、蚀刻均匀性测试：（1）蚀刻上喷：（COV要求W8%）逗刘二喷演叵三市图世制二喷銀勺分千厨■上喷（um）编号-12345678910AVEA27.129.2727.1626.9426.7628.3427.827.8129.129.127.94B29.4629.3727.6826.9927.8628.2428.4528.9530.5930.5928.82C28.727.3226.8226.1726.0227.3629.2427.929.6729.6727.89D30.8628.9626.6627.1627.6528.8428.1929.1231.0131.0128.95E30.4528.8827.3128.5528.6227.8727.2128.7230.0630.0628.77F30.4828.5627.4828.9727.6627.4127.3528.4229.8729.1228.53G30.0328.0227.3727.8126.1427.427.4727.8828.1528.1527.84H30.0328.2728.1328.8227.6128.4427.7727.3728.8228.8228.41AVE29.6428.5827.3327.6827.2927.9927.9428.2729.6629.57MAX31.01AVE28.39R值4.99MIN26.02STDEV1.19COV4.19%小结：蚀刻上喷平均蚀铜量28・39um,R值：4・99, COV： 4.19 %合格;（2）蚀刻下喷：（COV要求W10%）■下喷（um）编号:12345678910AVEA30.5428.0928.427.9229.5628.4628.4728.5728.429.0628.75B30.3528.3728.2827.7829.7129.0728.6929.6330.9730.8129.37C29.2327.7726.7729.3528.6628.8528.5729.3529.929.8928.83D30.3427.8828.5229.3627.6629.1827.3128.529.1229.7728.76E29.1327.1228.1628.1127.932927.2328.0129.0429.6528.34F25.8126.5727.2326.3827.2627.3426.1725.9127.7127.8226.82G25.4127.2427.0527.0427.2327.527.3126.9428.2728.3727.24H25.2729.0829.2330.1129.5129.4129.2126.8927.2425.928.19AVE28.2627.7727.9628.2628.4428.6027.8727.9828.8328.91MAX30.97AVE28.29R值5.7MIN25.27STDEV1.28COV4.51%小结：蚀刻下喷平均蚀铜量28・29um,R值：5.7, COV： 4.51 %合格;四、测试结果：1、 跟进化验分析结果，药水稳定无异常。

2、 l/3oz底铜蚀刻因子要求：上2,实测:9.79-15.96合格3、 H/Hoz底铜蚀刻因子要求：上2,实测:4.85-6.88合格4、 1/1oz底铜蚀刻因子要求：上2,实测:5.03-5.31合格5、 蚀刻上喷平均蚀铜量28.39um,R值:4.99, COV要求W8%，实测COV： 4.19 %合格6、 蚀刻下喷平均蚀铜量28.29um,R值:5.7, COV要求W10%,实测COV： 4.51 %合格五、结论： 通过以上测试碱性蚀刻药水稳定合格编写：审核：核准：。