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精品资料UV紫外线清洗机浅析........................................UV紫外线清洗机浅析UV紫外线清洗机浅析紫外线清洗是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清浩度可以根据被照物体形状设计灯管形状及设备可以在大气中处理，使用方便不同于其它处理方式，对被照射物体没有损伤，保持平滑性，成本低下面深圳三和波达科技的小编就给大家简单介绍一下　　1紫外线表面清洗原理　　紫外线表面清洗是近年来新兴的清洗方法紫外线表面清洗法不同于原有清洗法，没有废水，废气，废物产生是高能环保型清洗杀菌方法广泛运用于LCD,PCB，点子，印刷，塑胶，玻璃，涂装等领域　　紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度　　其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，高于大多数有机物的结合能量由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。

空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气氧原子具有极强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，彻底清除物体表面的污染物这就是紫外线清洗的原理　　清洗法有干洗和湿洗两种干洗有UV臭氧清洗，等离子清洗，离子清洗等湿洗有水洗，碱清洗，酸清洗，液体喷射清洗等我们日常所熟悉的湿式清洗有可以清洗掉较大范围污染的优点但是也会有清洗不掉的污染同时由于清洗的溶剂会在被清洗物表面残留，因此对于高精密世界来说也是个污染　　与此相反UV紫外线清洗虽然不能清洗掉大范围的污染，却可以清洗到各个角落的就是光洗净技术(以下简称UV臭氧清洗)在纳米技术世界里，我们虽然看不到有机性污染，但是有机污染在表面形成膜(软接着层)如果在这层膜上印刷的话，就会出现鲜度恶化以及针孔等障碍UV臭氧清洗可以去除的污染有有机化合物以及含有油脂的污染等　　2二次污染的注意---玻璃表面的有机性污染膜厚度在单分子层以下时是非常清洁的表面状态即便是在实验室或这是无菌室里的大气中也会有微量的挥发性有机化合物或者硫化合物，将洗净玻璃放置于这种环境下也会被这些蒸汽污染。

高度清洗过后的表面接触角会在30分到1小时内恢复到20度因此我们认为超高清洁玻璃不易长时间保存　　3可以将粒子极限清洗的清洗工艺---UV臭氧清洗和湿式清洗的结合. UV臭氧清洗是使有机性污染膜清洗到单分子层以下的高清洗技术，如下图所示在完成清洗阶段使用UV臭氧清洗技术但是UV臭氧清洗对于粒子没有效果同时湿式清洗不能完全清除有机性污染，会保留几个分子层厚度的油膜被这些油墨所吸收的粒子在冲洗过程中很难被全部清洗掉UV臭氧清洗是完成阶段的清洗，在生产过程中我们发现了如下图所示UV臭氧清洗后使用例如温水冲洗的清洗工艺UV臭氧清洗如图所示油膜基本上都可以清除在此之后使用纯水冲洗可以将没有油膜保护的粒子很容易的冲洗掉，得到没有粒子，没有有机污染物的高清洁面　　这种技术方法不但在液晶显示装置的现场使用，在原版曝光和分光板的制造工程中也被大量使用　　4. SEN 紫外线UV光清洗的优点:SEN UV灯照度高，照射时间短，使用寿命长，　　光衰低(一般在使用7000小时的光衰在60%)　　紫外线UV光清洗技术的应用范围:液晶显示器件、触摸屏、半导体硅芯片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料主要材料：ITO 玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅芯片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。

可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等　　以上就是三和波达小编给大家带来的简单介绍，如果您还想了解其他关于等离子设备更多内容可以拨打我们的热线，或者点击官网咨询我们，或者点击咨询我们　　深圳三和波达机电科技有限公司是一家研制、开发、设计、生产、销售、服务于一体的高新技术企业，大型工业自动化的大型中外合作企业　　主要生产研发：　　等离子清洗机、真空等离子清洗机、大气常压等离子清洗机　　公司通过ISO9001:2000国际质量管理体系认证，同时深入推行7S管理，响应联合国计划开发署“淘汰ODS物质”号召，研制、开发与国际先进技术同步的环保产品三和波达系列产品，采用当今国内外先进技术，进口名牌电子元器件、原材料制造，目前已形成18个系列，100多种规格，品种齐全的标准化系列产品大型非标产品均实现PLC、工控网络控制，触摸屏显示。