
艺及器件仿真工具Sentaurus优秀课件.ppt
111页发之于心发之于心 察之于微察之于微究之以底究之以底 亲而为之亲而为之新一代工艺及器件仿真工具 Sentaurus1艺及器件仿真工具Sentaurus优秀课程内容Sentaurus TCAD介绍与概述Sentaurus Workbench介绍与使用Sentaurus Process Simulator介绍与使用Sentaurus Structure Editor介绍与使用Sentaurus Device Simulator介绍与使用Sentaurus其他工具介绍2艺及器件仿真工具Sentaurus优秀TCAD概述什么是TCAD?TCAD计算机辅助技术(Technology Computer Aided Design)Process Simulation;Device SimulationTCAD工具有哪些?Sentaurus Workbench (SWB)Sentaurus Process (sprocess)Sentaurus Structure Editor (sde)Sentaurus Device (sdevice)Tecplot SV/Inspect3艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Synopsys公司简介Synopsys公司总部设在美国加利福尼亚州Mountain View,有超过60家分公司分布在北美、欧洲与亚洲。
2002年并购Avant公司后,Synopsys公司成为提供前后端完整IC设计方案的领先EDA工具供应商Sentaurus是Synopsys公司收购瑞士ISE(Integrated Systems Engineering)公司后发布的产品,全面继承了ISE TCAD,Medici和Tsuprem4的所有特性及优势4艺及器件仿真工具Sentaurus优秀TCAD概述T4 / MediciSentaurusISE Silvaco sprocesssdesdeviceTCAD*_fps.tdr*_fps.cmd*_bnd.tdr*.tdr*_msh.tdr*.plt*_dvs.cmd*_des.cmdWorkbench (SWB)5艺及器件仿真工具Sentaurus优秀TCAD概述T4 / MediciSentaurusISE Silvaco sprocesssdesdeviceTCAD*_fps.tdr*_fps.cmd*_bnd.tdr*.tdr*_msh.tdr*.plt*_dvs.cmd*_des.cmdWorkbench (SWB)6艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Sentaurus Workbench介绍与使用Getting StartedCreating ProjectsBuilding Multiple Experiments7艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Workbench基于集成化架构模式来组织、实施TCAD仿真项目的设计和运行,为用户提供了图形化界面,可完成系列化仿真工具软件以及诸多第三方工具的运行,以参数化形式实现TCAD项目的优化工程。
SWB的工具特征8艺及器件仿真工具Sentaurus优秀SWB的工具特征SWB被称为“虚拟的集成电路芯片加工厂”SWB环境科集成Synopsys公司的系列化TCAD仿真工具,使用户在集成环境下实现TCAD仿真及优化SWB基于现代实验方法学和现代实验设计优化的建模用户可根据进程进行实验结果的统计分析、工艺及器件参数的优化SWB支持可视化的流程操作,用户可方便地安排和检测仿真的动态过程9艺及器件仿真工具Sentaurus优秀安装在137服务器下利用putty软件在137中取得端口号: vncserver –geometry 1280x960利用VNC软件登陆137服务器 Getting Started10艺及器件仿真工具Sentaurus优秀打开软件指令:source /opt/demo/sentaurus.env GENESISe&重装license指令su - (进入root,密码向机房管理员索取)/opt/sentaurus09/linux/bin/lmdown –c /opt/license/synopsys.dat (关闭license)/opt/sentaurus09/linux/bin/lmgrd –c /opt/license/synopsys.dat (安装license)exit (退出root权限)Getting Started11艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Creating Projects主菜单仿真工具菜单项目编辑环境12艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Creating Projects13艺及器件仿真工具Sentaurus优秀新建文件夹和项目Creating Projects14艺及器件仿真工具Sentaurus优秀构造仿真流程SP工艺仿真SE网格策略和电极定义SD器件特性仿真SE器件绘制以网格定义SD器件特性仿真Creating Projects15艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Creating Projects16艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Building Multiple Experiments17艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Building Multiple Experiments18艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Building Multiple Experiments19艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Building Multiple ExperimentsParameter在cmd文件中的定义与使用:20艺及器件仿真工具Sentaurus优秀TCAD概述T4 / MediciSentaurusISE Silvaco sprocesssdesdeviceTCAD*_fps.tdr*_fps.cmd*_bnd.tdr*.tdr*_msh.tdr*.plt*_dvs.cmd*_des.cmdWorkbench (SWB)21艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Sentaurus Process SimulatorSynopsys Inc.的Sentaurus Process 整合了:Avanti 公司的TSUPREM系列工艺级仿真工具(Tsupremⅰ,Tsupremⅱ,Tsupremⅲ只能进行一维仿真,到了第四代的商业版Tsuprem4能够完成二维模拟)Avanti公司的Taurus Process 系列工艺级仿真工具;ISE Integrated Systems Engineering公司的ISE TCAD工艺级仿真工具Dios(二维工艺仿真)FLOOPS-ISE(三维工艺仿真)Ligament(工艺流程编辑)系列工具,将一维、二维和三维仿真集成于同一平台。
22艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Sentaurus Process在保留传统工艺级仿真工具卡与命令行运行模式的基础上,又作了诸多重大改进:增加、设置了一维模拟结果输出工具(Inspect)和二维、三维模拟结果输出工具(Tecplot SV)Inspect 提供了一维模拟结果的交互调阅而Tecplot SV 则实现了仿真曲线、曲面及三维等输出结果的可视化输出ISE TCAD的可视化工具Inspect和tecplot的继承)增加、设置了模型参数数据库浏览器(PDB),为用户提供修改模型参数及增加模型的方便途径;23艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Sentaurus ProcessSentaurus Process 还收入了诸多近代小尺寸模型这些当代的小尺寸模型主要有:高精度刻蚀模型及高精度淀积模型;基于Crystal-TRIM 的蒙特卡罗(Monte Carlo)离子注入模型、离子注入校准模型、注入解析模型和注入损伤模型;高精度小尺寸扩散迁移模型等引入这些小尺寸模型,增强了仿真工具对新材料、新结构及小尺寸效应的仿真能力,适应未来半导体工艺技术发展的需求24艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Sentaurus Process25艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Sentaurus Process Print(Hello NMOS!)26艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Sentaurus Process 27艺及器件仿真工具Sentaurus优秀关键词SP器件结构说明语句region:用于指定矩形网络中的矩形材料区域Line:用于定义器件的矩形区域网格Grid:执行网络设置的操作命令Doping:定义分段的线性掺杂剖面分布Refinebox:设置局部网格参数,并使用MGOALS库执行网络细化Contact:设置器件仿真需要的电极结构信息。
SP的工艺步骤说明语句Deposit:淀积语句Diffuse:高温热扩散与高温氧化Photo:光刻胶Mask:定义掩膜光刻和离子注入所需要的掩膜类型Etch:刻蚀Strip:剥离Implant:实现离子注入仿真的语句28艺及器件仿真工具Sentaurus优秀定义2D器件区域#Hello NMOSGraphics online x location= 0.0 spacing= 1.0
mgoals on min.normal.size=1
Mgoals.native表示自动采用MGOALS对这层进行网格分布32艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Mgoals.native33艺及器件仿真工具Sentaurus优秀保存结构文件Sentaurus Process中使用struct命令来保存结构文件,同样可以使用Tecplot SV来调阅结构文件保存格式有TDR和DF-ISE,这里使用TDR格式来保存struct tdr=NMOS4 34艺及器件仿真工具Sentaurus优秀refinebox silicon min= {0.0 0.05} max= {0.1 0.12} \ xrefine= {0.01 0.01 0.01} yrefine= {0.01 0.01 0.01} add refinebox remeshLDD和Halo(晕环)注入前网格的细化min和max定义refinebox的范围Xrefine和yrefine定义refinebox的网格细化规则The first number specifies the spacing at the top or left side of the box, the second number defines the spacing in the center, and the last one at the bottom or right side of the box.35艺及器件仿真工具Sentaurus优秀LDD和Halo(晕环)注入LDD注入形成N-区域,为了有效抑制热载流子效应Halo注入目的是在源漏的边缘附近形成高浓度的硼掺杂区域,用来有效抑制有可能发生的短沟道效应implant Arsenic dose=4e1436艺及器件仿真工具Sentaurus优秀LDD和Halo(晕环)注入LDDHalo制备前37艺及器件仿真工具Sentaurus优秀侧墙制备制备过程:在整个结构上淀积一层均匀的氧化硅层及氮化硅层.设置type=isotropic保证生长速率的各向同性.随后,将淀积的氧化层和氮化硅层刻蚀掉.刻蚀仅在垂直方向进行,则淀积在栅区边缘的材料并未被腐蚀掉,形成侧墙,以此作为源/漏注入时的掩膜.deposit oxide type=isotropic rate ={1} time=0.005 deposit nitride type=isotropic thickness=60struct tdr=SDim为了确保source和drain区域较低的电阻率,采用高剂量(5e15cm-2)。
倾斜7°角防止沟道效应,离子注入过深41艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Source/Drain注入注入前注入以及退火后42艺及器件仿真工具Sentaurus优秀接触孔Isotropic(各向同性)刻蚀是为了把残留的金属刻蚀干净deposit Aluminum type=isotropic thickness=30
可与sprocess联用,弥补各自的不足在图形化用户界面(GUI-Graphic User Interface)下,交互可视地生成、编辑器件结构也可以在批处理命令模式下使用脚本语言来创建器件的结构设计系统的图形用户界面(GUI)与批处理命令脚本模式是可逆的可视化的器件结构与参数化的器件结构相对应49艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Sentaurus Structure Editor包含以下几个工具模块:二维器件编辑(Device Editor)模块三维器件编辑(Device Editor)模块Procem三维工艺制程仿真模块具有的主要特征如下:具有优秀的几何建模内核,为创建可视化模型提供了保障拥有高质量的绘图引擎和图形用户界面(GUI)共享DFISE和TDR输入和输出的文件格式50艺及器件仿真工具Sentaurus优秀SentaurusSE 3D图例Source (Drain)Drain (Source)SiO2Gate51艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to use SDE启动演示启动方式命令提示符下输入:sde52艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to use SDE(sdeio:read-tdr-bnd "n@node|sprocess@_bnd.tdr")(sdedr:define-submesh-placement "ExternalProfilePlacement_1" "ExternalProfileDefinition_1" "" "NoReplace")#t(sdedr:define-submesh "ExternalProfileDefinition_1" "n@node|sprocess@_fps.tdr""n@node|sprocess@_fps.tdr" 'w)#t53艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to use SDE54艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?SDE主窗口演示命令编辑器画图区55艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?To start a new object and discard all objects that have been previously definedFile > New, or Ctrl+N, or click the corresponding toolbar button.The corresponding Scheme command is:(sde:clear) 56艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?开启准确坐标模式为了能准确定义器件的坐标Boolean ABAThe corresponding Scheme command is:(sdegeo:set-default-boolean“ABA”) 57艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?Selecting Materials for example, SiliconCreating Rectangular RegionsDraw > Create 2D Region > Rectangle, or click the corresponding toolbar button.Drag the pointer to draw a rectangle in the view window. The Exact Coordinates dialog box is displayed.Enter (-0.5 0.0), (0.5 1.0) in the corresponding fields and click OK.58艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?Creating Other Revice Rectangular Regions做什么用?顺序能换吗?The corresponding Scheme command is:(sdegeo:create-rectangle (position -0.5 0.0 0.0) (position 0.5 1.0 0.0) "Silicon" "region_1")(sdegeo:create-rectangle (position -0.2 -40e-4 0.0) (position 0.2 0.0 0.0) "SiO2" "region_2") (sdegeo:create-rectangle (position -0.2 -0.2 0.0) (position 0.2 -40e-4 0.0) "Si3N4" "region_3") (sdegeo:create-rectangle (position -0.1 -0.2 0.0) (position 0.1 -40e-4 0.0) "PolySilicon" "region_4") (sdegeo:create-rectangle (position -0.5 0.1 0.0) (position 0.5 0.2 0.0) "SiO2" "region_5")59艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?注意坐标轴方向-0.50.51X60艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?分块处理(需要对不同区域进行不同处理,比如大块的Si)Edit>Separate LumpsThe corresponding Scheme command is:(sde:assign-material-and-region-names "all")61艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?Rounding Edges (侧墙磨边处理)Edit > ParametersDefine fillet-radiusintheVariableVariablefieldandenter0.08fortheValueValue.Click Set and then click Close.Click the Selection Level list and select Select Vertex.Click the Aperture Select button in the toolbar. Click the upper-left corner of the spacer to highlight the vertex.Edit > Edit 2D > Fillet.Repeat the last two steps with the upper-right corner of the spacer.62艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?Rounding Edges (侧墙磨边处理)The corresponding Scheme command is:(sde:define-parameter "fillet-radius" 0.08 0.0 0.0 )(sdegeo:fillet-2d (find-vertex-id (position -0.2 -0.2 0.0)) fillet-radius) (sdegeo:fillet-2d (find-vertex-id (position 0.2 -0.2 0.0)) fillet-radius)63艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?定义ContactsContacts > Contact Sets.The Contact Sets dialog box is displayed.定义contacts属性. 在 Contact Name 中输入名字.在 Edge Color 中给contact赋RBG颜色;也可以修改Edge Thickness 值用来区分contact; Face Pattern一项只对一项只对定义3D contacts有效64艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?定义Contacts点击 Set 增加 已经定义好的Contact. 重复操作Close为什么要定义电极The corresponding Scheme command is:(sdegeo:define-contact-set "source" 4.0 (color:rgb 1.0 0.0 0.0 ) "##") (sdegeo:define-contact-set "drain" 4.0 (color:rgb 0.0 1.0 0.0 ) "##") (sdegeo:define-contact-set "gate" 4.0 (color:rgb 0.0 0.0 1.0 ) "##") (sdegeo:define-contact-set "substrate" 4.0 (color:rgb 1.0 1.0 0.0 ) "##") (sdegeo:define-contact-set "bodytie" 4.0 (color:rgb 1.0 0.0 1.0 ) "##")65艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?将已经定义好的Contacts设置到边界上Contacts > Contact Sets.The Contact Sets dialog box is displayed.在已经定义好的库中,选择需要的contact,比如source点击Activate激活被选中的contact其他类似操作66艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?将已经定义好的Contacts设置到边界上用选择边界工具选中边界Contacts > Set Edge(s)(3/5)The corresponding Scheme command is:(sdegeo:define-2d-contact (find-edge-id (position -0.4 0.0 0.0)) "source") (sdegeo:define-2d-contact (find-edge-id (position 0.4 0.0 0.0)) "drain") (sdegeo:define-2d-contact (find-edge-id (position 0.0 1.0 0.0)) "substrate")67艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?Adding VerticesDraw > Add Vertex or click the corresponding toolbar button.Exact Coordinates 对话出现输入(-0.1 0.1)和和(-0.05 0.1)创造2个端点4/5The corresponding Scheme command is:(sdegeo:insert-vertex (position -0.10 0.1 0.0)) (sdegeo:insert-vertex (position -0.05 0.1 0.0)) (sdegeo:define-2d-contact (find-edge-id (position -0.07 0.1 0.0)) "bodytie") 68艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?4个contacts定义完毕69艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?如何定义一个区域为contact选择方式为BodyContacts > Set Region Boundary EdgesEdit > 2D Edit Tools > Delete RegionThe corresponding Scheme command is:(sdegeo:set-current-contact-set "gate") (sdegeo:set-contact-boundary-edges (find-body-id (position 0.0 -0.1 0.0))) (sdegeo:delete-region (find-body-id (position 0.0 -0.1 0.0)))70艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?区域重命名默认区域名字一般为region_1或者region_1_lump,不适合后期进行掺杂或者网格定义等操作步骤:选取方式为Body选择区域Edit > Change Region Name完成命名规则化71艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?卡命令-R代表Region为了能查看刚改的区域命名情况The corresponding Scheme command is:(sde:add-material (find-body-id (position 0.0 0.8 0.0)) "Silicon" "R.Substrate") (sde:add-material (find-body-id (position 0.0 0.15 0.0)) "SiO2" "R.Box") (sde:add-material (find-body-id (position 0.0 0.05 0.0)) "Silicon" "R.Siliconepi") (sde:add-material (find-body-id (position 0.0 -20e-4 0.0)) "SiO2" "R.Gateox") (sde:add-material (find-body-id (position -0.15 -0.1 0.0)) "Si3N4" "R.Spacerleft") (sde:add-material (find-body-id (position 0.15 -0.1 0.0)) "Si3N4" "R.Spacerright")The corresponding Scheme command is:(sde:showattribs "all")改名72艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generate 2D boundaries?保存器件结构.sat(SE特有)File > Save Mode保存器件结构.tdrThe corresponding Scheme command is:(sde:save-model "soifet_bnd")The corresponding Scheme command is:(sdeio:save-tdr-bnd (get-body-list) "soifet_bnd.tdr")73艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generating doping profiles硅衬底掺杂Device > Constant Profile Placement材料选择硅选择常数掺杂掺杂杂质为boron,浓度为1e15点击Add/Change PlacementClose The corresponding Scheme command is:(sdedr:define-constant-profile "Const.Silicon" "BoronActiveConcentration" 1e+15) (sdedr:define-constant-profile-material "PlaceCD.Silicon" "Const.Silicon" "Silicon")74艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generating doping profiles硅外延掺杂Device > Constant Profile Placement选择区域名为R.Siliconepi掺杂杂质为boron,浓度为1e17点击Add/Change PlacementClose The corresponding Scheme command is:(sdedr:define-constant-profile "Const.Epi" "BoronActiveConcentration" 1e17) (sdedr:define-constant-profile-region "PlaceCD.Epi" "Const.Epi" "R.Siliconepi")75艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generating doping profiles解析掺杂Mesh > Define Ref/Eval Window > Line (基线)(基线)Enter (-0.8 0) for the start point and click OKEnter (-0.2 0) for the end point and click OK重复重复The corresponding Scheme command is:(sdedr:define-refinement-window "BaseLine.Source" "Line" (position -0.8 0.0 0.0) (position -0.2 0.0 0.0)) (sdedr:define-refinement-window "BaseLine.Drain" "Line" (position 0.2 0.0 0.0) (position 0.8 0.0 0.0)) (sdedr:define-refinement-window "BaseLine.SourceExt" "Line" (position -0.8 0.0 0.0) (position -0.1 0.0 0.0)) (sdedr:define-refinement-window "BaseLine.DrainExt" "Line" (position 0.1 0.0 0.0) (position 0.8 0.0 0.0))76艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generating doping profiles解析掺杂Device > Analytic Profile Placement杂质为磷,选取高斯分布方式SourceExt和DrainExt形成LDD77艺及器件仿真工具Sentaurus优秀How to generating doping profiles保存掺杂分布.sat(SE特有)File > Save ModeThe corresponding Scheme command is:(sde:save-model “soifet_dop_sde”)需要?78艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Generating Meshes网格策略主要步骤硅外延区域-精网格布置Mesh > Refinement Placement选择R.Siliconepi区域X方向,最大网格0.1最小0.005Y方向,最大0.0125最小0.005选择掺杂渐变函数79艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Generating Meshes定义窗口(不能利用区域的时候)Mesh > Define Ref/Eval Window > Rectangle对channel和整体部分进行定义The corresponding Scheme command is:(sdedr:define-refinement-window "RefWin.all" "Rectangle" (position -0.5 1.0 0.0) (position 0.5 -0.2 0.0)) (sdedr:define-refinement-window "RefWin.Channel" "Rectangle" (position -0.1 0.0 0.0) (position 0.1 0.1 0.0))80艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Generating Meshes利用定义好的窗口进行网络布置Mesh > Refinement PlacementRef/Win选择RefWin.allX方向,最大0.25最小0.1Y方向,最大0.25最小0.1较粗略的网格安排The corresponding Scheme command is:(sdedr:define-refinement-size "RefDef.all" 0.25 0.1 0.25 0.1) (sdedr:define-refinement-placement "PlaceRF.all" "RefDef.all" "RefWin.all")81艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Multibox Mesh Strategy in Refinement Windows策略策略由于在某些应用中会需要用到逐渐变化的网格线的策略比如在MOS管沟道,尤其是Silicon-Oxide交界面处,需要密集的网格线以便于计算,而离该界面越远,需要的网格可以越宽松。
这样既可以省去CPU计算时间,又可以为器件结构带来精确计算具体步骤如下82艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Generating Meshes Multibox Mesh StrategyMesh > Multibox Placement选取定义好的RefWin.Channel块X方向和Y方向的策略见图保存保存The corresponding Scheme command is:(sdedr:define-multibox-size "MB.Channel" 0.05 0.0125 0.025 1e-4 1 1.35) (sdedr:define-multibox-placement "PlaceMB.Channel" "MB.Channel" "RefWin.Channel")(sde:save-model “soifet_msh_sde”)83艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Generating MeshesMeshing the Device Structure网格策略基本布置完成,仍然需要利用Meshing engine把网格建造出来步骤Mesh > Build Mesh-s (2D必须选)-F (产生.tdr)3D则用NOFFSET引擎SNMesh三角网格84艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Generating MeshesMESH成果SDE查看Tecplot查看85艺及器件仿真工具Sentaurus优秀3D3D MOSFET86艺及器件仿真工具Sentaurus优秀TCAD概述T4 / MediciSentaurusISE Silvaco sprocesssdesdeviceTCAD*_fps.tdr*_fps.cmd*_bnd.tdr*.tdr*_msh.tdr*.plt*_dvs.cmd*_des.cmdWorkbench (SWB)87艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Sentaurus Device Simulator内嵌一维、二维及三维器件物理特性模型仿真的方式主要是通过数值求解一维、二维或三维的半导体物理基本方程(泊松方程、连续性方程及运输方程)得到经工艺仿真而生成的或自定义的器件在有源或无源以及相应的外围电路作用下的电学参数和电学特性仿真对象多元化Sentaurus Device除了能实现传统的硅器件的仿真外,还可以进行光电器件、异质结器件、量子器件以及化合物半导体器件的物理特性模拟88艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Sentaurus Device SimulatorSentaurus Device支持三种仿真类型:单器件型、单器件-电路型、多器件-电路型89艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Sentaurus Device SimulatorSentaurus Device通过数值模拟和可视化的输出,可以得到器件在无源状态下的内部结构和器件物理特性参数如各区域内的电位、电场、杂质的纵向分布、横向分布及等位分布各区域内载流子寿命、迁移率及其与杂质浓度间的定量关系各区域内的电流密度、电子复合率与产生率的变化各区域内电场场强和内电势分布等数据!90艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Sentaurus Device SimulatorSentaurus Device在保留经典器件物理特性模型基础上,又增加了许多小尺寸器件物理模型,以满足当前对纳米器件物理特性分析的技术需求有载流子隧道击穿模型包括直接隧道击穿热电子发射诱发的击穿非局域隧道击穿等这些模型的引入为分析各类小尺寸效应的特定成因和危害提供了有效的途径91艺及器件仿真工具Sentaurus优秀SentaurusD Examples晶体管CMOS图像传感器闪存SCR结构电流路径ESD92艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Sentaurus DeviceFile{……}定义器件结构的输入文件和输出文件的名称…………Thermode{……}定义器件的电极温度(可以省略)…………Electrode{……}定义器件的电极相关信息…………Physics{……}定义器件过程中使用的物理模型…………Plot{……}定义所有的计算变量…………Math{……}定义DESSIS仿真时算法的设置…………Solve{……}定义电压扫描,仿真电学特性…………93艺及器件仿真工具Sentaurus优秀File{…}Grid = “@tdr@”Parameters = “@parameters@”Output = “@log@”Current = “@plot@”Plot = “@tdrdat@”94艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Electrode{…}*DC simulation Electrode{ { Name="Anode" Voltage=0.0 } { Name="Cathode" Voltage=0.0 } }注意:电极的名称要和Structure Editor中定义的电极名称 完全一致!95艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Physics{…}Physics{eQCvanDort EffectiveIntrinsicDensity( OldSlotboom ) Mobility( DopingDep eHighFieldsaturation( GradQuasiFermi ) hHighFieldsaturation( GradQuasiFermi ) Enormal ) Recombination( SRH( DopingDep )) }}96艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Plot{…}Plot{*--Density and Currents, etc eDensity hDensity TotalCurrent/Vector eCurrent/Vector hCurrent/Vector eMobility hMobility eVelocity hVelocity eQuasiFermi hQuasiFermi*--Temperature eTemperature Temperature * hTemperature*--Fields and charges ElectricField/Vector Potential SpaceCharge*--Doping Profiles Doping DonorConcentration AcceptorConcentration97艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Plot{…}*--Generation/RecombinationSRH Band2Band * AugerAvalancheGeneration eAvalancheGeneration hAvalancheGeneration*--Driving forceseGradQuasiFermi/Vector hGradQuasiFermi/VectoreEparallel hEparallel eENormal hENormal*--Band structure/CompositionBandGap BandGapNarrowingAffinityConductionBand ValenceBandeQuantumPotential}98艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Math {…}Math {ExtrapolateIterations=20Notdamped =100RelErrControlErRef(Electron)=1.e10ErRef(Hole)=1.e10BreakCriteria{ Current(Contact="Anode" AbsVal=1e-7) } }99艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Solve{…}minstep的数值至少比initialstep少3个数量级 Solve {*- Build-up of initial solution:NewCurrentFile="init"Coupled(Iterations=100){ Poisson }Coupled{ Poisson Electron }*- Bias drain to target biasQuasistationary(InitialStep=0.01 Increment=1.35 MinStep=1e-6 MaxStep=0.02Goal{ Name="Anode" Voltage= 20 }){ Coupled{ Poisson Electron } }}100艺及器件仿真工具Sentaurus优秀其他Sentuarus工具Noffset3D(3D网格引擎)101艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Ligament-Flow用户交互式的工艺流程102艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Ligament-layout103艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Inspect104艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Inspect105艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Inspect106艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Inspect107艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Tecplot108艺及器件仿真工具Sentaurus优秀看电流流向109艺及器件仿真工具Sentaurus优秀Assignment用sprocess跑出一个NMOS管(提供cmd文件)用structure editor优化网格用sdevice跑出直流击穿电压(器件关断时,漏端扫直流电压,漏端漏电流刚大于等于1x10-7安培时的漏端电压为击穿电压)用Inspect观察漏端电压-电流曲线,从电压-电流曲线数据中得到精确的直流击穿电压值优化改进器件参数,使器件的直流击穿电压值提高20%以上110艺及器件仿真工具Sentaurus优秀谢谢!Q & A111艺及器件仿真工具Sentaurus优秀。












