好文档就是一把金锄头!
欢迎来到金锄头文库![会员中心]
电子文档交易市场
安卓APP | ios版本
电子文档交易市场
安卓APP | ios版本

艺及器件仿真工具Sentaurus优秀课件.ppt

111页
  • 卖家[上传人]:pu****.1
  • 文档编号:591012716
  • 上传时间:2024-09-16
  • 文档格式:PPT
  • 文档大小:4.99MB
  • / 111 举报 版权申诉 马上下载
  • 文本预览
  • 下载提示
  • 常见问题
    • 发之于心发之于心 察之于微察之于微究之以底究之以底 亲而为之亲而为之新一代工艺及器件仿真工具 Sentaurus1艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 课程内容Sentaurus TCAD介绍与概述Sentaurus Workbench介绍与使用Sentaurus Process Simulator介绍与使用Sentaurus Structure Editor介绍与使用Sentaurus Device Simulator介绍与使用Sentaurus其他工具介绍2艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 TCAD概述什么是￿TCAD?TCAD计算机辅助技术(Technology Computer Aided Design)Process Simulation;Device SimulationTCAD工具有哪些?Sentaurus Workbench (SWB)Sentaurus Process (sprocess)Sentaurus Structure Editor (sde)Sentaurus Device (sdevice)Tecplot SV/Inspect3艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Synopsys公司简介Synopsys公司总部设在美国加利福尼亚州Mountain View,有超过60家分公司分布在北美、欧洲与亚洲。

      2002年并购Avant公司后,Synopsys公司成为提供前后端完整IC设计方案的领先EDA工具供应商Sentaurus是Synopsys公司收购瑞士ISE(Integrated Systems Engineering)公司后发布的产品,全面继承了ISE TCAD,Medici和Tsuprem4的所有特性及优势4艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 TCAD概述T4 / MediciSentaurusISE Silvaco sprocesssdesdeviceTCAD*_fps.tdr*_fps.cmd*_bnd.tdr*.tdr*_msh.tdr*.plt*_dvs.cmd*_des.cmdWorkbench (SWB)5艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 TCAD概述T4 / MediciSentaurusISE Silvaco sprocesssdesdeviceTCAD*_fps.tdr*_fps.cmd*_bnd.tdr*.tdr*_msh.tdr*.plt*_dvs.cmd*_des.cmdWorkbench (SWB)6艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Sentaurus Workbench介绍与使用Getting StartedCreating ProjectsBuilding Multiple Experiments7艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Workbench基于集成化架构模式来组织、实施TCAD仿真项目的设计和运行,为用户提供了图形化界面,可完成系列化仿真工具软件以及诸多第三方工具的运行,以参数化形式实现TCAD项目的优化工程。

      SWB的工具特征8艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 SWB的工具特征SWB被称为“虚拟的集成电路芯片加工厂”SWB环境科集成Synopsys公司的系列化TCAD仿真工具,使用户在集成环境下实现TCAD仿真及优化SWB基于现代实验方法学和现代实验设计优化的建模用户可根据进程进行实验结果的统计分析、工艺及器件参数的优化SWB支持可视化的流程操作,用户可方便地安排和检测仿真的动态过程9艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 安装在137服务器下利用putty软件在137中取得端口号:    vncserver –geometry 1280x960利用VNC软件登陆137服务器     Getting Started10艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 打开软件指令:source /opt/demo/sentaurus.env                            GENESISe&重装license指令su - (进入root,密码向机房管理员索取)/opt/sentaurus09/linux/bin/lmdown –c /opt/license/synopsys.dat (关闭license)/opt/sentaurus09/linux/bin/lmgrd –c /opt/license/synopsys.dat (安装license)exit (退出root权限)Getting Started11艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Creating Projects主菜单仿真工具菜单项目编辑环境12艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Creating Projects13艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 新建文件夹和项目Creating Projects14艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 构造仿真流程SP工艺仿真SE网格策略和电极定义SD器件特性仿真SE器件绘制以网格定义SD器件特性仿真Creating Projects15艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Creating Projects16艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Building Multiple Experiments17艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Building Multiple Experiments18艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Building Multiple Experiments19艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Building Multiple ExperimentsParameter在cmd文件中的定义与使用:20艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 TCAD概述T4 / MediciSentaurusISE Silvaco sprocesssdesdeviceTCAD*_fps.tdr*_fps.cmd*_bnd.tdr*.tdr*_msh.tdr*.plt*_dvs.cmd*_des.cmdWorkbench (SWB)21艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Sentaurus Process SimulatorSynopsys Inc.的Sentaurus Process 整合了:Avanti 公司的TSUPREM系列工艺级仿真工具(Tsupremⅰ,Tsupremⅱ,Tsupremⅲ只能进行一维仿真,到了第四代的商业版Tsuprem4能够完成二维模拟)Avanti公司的Taurus Process 系列工艺级仿真工具;ISE Integrated Systems Engineering公司的ISE TCAD工艺级仿真工具Dios(二维工艺仿真)FLOOPS-ISE(三维工艺仿真)Ligament(工艺流程编辑)系列工具,将一维、二维和三维仿真集成于同一平台。

      22艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Sentaurus Process在保留传统工艺级仿真工具卡与命令行运行模式的基础上,又作了诸多重大改进:增加、设置了一维模拟结果输出工具(Inspect)和二维、三维模拟结果输出工具(Tecplot SV)Inspect 提供了一维模拟结果的交互调阅而Tecplot SV 则实现了仿真曲线、曲面及三维等输出结果的可视化输出ISE TCAD的可视化工具Inspect和tecplot的继承)增加、设置了模型参数数据库浏览器(PDB),为用户提供修改模型参数及增加模型的方便途径;23艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Sentaurus ProcessSentaurus Process 还收入了诸多近代小尺寸模型这些当代的小尺寸模型主要有:高精度刻蚀模型及高精度淀积模型;基于Crystal-TRIM 的蒙特卡罗(Monte Carlo)离子注入模型、离子注入校准模型、注入解析模型和注入损伤模型;高精度小尺寸扩散迁移模型等引入这些小尺寸模型,增强了仿真工具对新材料、新结构及小尺寸效应的仿真能力,适应未来半导体工艺技术发展的需求24艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Sentaurus Process25艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Sentaurus Process Print(Hello NMOS!)26艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Sentaurus Process 27艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 关键词SP器件结构说明语句region:用于指定矩形网络中的矩形材料区域Line:用于定义器件的矩形区域网格Grid:执行网络设置的操作命令Doping:定义分段的线性掺杂剖面分布Refinebox:设置局部网格参数,并使用MGOALS库执行网络细化Contact:设置器件仿真需要的电极结构信息。

      SP的工艺步骤说明语句Deposit:淀积语句Diffuse:高温热扩散与高温氧化Photo:光刻胶Mask:定义掩膜光刻和离子注入所需要的掩膜类型Etch:刻蚀Strip:剥离Implant:实现离子注入仿真的语句28艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 定义2D器件区域#Hello NMOSGraphics online x location= 0.0  spacing= 1.0 tag=SiTop line x location=50.0  spacing=10.0 line x location= 0.5 spacing=50.0 line x location= 2.0 spacing= 0.2 line x location= 4.0 spacing= 0.4 line x location=10.0 spacing= 2.0 tag=SiBottomline y location=0.0 spacing=50.0 tag=Mid line y location=0.40 spacing=50.0 tag=RightInitial 2D grid.29艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 region silicon xlo=SiTop xhi=SiBottom ylo=Mid yhi=Rightinit concentration=1.0e+15 field=Phosphorus wafer.orient=100 (N形衬底)仿真区域初始化Boron注入implant Boron dose=2.0e13 energy=200 tilt=0 rotation=0implant Boron dose=1.0e13 energy= 80 tilt=0 rotation=0implant Boron dose=2.0e12 energy= 25 tilt=0 rotation=0 (P阱)常见掺杂杂质N型:Phosphorus、ArsenicP型:Boron30艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 生长栅氧化层min.normal.size用来指定边界处的网格间距,离开表面后按照normal.growth.ratio确定的速率调整,accuracy为误差精度。

      mgoals on min.normal.size=1 max.lateral.size=2.0 \ normal.growth.ratio=1.4 accuracy=2e-5##-Note: accuracy needs to be much smaller than min.normal.sizediffuse temperature=850  time=10.0  O2生长多晶硅deposit poly type=anisotropic thickness=0.18 (各向异性)mask name=gate_mask left=-1 right=90 etch poly type=anisotropic thickness=0.2 mask=gate_masketch oxide type=anisotropic thickness=0.131艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 注意点掩膜版使用前必须要先定义,maskEtch命令用来去除没有光刻胶保护的材料多晶硅的二次氧化为减小多晶硅栅表面的应力,需要再多晶硅上生长一层薄氧化层diffuse temperature=900 time=10.0 O2 pressure=0.5 \ mgoals.native默认pressure为1atm。

      Mgoals.native表示自动采用MGOALS对这层进行网格分布32艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Mgoals.native33艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 保存结构文件Sentaurus Process中使用struct命令来保存结构文件,同样可以使用Tecplot SV来调阅结构文件保存格式有TDR和DF-ISE,这里使用TDR格式来保存struct tdr=NMOS4 34艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 refinebox silicon min= {0.0 0.05} max= {0.1 0.12} \     xrefine= {0.01 0.01 0.01} yrefine= {0.01 0.01 0.01} add refinebox remeshLDD和Halo(晕环)注入前网格的细化min和max定义refinebox的范围Xrefine和yrefine定义refinebox的网格细化规则The first number specifies the spacing at the top or left side of the box, the second number defines the spacing in the center, and the last one at the bottom or right side of the box.35艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 LDD和Halo(晕环)注入LDD注入形成N-区域,为了有效抑制热载流子效应Halo注入目的是在源漏的边缘附近形成高浓度的硼掺杂区域,用来有效抑制有可能发生的短沟道效应implant Arsenic dose=4e14 energy=10 tilt=0 rotation=0 (注入角、旋转角)implant Boron dose=0.25e13 energy=20 \ tilt=30 rotation=0 implant Boron dose=0.25e13 energy=20 \ tilt=30 rotation=90 implant Boron dose=0.25e13 energy=20 \ tilt=30 rotation=180 implant Boron dose=0.25e13 energy=20 \ tilt=30 rotation=270 diffuse temperature=1050 time=5.036艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 LDD和Halo(晕环)注入LDDHalo制备前37艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 侧墙制备制备过程:在整个结构上淀积一层均匀的氧化硅层及氮化硅层.设置type=isotropic保证生长速率的各向同性.随后,将淀积的氧化层和氮化硅层刻蚀掉.刻蚀仅在垂直方向进行,则淀积在栅区边缘的材料并未被腐蚀掉,形成侧墙,以此作为源/漏注入时的掩膜.deposit oxide type=isotropic rate ={1} time=0.005   deposit nitride type=isotropic thickness=60 etch nitride type=anisotropic thickness=84 etch oxide type=anisotropic thickness=10struct tdr=SP各相同性淀积各相异性刻蚀38艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 制备结果39艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Source/Drain注入前网格再细化refinebox silicon min= {0.04 0.05} max= {0.18 0.4} \ xrefine= {0.01 0.01 0.01} yrefine= {0.05 0.05 0.05} add refinebox remesh40艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Source/Drain注入implant Arsenic dose=5e15 energy=40 \ tilt=7 rotation=-90 diffuse temperature=1050 time=10.0struct tdr=SDim为了确保source和drain区域较低的电阻率,采用高剂量(5e15cm-2)。

      倾斜7°角防止沟道效应,离子注入过深41艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Source/Drain注入注入前注入以及退火后42艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 接触孔Isotropic(各向同性)刻蚀是为了把残留的金属刻蚀干净deposit Aluminum type=isotropic thickness=30 #0.2到1μm的部分被保护了下来mask name=contacts_mask left=0.2 right=1.0etch Aluminum type=anisotropic thickness=0.25 mask=contacts_mask etch Aluminum type=isotropic thickness=0.02 mask=contacts_mask43艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 翻转由于漏源对称,所以翻转,加快设计周期transform reflect left #TDRstruct smesh=n@node@注意:n@node@的用法!根据节点自动编号,            便于流程化操作44艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 NMOS结构45艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 NMOS结构46艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 TCAD概述T4 / MediciSentaurusISE Silvaco sprocesssdesdeviceTCAD*_fps.tdr*_fps.cmd*_bnd.tdr*.tdr*_msh.tdr*.plt*_dvs.cmd*_des.cmdWorkbench (SWB)47艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Structure Editor的重要性网格设置对方程(x-2)^2=0的数值解的影响48艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Sentaurus Structure EditorSDE是Synopsys￿Inc. TCAD Sentaurus系列工具中新增加的、具有器件结构编辑功能的集成化TCAD器件结构生成器。

      可与sprocess联用,弥补各自的不足在图形化用户界面(GUI-Graphic User Interface)下,交互可视地生成、编辑器件结构也可以在批处理命令模式下使用脚本语言来创建器件的结构设计系统的图形用户界面(GUI)与批处理命令脚本模式是可逆的可视化的器件结构与参数化的器件结构相对应49艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Sentaurus Structure Editor包含以下几个工具模块:二维器件编辑(Device Editor)模块三维器件编辑(Device Editor)模块Procem三维工艺制程仿真模块具有的主要特征如下:具有优秀的几何建模内核,为创建可视化模型提供了保障拥有高质量的绘图引擎和图形用户界面(GUI)共享DFISE和TDR输入和输出的文件格式50艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 SentaurusSE 3D图例Source (Drain)Drain (Source)SiO2Gate51艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to use SDE启动演示启动方式命令提示符下输入:sde52艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to use SDE(sdeio:read-tdr-bnd "n@node|sprocess@_bnd.tdr")(sdedr:define-submesh-placement "ExternalProfilePlacement_1" "ExternalProfileDefinition_1" "" "NoReplace")#t(sdedr:define-submesh "ExternalProfileDefinition_1" "n@node|sprocess@_fps.tdr""n@node|sprocess@_fps.tdr" 'w)#t53艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to use SDE54艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?SDE主窗口演示命令编辑器画图区55艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?To start a new object and discard all objects that have been previously definedFile > New, or Ctrl+N, or click the corresponding toolbar button.The corresponding Scheme command is:(sde:clear) 56艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?开启准确坐标模式为了能准确定义器件的坐标Boolean ABAThe corresponding Scheme command is:(sdegeo:set-default-boolean￿“ABA”) 57艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?Selecting Materials for example, SiliconCreating Rectangular RegionsDraw > Create 2D Region > Rectangle, or click the corresponding toolbar button.Drag the pointer to draw a rectangle in the view window. The Exact Coordinates dialog box is displayed.Enter (-0.5 0.0), (0.5 1.0) in the corresponding fields and click OK.58艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?Creating Other Revice Rectangular Regions做什么用?顺序能换吗?The corresponding Scheme command is:(sdegeo:create-rectangle (position -0.5 0.0 0.0) (position 0.5 1.0 0.0) "Silicon" "region_1")(sdegeo:create-rectangle (position -0.2 -40e-4 0.0) (position 0.2 0.0 0.0) "SiO2" "region_2") (sdegeo:create-rectangle (position -0.2 -0.2 0.0) (position 0.2 -40e-4 0.0) "Si3N4" "region_3") (sdegeo:create-rectangle (position -0.1 -0.2 0.0) (position 0.1 -40e-4 0.0) "PolySilicon" "region_4") (sdegeo:create-rectangle (position -0.5 0.1 0.0) (position 0.5 0.2 0.0) "SiO2" "region_5")59艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?注意坐标轴方向-0.50.51X60艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?分块处理(需要对不同区域进行不同处理,比如大块的Si)Edit>Separate LumpsThe corresponding Scheme command is:(sde:assign-material-and-region-names "all")61艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?Rounding Edges (侧墙磨边处理)Edit > ParametersDefine fillet-radius￿in￿the￿VariableVariable￿field￿and￿enter￿0.08￿for￿the￿ValueValue.Click Set and then click Close.Click the Selection Level list and select Select Vertex.Click the Aperture Select button in the toolbar. Click the upper-left corner of the spacer to highlight the vertex.Edit > Edit 2D > Fillet.Repeat the last two steps with the upper-right corner of the spacer.62艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?Rounding Edges (侧墙磨边处理)The corresponding Scheme command is:(sde:define-parameter "fillet-radius" 0.08 0.0 0.0 )(sdegeo:fillet-2d (find-vertex-id (position -0.2 -0.2 0.0)) fillet-radius) (sdegeo:fillet-2d (find-vertex-id (position 0.2 -0.2 0.0)) fillet-radius)63艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?定义ContactsContacts > Contact Sets.The Contact Sets dialog box is displayed.定义contacts属性. 在 Contact Name 中输入名字.在 Edge Color 中给contact赋RBG颜色;￿也可以修改￿Edge Thickness 值用来区分contact; Face Pattern一项只对一项只对￿定义3D contacts有效64艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?定义Contacts点击 Set 增加 已经定义好的Contact. 重复操作Close为什么要定义电极The corresponding Scheme command is:(sdegeo:define-contact-set "source" 4.0 (color:rgb 1.0 0.0 0.0 ) "##") (sdegeo:define-contact-set "drain" 4.0 (color:rgb 0.0 1.0 0.0 ) "##") (sdegeo:define-contact-set "gate" 4.0 (color:rgb 0.0 0.0 1.0 ) "##") (sdegeo:define-contact-set "substrate" 4.0 (color:rgb 1.0 1.0 0.0 ) "##") (sdegeo:define-contact-set "bodytie" 4.0 (color:rgb 1.0 0.0 1.0 ) "##")65艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?将已经定义好的Contacts设置到边界上Contacts > Contact Sets.The Contact Sets dialog box is displayed.在已经定义好的库中,选择需要的contact,比如source点击Activate激活被选中的contact其他类似操作66艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?将已经定义好的Contacts设置到边界上用选择边界工具选中边界Contacts > Set Edge(s)(3/5)The corresponding Scheme command is:(sdegeo:define-2d-contact (find-edge-id (position -0.4 0.0 0.0)) "source") (sdegeo:define-2d-contact (find-edge-id (position 0.4 0.0 0.0)) "drain") (sdegeo:define-2d-contact (find-edge-id (position 0.0 1.0 0.0)) "substrate")67艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?Adding VerticesDraw > Add Vertex or click the corresponding toolbar button.Exact Coordinates 对话出现输入(-0.1 0.1)和和(-0.05 0.1)创造2个端点4/5The corresponding Scheme command is:(sdegeo:insert-vertex (position -0.10 0.1 0.0)) (sdegeo:insert-vertex (position -0.05 0.1 0.0)) (sdegeo:define-2d-contact (find-edge-id (position -0.07 0.1 0.0)) "bodytie") 68艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?4个contacts定义完毕69艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?如何定义一个区域为contact选择方式为BodyContacts > Set Region Boundary EdgesEdit > 2D Edit Tools > Delete RegionThe corresponding Scheme command is:(sdegeo:set-current-contact-set "gate") (sdegeo:set-contact-boundary-edges (find-body-id (position 0.0 -0.1 0.0))) (sdegeo:delete-region (find-body-id (position 0.0 -0.1 0.0)))70艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?区域重命名默认区域名字一般为region_1或者region_1_lump,不适合后期进行掺杂或者网格定义等操作步骤:选取方式为Body选择区域Edit > Change Region Name完成命名规则化71艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?卡命令-R代表Region为了能查看刚改的区域命名情况The corresponding Scheme command is:(sde:add-material (find-body-id (position 0.0 0.8 0.0)) "Silicon" "R.Substrate") (sde:add-material (find-body-id (position 0.0 0.15 0.0)) "SiO2" "R.Box") (sde:add-material (find-body-id (position 0.0 0.05 0.0)) "Silicon" "R.Siliconepi") (sde:add-material (find-body-id (position 0.0 -20e-4 0.0)) "SiO2" "R.Gateox") (sde:add-material (find-body-id (position -0.15 -0.1 0.0)) "Si3N4" "R.Spacerleft") (sde:add-material (find-body-id (position 0.15 -0.1 0.0)) "Si3N4" "R.Spacerright")The corresponding Scheme command is:(sde:showattribs "all")改名72艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generate 2D boundaries?保存器件结构.sat(SE特有)File > Save Mode保存器件结构.tdrThe corresponding Scheme command is:(sde:save-model "soifet_bnd")The corresponding Scheme command is:(sdeio:save-tdr-bnd (get-body-list) "soifet_bnd.tdr")73艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generating doping profiles硅衬底掺杂Device > Constant Profile Placement材料选择硅选择常数掺杂掺杂杂质为boron,浓度为1e15点击Add/Change PlacementClose The corresponding Scheme command is:(sdedr:define-constant-profile "Const.Silicon" "BoronActiveConcentration" 1e+15) (sdedr:define-constant-profile-material "PlaceCD.Silicon" "Const.Silicon" "Silicon")74艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generating doping profiles硅外延掺杂Device > Constant Profile Placement选择区域名为R.Siliconepi掺杂杂质为boron,浓度为1e17点击Add/Change PlacementClose The corresponding Scheme command is:(sdedr:define-constant-profile "Const.Epi" "BoronActiveConcentration" 1e17) (sdedr:define-constant-profile-region "PlaceCD.Epi" "Const.Epi" "R.Siliconepi")75艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generating doping profiles解析掺杂Mesh > Define Ref/Eval Window > Line (基线)(基线)Enter (-0.8 0) for the start point and click OKEnter (-0.2 0) for the end point and click OK重复重复The corresponding Scheme command is:(sdedr:define-refinement-window "BaseLine.Source" "Line" (position -0.8 0.0 0.0) (position -0.2 0.0 0.0)) (sdedr:define-refinement-window "BaseLine.Drain" "Line" (position 0.2 0.0 0.0) (position 0.8 0.0 0.0)) (sdedr:define-refinement-window "BaseLine.SourceExt" "Line" (position -0.8 0.0 0.0) (position -0.1 0.0 0.0)) (sdedr:define-refinement-window "BaseLine.DrainExt" "Line" (position 0.1 0.0 0.0) (position 0.8 0.0 0.0))76艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generating doping profiles解析掺杂Device > Analytic Profile Placement杂质为磷,选取高斯分布方式SourceExt和DrainExt形成LDD77艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 How to generating doping profiles保存掺杂分布.sat(SE特有)File > Save ModeThe corresponding Scheme command is:(sde:save-model “soifet_dop_sde”)需要?78艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Generating Meshes网格策略主要步骤硅外延区域-精网格布置Mesh > Refinement Placement选择R.Siliconepi区域X方向,最大网格0.1最小0.005Y方向,最大0.0125最小0.005选择掺杂渐变函数79艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Generating Meshes定义窗口(不能利用区域的时候)Mesh > Define Ref/Eval Window > Rectangle对channel和整体部分进行定义The corresponding Scheme command is:(sdedr:define-refinement-window "RefWin.all" "Rectangle" (position -0.5 1.0 0.0) (position 0.5 -0.2 0.0)) (sdedr:define-refinement-window "RefWin.Channel" "Rectangle" (position -0.1 0.0 0.0) (position 0.1 0.1 0.0))80艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Generating Meshes利用定义好的窗口进行网络布置Mesh > Refinement PlacementRef/Win选择RefWin.allX方向,最大0.25最小0.1Y方向,最大0.25最小0.1较粗略的网格安排The corresponding Scheme command is:(sdedr:define-refinement-size "RefDef.all" 0.25 0.1 0.25 0.1) (sdedr:define-refinement-placement "PlaceRF.all" "RefDef.all" "RefWin.all")81艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Multibox Mesh Strategy in Refinement Windows策略策略由于在某些应用中会需要用到逐渐变化的网格线的策略比如在MOS管沟道,尤其是Silicon-Oxide交界面处,需要密集的网格线以便于计算,而离该界面越远,需要的网格可以越宽松。

      这样既可以省去CPU计算时间,又可以为器件结构带来精确计算具体步骤如下82艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Generating Meshes Multibox Mesh StrategyMesh > Multibox Placement选取定义好的RefWin.Channel块X方向和Y方向的策略见图保存保存The corresponding Scheme command is:(sdedr:define-multibox-size "MB.Channel" 0.05 0.0125 0.025 1e-4 1 1.35) (sdedr:define-multibox-placement "PlaceMB.Channel" "MB.Channel" "RefWin.Channel")(sde:save-model “soifet_msh_sde”)83艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Generating MeshesMeshing the Device Structure网格策略基本布置完成,仍然需要利用Meshing engine把网格建造出来步骤Mesh > Build Mesh-s (2D必须选)-F (产生.tdr)3D则用NOFFSET引擎SNMesh三角网格84艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Generating MeshesMESH成果SDE查看Tecplot查看85艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 3D3D MOSFET86艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 TCAD概述T4 / MediciSentaurusISE Silvaco sprocesssdesdeviceTCAD*_fps.tdr*_fps.cmd*_bnd.tdr*.tdr*_msh.tdr*.plt*_dvs.cmd*_des.cmdWorkbench (SWB)87艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Sentaurus Device Simulator内嵌一维、二维及三维器件物理特性模型仿真的方式主要是通过数值求解一维、二维或三维的半导体物理基本方程￿(泊松方程、连续性方程及运输方程)得到经工艺仿真而生成的或自定义的器件在有源或无源以及相应的外围电路作用下的电学参数和电学特性仿真对象多元化Sentaurus Device除了能实现传统的硅器件的仿真外,还可以进行光电器件、异质结器件、量子器件以及化合物半导体器件的物理特性模拟88艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Sentaurus Device SimulatorSentaurus Device支持三种仿真类型:单器件型、单器件-电路型、多器件-电路型89艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Sentaurus Device SimulatorSentaurus Device通过数值模拟和可视化的输出,可以得到器件在无源状态下的内部结构和器件物理特性参数如各区域内的电位、电场、杂质的纵向分布、横向分布及等位分布各区域内载流子寿命、迁移率及其与杂质浓度间的定量关系各区域内的电流密度、电子复合率与产生率的变化各区域内电场场强和内电势分布等数据!90艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Sentaurus Device SimulatorSentaurus Device在保留经典器件物理特性模型基础上,又增加了许多小尺寸器件物理模型,以满足当前对纳米器件物理特性分析的技术需求有载流子隧道击穿模型包括直接隧道击穿热电子发射诱发的击穿非局域隧道击穿等这些模型的引入为分析各类小尺寸效应的特定成因和危害提供了有效的途径91艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 SentaurusD Examples晶体管CMOS图像传感器闪存SCR结构电流路径ESD92艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Sentaurus DeviceFile{……}￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿定义器件结构的输入文件和输出文件的名称…………Thermode{……}￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿定义器件的电极温度￿￿(可以省略)…………Electrode{……}￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿定义器件的电极相关信息…………Physics{……}￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿定义器件过程中使用的物理模型…………Plot￿{……}￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿定义所有的计算变量…………Math{……}￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿定义DESSIS仿真时算法的设置…………Solve{……}￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿定义电压扫描,仿真电学特性￿…………93艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 File{…}Grid = “@tdr@”Parameters = “@parameters@”Output = “@log@”Current = “@plot@”Plot = “@tdrdat@”94艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Electrode{…}*DC simulation   Electrode{   { Name="Anode"    Voltage=0.0  }   { Name="Cathode"     Voltage=0.0 }   }注意:电极的名称要和Structure Editor中定义的电极名称￿￿￿￿￿￿  完全一致!95艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Physics{…}Physics{eQCvanDort    EffectiveIntrinsicDensity( OldSlotboom )        Mobility(      DopingDep      eHighFieldsaturation( GradQuasiFermi )      hHighFieldsaturation( GradQuasiFermi )      Enormal )   Recombination(      SRH( DopingDep ))           }}96艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Plot{…}Plot{*--Density and Currents, etc   eDensity hDensity   TotalCurrent/Vector eCurrent/Vector hCurrent/Vector   eMobility hMobility   eVelocity hVelocity   eQuasiFermi hQuasiFermi*--Temperature    eTemperature Temperature * hTemperature*--Fields and charges   ElectricField/Vector Potential SpaceCharge*--Doping Profiles   Doping DonorConcentration AcceptorConcentration97艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Plot{…}*--Generation/Recombination￿￿￿SRH Band2Band * Auger￿￿￿AvalancheGeneration eAvalancheGeneration hAvalancheGeneration*--Driving forces￿￿￿eGradQuasiFermi/Vector hGradQuasiFermi/Vector￿￿￿eEparallel hEparallel eENormal hENormal*--Band structure/Composition￿￿￿BandGap ￿￿￿BandGapNarrowing￿￿￿Affinity￿￿￿ConductionBand ValenceBand￿￿￿eQuantumPotential￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿￿}98艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Math {…}Math {￿￿￿Extrapolate￿￿￿Iterations=20￿￿￿Notdamped =100￿￿￿RelErrControl￿￿￿ErRef(Electron)=1.e10￿￿￿ErRef(Hole)=1.e10￿￿￿BreakCriteria{ Current(Contact="Anode" AbsVal=1e-7) } }99艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Solve{…}minstep的数值至少比initialstep少3个数量级 Solve {￿￿￿*- Build-up of initial solution:￿￿￿NewCurrentFile="init"￿￿￿Coupled(Iterations=100){ Poisson }￿￿￿Coupled{ Poisson Electron }￿￿￿*- Bias drain to target bias￿￿￿Quasistationary(￿￿￿￿￿￿InitialStep=0.01 Increment=1.35 ￿￿￿￿￿￿MinStep=1e-6 MaxStep=0.02￿￿￿￿￿￿Goal{ Name="Anode" Voltage= 20  }￿￿￿){ Coupled{ Poisson Electron } }}100艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 其他Sentuarus工具Noffset3D(3D网格引擎)101艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Ligament-Flow用户交互式的工艺流程102艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Ligament-layout103艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Inspect104艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Inspect105艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Inspect106艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Inspect107艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Tecplot108艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 看电流流向109艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 Assignment用sprocess跑出一个NMOS管(提供cmd文件)用structure editor优化网格用sdevice跑出直流击穿电压(器件关断时,漏端扫直流电压,漏端漏电流刚大于等于1x10-7￿安培时的漏端电压为击穿电压)用Inspect观察漏端电压-电流曲线,从电压-电流曲线数据中得到精确的直流击穿电压值优化改进器件参数,使器件的直流击穿电压值提高20%以上110艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 谢谢!Q & A111艺及器件仿真工具Sentaurus优秀 。

      点击阅读更多内容
      相关文档
      安徽省安全员《A证(企业负责人)》冲刺试卷三.docx 2026年房地产经纪人《房地产经纪业务操作》预测试卷三.docx 安徽省安全员《A证(企业负责人)》模拟试卷一.docx 2026年房地产经纪人《房地产交易制度政策》模拟试卷四.docx 安徽省安全员《B证(项目负责人)》冲刺试卷二.docx 2026年房地产经纪人《房地产经纪专业基础》预测试卷四.docx 2026年房地产经纪人《房地产经纪业务操作》考前点题卷一.docx 2023年通信工程师《通信专业实务(传输与接入-无线)》试题真题及答案.docx 安徽省安全员《A证(企业负责人)》试题精选.docx 2026年房地产经纪人《房地产经纪专业基础》预测试卷二.docx 2026年房地产经纪人《房地产经纪业务操作》考前点题卷二.docx 2026年房地产经纪人《房地产经纪职业导论》冲刺试卷三.docx 2026年房地产经纪人《房地产交易制度政策》冲刺试卷三.docx 2026年房地产经纪人《房地产经纪专业基础》考前点题卷二.docx 2026年房地产经纪人《房地产经纪职业导论》冲刺试卷五.docx 2026年房地产经纪人《房地产经纪职业导论》冲刺试卷四.docx 2026年房地产经纪人《房地产交易制度政策》冲刺试卷一.docx 2026年房地产经纪人《房地产交易制度政策》冲刺试卷四.docx 安徽省安全员《B证(项目负责人)》冲刺试卷三.docx 2026年房地产经纪人《房地产经纪业务操作》模拟试卷二.docx
      手机版 | 川公网安备 51140202000112号 | 经营许可证(蜀ICP备13022795号)
      ©2008-2016 by Sichuan Goldhoe Inc. All Rights Reserved.
      • QQ咨询
      • 微信客服
      • 返回顶部