电子行业2023年投资策略:MR引领创新安全与复苏齐头并进
MR姓名:王聪(分析师)姓名:刘堃(分析师)姓名:邓佳(研究助理)邮箱:dengjia电话:021-38677235姓名:舒迪 (分析师 )邮箱:shudi电话:021-38676666邮箱:wangcong电话:021-38676820邮箱:liukun024688电话:021-38038386证书编号: S0880517010002证书编号: S0880522020002证书编号: S0880122100061证书编号: S0880521070002姓名:郭航(研究助理)姓名:文紫妍(研究助理)姓名:陈豪杰(研究助理)姓名:刘校(研究助理)邮箱:guohang024937邮箱:wenziyan邮箱:chenhaojie026733电话:021-38038663邮箱:liuxiao026731电话:021-38038661电话:021-38038432电话:021-38038321证书编号: S0880121080011证书编号: S0880121070034证书编号: S0880122080153证书编号: S08801220700500 1、逆全球化势不可挡,安全自主可控迈入新篇章。在中美科技摩擦背景下,安全自主可控步入新篇章,看好CPU、GPU、FPGA、设备与材料等国产化的突破加速。此外,汽车从电动化布局转向智能化的差异竞争,汽车智能化迎来加速推广,看好汽车芯片需求端快速成长。2、MR引领创新趋势,国内厂商深度受益。(1)零组件:现象级产品苹果MR将在2023年发布,巨头产品落地有望加快AR/VR/MR眼镜硬件创新和渗透,以果链为代表的零组件板块有望逐步修复。同时智能手表、折叠屏以及汽车电子等需求持续渗透,拥有品类扩张逻辑的制造平台性企业最为受益。(2)PCB:目前PCB下游汽车、服务器以及XR眼镜持续进行技术升级,将进一步打开PCB广阔空间并加速产业结构优化,国内厂商深度布局未来充分受益。3、需求端逐步改善,行业打开新空间。(1)被动元件:受益于光伏、新能源车等行业驱动,薄膜电容、铝电解电容等产品仍有较大的成长空间;MLCC、电感等产品经历了一波较长的去库存,目前行业库存水平已非常低,需求有望在2023-2024年迎来逐步改善,相关公司可以看到至少2年的改善期。(2)AI+安防:从短期看,2022年安防的各类客户需求都受到了疫情较大的影响,2023年的需求有望在放开之下重回增长趋势;从长期看,智能物联与企业端的数字化转型有望打开安防行业新的增长空间。(3)面板与LED:LCD面板价格触底,长期格局改善行业周期性弱化;LED显示微型化,Mini LED蓄势待发4、推荐标的:圣邦股份、兆易创新、龙芯中科、瑞芯微、安路科技、北方华创、中微公司、国芯科技、华兴源创、天岳先进、中瓷电子、东山精密、鹏鼎控股、立讯精密、环旭电子、斯达半导、海康威视、江海股份、顺络电子、洁美科技、法拉电子、京东方A。5、风险提示:汇率大幅波动;上游原材料价格剧烈波动;中美贸易摩擦的不确定性请参阅附注免责声明1 2 请参阅附注免责声明3 BIS524BIS 1 2280390110“”16/14nmfinfet/gaafet1102018nmDRAM 128NAND 3 452UVLEAR UVL3125% 5 28152405G5G请参阅附注免责声明4BIS 90%80%70%60%50%40%30%20%10%0%4504003503002502001501005022%20%18%16%14%12%10%2017201820192020202102015201620172018201920202021长江存储中芯绍兴华虹无锡华力微积塔国产半导体设备销售额(左轴:亿元)国产化率(右轴:%)株洲中车68%70%22H122H122H12022H118-21CAGR18-21CAGR18-21CAGR18-21CAGR54.4419.7242.82%23.78%7.5474.67853.38%116.23%107.10 24.8754.05%39.19%56.7815.9451.40%93.54%18181.030.680.361.98217.175.23120.19%181.73%1.85719.5415.63137.41%10.03234.43%303.72%211.08181.95%10.875.0411.885.4110.9611.202.6958.04%91.25%58.95%43.35%45.68%27.87%55.34%68.09%0.6942.4512.7052.3660.8140.640 1.69014.06%71.63%56.57%23.37%97.45%21.41%158.80%68.10%11.6613.012.0719.3714.002.36 3.98119.15%72.48%72.46%108.93%37.20%45.76%74.46%76.64%6.280.091.013.984.470.270.33182.87%31.04%85.43%177.71%89.76%54.94%5.9873.68%130.48%请参阅附注免责声明5 BISFab300/BISICRD/2019202020212022E2.52023E2024E2025EFab-164-128L10351011.5Fab-2Fab-3Fab-1Fab-2Fab-33D NAND128-256L256L19-17nm17-15nm101012121237.51102124582468DRAMDRAM15nmFab-117nm112232Fab-115nm75Fab-BNOR90/65/45nm25/19nm4.52253DRAM101041040-28nmFab690-40/55nm4290-28nm10Fab-7Fab-9Fab6/90-55nm90-40/28nm28/22-40nm28-7nm101040.53236.539.545Fab8ICRD28nm/90-65nm28/14nm424/10请参阅附注免责声明6 * * 120-133%20%ICP19.28.4TELASMLLAM60%+75%50%+-128.072.08.056.031.53.545%5%25%CCP50%80.035.0LAM50%+6-8%6.36.32.72.76-8%PVD13-15%AMAT(60%+)23-25%30%54-58%26.949.376.825.625.632.013.431.457.630.411.74.711.821.633.611.211.214.05.913.725.213.35.180%CVD4-5%3-4%10-12%AMAT(30%)AMAT(70%)(30%)CMP4-5%Axcelis(30%)30-40%60-70%Screen(30%)KLA(60%+)7%9-10%SOC(65%)(25%)(10%)Teradyne(45-50%)Advantest(35-40%)(65%)2.0(8%-9%)(18%)(15%)(2%)13.010.81.45.74.70.6COHU(20%)(46%)-8-9%72.0800.031.5350.0ASMPT请参阅附注免责声明7 + 1 2 3A/ 1 2 3VendorFab16/14nm18nmDRAM 1283DNAND/AAFab/KLA 4 5Chiplet 6 7请参阅附注免责声明8 扩散(重复步骤)光刻(重复步骤)氧化热处理激光退火清洗涂胶光刻显影测量氧化炉RTP设备激光退火设备清洗机涂胶机光刻机显影机CD/SEM刻蚀(重复步骤)离子注入(重复步骤)干刻/蚀刻清洗离子注入去胶清洗干刻/蚀刻机清洗机离子注入机等离子去胶机清洗机抛光(重复步骤)检测薄膜沉积(重复步骤)物理气相沉积清洗RTP清洗抛光清洗检测物理气相沉积设备清洗机RTP设备清洗机CMP设备清洗机检测设备请参阅附注免责声明9 探针台+测测试机+分探针台+测曝光量测设备、质谱仪、原子显微镜、光罩缺陷检查机等测试机+分清洗溅射涂胶试机选机试机选机清洗机溅射设备涂胶机光刻机晶晶晶圆晶圆(圆测(圆测允试允试终检(FT)终检(FT)刻蚀去胶电镀显影许(许()测)测试试)刻蚀机去胶机电镀设备显影机封装后测试封装前测试封装后测试过程控制测试封装前测试涂覆助焊剂涂覆设备回炉焊接清洗检测回炉焊接设备清洗机检测仪器IC设计IC制造IC封装请参阅附注免责声明10
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金贝
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电子
行业
2023
投资
策略
MR
引领
创新
安全
复苏
齐头并进
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-
MR
姓名:王聪(分析师)
姓名:刘堃(分析师)
姓名:邓佳(研究助理)
邮箱:dengjia@
电话:021-38677235
姓名:舒迪 (分析师 )
邮箱:shudi@
电话:021-38676666
邮箱:wangcong@
电话:021-38676820
邮箱:liukun024688@
电话:021-38038386
证书编号: S0880517010002
证书编号: S0880522020002
证书编号: S0880122100061
证书编号: S0880521070002
姓名:郭航(研究助理)
姓名:文紫妍(研究助理)
姓名:陈豪杰(研究助理)
姓名:刘校(研究助理)
邮箱:guohang024937@邮箱:wenziyan@
邮箱:chenhaojie026733@
电话:021-38038663
邮箱:liuxiao026731@
电话:021-38038661
电话:021-38038432
电话:021-38038321
证书编号: S0880121080011
证书编号: S0880121070034
证书编号: S0880122080153
证书编号: S0880122070050
0
1、逆全球化势不可挡,安全自主可控迈入新篇章。在中美科技摩擦背景下,安全自主可控步入新篇章,看好CPU、GPU、FPGA、设备
与材料等国产化的突破加速。此外,汽车从电动化布局转向智能化的差异竞争,汽车智能化迎来加速推广,看好汽车芯片需求端快速成长。
2、MR引领创新趋势,国内厂商深度受益。(1)零组件:现象级产品苹果MR将在2023年发布,巨头产品落地有望加快AR/VR/MR眼
镜硬件创新和渗透,以果链为代表的零组件板块β有望逐步修复。同时智能手表、折叠屏以及汽车电子等需求持续渗透,拥有品类扩张逻
辑的制造平台性企业最为受益。(2)PCB:目前PCB下游汽车、服务器以及XR眼镜持续进行技术升级,将进一步打开PCB广阔空间并加
速产业结构优化,国内厂商深度布局未来充分受益。
3、需求端逐步改善,行业打开新空间。(1)被动元件:受益于光伏、新能源车等行业驱动,薄膜电容、铝电解电容等产品仍有较大的
成长空间;MLCC、电感等产品经历了一波较长的去库存,目前行业库存水平已非常低,需求有望在2023-2024年迎来逐步改善,相关公
司可以看到至少2年的改善期。(2)AI+安防:从短期看,2022年安防的各类客户需求都受到了疫情较大的影响,2023年的需求有望在
放开之下重回增长趋势;从长期看,智能物联与企业端的数字化转型有望打开安防行业新的增长空间。(3)面板与LED:LCD面板价格
触底,长期格局改善行业周期性弱化;LED显示微型化,Mini LED蓄势待发
4、推荐标的:圣邦股份、兆易创新、龙芯中科、瑞芯微、安路科技、北方华创、中微公司、国芯科技、华兴源创、天岳先进、中瓷电子、
东山精密、鹏鼎控股、立讯精密、环旭电子、斯达半导、海康威视、江海股份、顺络电子、洁美科技、法拉电子、京东方A。
5、风险提示:汇率大幅波动;上游原材料价格剧烈波动;中美贸易摩擦的不确定性
请参阅附注免责声明
1
2
请参阅附注免责声明
3
BIS
524
BIS
1
2
280
390
110
“
”
16/14nm
finfet/gaafet
110
20
18nm
DRAM 128
NAND
3
4
5
2
UVL
EAR UVL
31
25%
5 28
15
240
5G
5G
请参阅附注免责声明
4
BIS
90%
80%
70%
60%
50%
40%
30%
20%
10%
0%
450
400
350
300
250
200
150
100
50
22%
20%
18%
16%
14%
12%
10%
2017
2018
2019
2020
2021
0
2015
2016
2017
2018
2019
2020
2021
长江存储
中芯绍兴
华虹无锡
华力微
积塔
国产半导体设备销售额(左轴:亿元)
国产化率(右轴:%)
株洲中车
68%
70%
22H1
22H1
22H1
2022H1
18-21CAGR
18-21CAGR
18-21CAGR
18-21CAGR
54.44
19.72
42.82%
23.78%
7.547
4.678
53.38%
116.23%
107.10
24.87
54.05%
39.19%
56.78
15.94
51.40%
93.54%
18
18
1.03
0.68
0.36
1.98
21
7.17
5.23
120.19%
181.73%
1.857
19.54
15.63
137.41%
10.03
234.43%
303.72%
21
1.081
81.95%
10.87
5.04
11.88
5.41
10.96
11.20
2.69
58.04%
91.25%
58.95%
43.35%
45.68%
27.87%
55.34%
68.09%
0.694
2.451
2.705
2.366
0.814
0.640
1.690
14.06%
71.63%
56.57%
23.37%
97.45%
21.41%
158.80%
68.10%
11.66
13.01
2.07
19.37
14.00
2.36
3.98
119.15%
72.48%
72.46%
108.93%
37.20%
45.76%
74.46%
76.64%
6.28
0.09
1.01
3.98
4.47
0.27
0.33
182.87%
31.04%
85.43%
177.71%
89.76%
54.94%
5.98
73.68%
130.48%
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5
BIS
Fab
300
/
BIS
ICRD
/
2019
2020
2021
2022E
2.5
2023E
2024E
2025E
Fab-1
64-128L
10
3
5
10
11.5
Fab-2
Fab-3
Fab-1
Fab-2
Fab-3
3D NAND
128-256L
≥256L
19-17nm
17-15nm
10
10
12
12
12
3
7.5
1
10
2
12
4
5
8
2
4
6
8
DRAM
DRAM
15nm
Fab-1
17nm
1
1
2
2
3
2
Fab-1
15nm
7
5
Fab-B
NOR
90/65/45nm
25/19nm
4.5
2
2
5
3
DRAM
10
10
4
10
40-28nm
Fab6
90-40/55nm
4
2
90-28nm
10
Fab-7
Fab-9
Fab6
/
90-55nm
90-40/28nm
28/22-40nm
28-7nm
10
10
4
0.5
3
2
3
6.5
3
9.5
4
5
Fab8
ICRD
28nm
/
/
90-65nm
28/14nm
4
2
4
/
/
10
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6
*
*
• 1
2
0-1
3
3%
20%
ICP
19.2
8.4
TEL
ASML
LAM
60%+
75%
50%+
-
128.0
72.0
8.0
56.0
31.5
3.5
45%
5%
25%
CCP
50%
80.0
35.0
LAM
50%+
6-8%
6.3
6.3
2.7
2.7
6-8%
PVD
13-15%
AMAT(60%+)
23-25%
30%
54-58%
26.9
49.3
76.8
25.6
25.6
32.0
13.4
31.4
57.6
30.4
11.7
4.7
11.8
21.6
33.6
11.2
11.2
14.0
5.9
13.7
25.2
13.3
5.1
80%
CVD
4-5%
3-4%
10-12%
AMAT(30%)
AMAT(70%)
(30%)
CMP
4-5%
Axcelis(30%)
30-40%
60-70%
Screen(30%)
KLA(60%+)
7%
9-10%
SOC
(65%)
(25%)
(10%)
Teradyne(45-50%)
Advantest(35-40%)
(65%)
2.0
(8%-9%)
(18%)
(15%)
(2%)
13.0
10.8
1.4
5.7
4.7
0.6
COHU(20%)
(46%)
-
8-9%
72.0
800.0
31.5
350.0
ASMPT
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7
+
1
2
3
A/
1
2
3
Vendor
Fab
16/14nm
18nm
DRAM 128
3DNAND
/
A
A
Fab/
/
/
KLA
4
5
Chiplet
6
7
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8
扩散(重复步骤)
光刻(重复步骤)
氧化
热处理
激光退火
清洗
涂胶
光刻
显影
测量
氧化炉
RTP设备
激光退火设备
清洗机
涂胶机
光刻机
显影机
CD/SEM
刻蚀(重复步骤)
离子注入(重复步骤)
干刻/蚀刻
清洗
离子注入
去胶
清洗
干刻/蚀刻机
清洗机
离子注入机
等离子去胶机
清洗机
抛光(重复步骤)
检测
薄膜沉积(重复步骤)
物理气相
沉积
清洗
RTP
清洗
抛光
清洗
检测
物理气相沉积
设备
清洗机
RTP设备
清洗机
CMP设备
清洗机
检测设备
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9
探针台+测
测试机+分
探针台+测
曝光
量测设备、
质谱仪、
原子显微
镜、光罩
缺陷检查
机等
测试机+分
清洗
溅射
涂胶
试机
选机
试机
选机
清洗机
溅射设备
涂胶机
光刻机
晶
晶
晶
圆
晶
圆
(圆
测
(圆
测
允
试
允
试
终检(FT)
终检(FT)
刻蚀
去胶
电镀
显影
许
(
许
(
)测
)测
试
试
)
)
刻蚀机
去胶机
电镀设备
显影机
封装后测
试
封装前测
试
封装后测
试
过程控制
测试
封装前测
试
涂覆助焊剂
涂覆设备
回炉焊接
清洗
检测
回炉焊接设备
清洗机
检测仪器
IC设计
IC制造
IC封装
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