光刻工艺总结.doc

光刻岗位工艺总结引言：本文仅供大家参考，文章中错误之处请大家指正希望后续光刻工艺员可以根据自己的实际工作经验将该总结不断完善一、 光刻各岗位基本工艺知识及工艺过程控制要点：1、 上料上料机原理使用机械手上料，并对每片玻璃的阻值厚度进行检测2、 清洗：清洗干燥的原理去除ITO玻璃表面残留的灰尘、有机物等,为涂胶提供干净、干燥的ITO玻璃；重要清洗方式 洗洁精+超声+高纯水+IRUV 洗洁精的去污原理：洗洁精（表面活性剂）可以使不相溶的液体成为乳浊液通过此乳化作用将油脂包围在水中而形成乳浊液来达成去污作用，玻璃通过洗洁精去油污后，再依次用大量的自来水，去离子水冲洗就可以达成洁净玻璃表面的目的高纯水清洗可去除溶于水的杂质及一些灰尘，同时还可以将上工序的洗洁精去除掉；超声波作用机理：通过超声空化作用，存在于液体中的微气泡（空气核）在声场的作用下振动，当声压达成一定的值时，气泡将迅速增长，然后忽然闭合，在气泡闭合时产生冲击波，在其周边产生上千个大气压的压力，破坏不溶性污物而使它们分散在清洗液中IR重要是将玻璃表面的水份烘干，通过清洗后的玻璃，表面沾有水或者有机溶剂等清洗液，这将会对后续工序导致不良影响，特别是光刻工艺会产生浮胶，钻刻，图形不清楚等，因此玻璃必须通过干燥解决。

UV重要是将有机物的长分子链打断成小分子链，从而达成去除有机物的目的；清洗效果评价方法测试接触角，接触角小于10度重要管理项目洗洁精浓度（四厂光刻用洗洁精为MG，其浓度最初为2%，后经实验验证，使用5%浓度的洗洁精清洗效果较好，后改用5%浓度的洗洁精进行清洗）洗洁精温度喷淋圧力及流量DIW喷淋流量刷子转速、下压距清洗时间（走速）IR/UV/CP温度曲线3、 涂胶，前烘：涂胶基本原理涂胶辊辊压与光刻胶膜后的关系图辊压压入量膜厚涂胶辊印压与光刻胶膜后的关系图印压压入量膜 厚光刻胶膜厚与辊压，印压的变化关系备注:1、此结论为涂胶辊供应商提供的经验曲线，仅供参考 2、根据实际调胶辊的经验，光刻胶的膜厚与辊压压入量的关系较大，与印压压入量的关系较小，工艺员在调整涂胶辊时可参考光刻胶膜厚与光刻胶粘度的变化关系结论：1.光刻胶粘度在20CP——40CP之间时，涂胶膜厚随光刻胶粘度增长而增长； 2.光刻胶粘度在40CP——60C之间时，涂胶膜厚不随光刻胶粘度变化而变化；备注：1. 光刻胶粘度为20CP时，出现较多条纹，采用其他粘度，涂胶效果良好；2. 此数据只是由一个涂胶辊测试得出，对于其他不同的涂胶辊也许有所不同，仅供参考；光刻胶特性光刻胶膜厚薄，曝光图像的分辨率高，对光刻胶的保护性弱；光刻胶膜厚厚，曝光图像的分辨率低，对光刻胶的保护性强；现行工艺条件，光刻胶粘度选择1.5～1.8um较为合适，既可以满足图像的解析度需要，又可以有效地保护ITO，减少断线的发生。

前烘的原理：目的是促使胶膜内溶剂充足挥发，使胶膜干燥以增长胶膜与ITO 表面的粘附性和胶膜的耐磨性烘炉温度设立的原则烘炉的温度设立以0.7t玻璃的温度曲线为基准，对于不同厚度的玻璃采用相同的温度设立，这样做的目的是减少生产过程中烘炉升温，降温的过程，从而提高生产效率由于不同厚度的玻璃选择相同的烘烤温度，所以不同厚度玻璃表面的光刻胶的固化限度不同，我们通过选择不同的曝光量得到相同的图形效果重要管理项目 光刻胶粘度 辊压和印压 胶辊转速前烘烘炉温度曲线规定 4、曝光岗位曝光基本原理光化学反映原理：光刻胶+UV+H2O 一种有机酸重要管理项目 平台温度 铬版温度间隙设定UV光强曝光量温湿度：由于光化学反映需要有水的参与，故曝光机中的湿度不可太低后烘烘炉温度曲线规定5、显影、后烘岗位显影的原理在室温下, 运用KOH溶液与曝过光的光刻胶层发生化学反映, 以获得酸刻时所需要的抗蚀保护膜的图形 后烘的原理因显影时胶膜会发生软化，膨胀影响胶膜的抗蚀能力，在显影后必须用适当的温度烘焙玻璃以除去水分，增强胶膜与玻璃的粘附性后烘温度略高于前烘条件重要管理项目显影液浓度显影液温度喷淋圧力显影时间及槽液更换频率后烘温度曲线规定6、酸刻岗位酸刻的原理用一定比例的酸液把玻璃上未受光刻胶保护的ITO 膜腐蚀掉，而将有光刻胶保护的ITO 保存下来，最终形成ITO 图形。

提高酸刻产能我们目前使用的酸刻液是HCl+HNO3+H2O按照30：1：24的配比配置而成的混合溶液对于7欧姆阻值和铝膜产品其酸刻节拍不可以满足15秒/片，对于目前的产能需要（85P/天），使用该酸刻混合溶液可以满足生产的需要以后假如需要继续提高酸刻产能需考虑更换酸刻液为HCl+FeCl3按照1：2配比的混合溶液之前已经做过实验，使用HCl+FeCl3的混合溶液其刻蚀速度会有明显提高，可以满足所有产品的15s/片的酸刻生产节拍，具体内容请参阅黄显甫写的《四厂FeCl3和HCl混合酸液工艺定型报告》重要管理项目Etching液温度Etching液浓度酸刻机走速酸刻液流量及喷淋压力7、脱膜岗位脱膜的原理把刻蚀后的玻璃上余下的光刻胶去掉，冲洗干净玻璃的表面的残胶和杂质，去膜液是用NaOH配制而成，它的碱浓度要高于显影液浓度重要管理项目脱膜液温度脱膜液浓度脱膜机走速脱膜液流量及喷淋压力脱膜超声强度8、短检岗位短路检查的质量控制要点（针对老式检查机）1、 及时对下料的玻璃进行抽检，防止半途出现大量短路现象；2、 在生产过程中定期使用标短玻璃对短路检查机进行校准，保证短检机在正常状态下工作；3、 尽量使用正反倒角结合的方法进行短路测试，由于测试时短检机针组由启动到速度稳定，有一个加速的过程，在这个阶段测试短路的结果不很准确；4、 对于不同线宽/缝宽的产品，短检机需要使用不同的走速。

5、 短检划伤的检查一定要重视，由于假如划伤轻微，也许导致黑白线废品，假如划伤严重，则为光刻缺划废品9、Al膜工艺的控制要点Al是一种化学性质活泼的金属，因其既容易与酸发生反映，又容易与碱发生反映，控制不妥极易发生大比例断线，生产中需要对其进行特别的工艺控制1、 后烘时需要降温生产；2、 酸刻需要减少酸刻液温度，减慢酸刻走速生产；3、 脱膜需要减少脱膜液温度生产；4、 必须关闭超声生产；二、 光刻常见异常解决方法：1. 上料机械手死机机械手死机，需要手动操作遥控器，将机械手复归至原点位置，具体参考维修组《机械手第一、第二原点复归手册》；2. 涂不上胶涂不上胶应从以下几方面查找因素：1、确认印压及印压原点是否调整对的；2、确认玻璃有没有冷却下来（CP冷却不够）；3、玻璃有没有问题（如：ITO朝下）；3. 涂胶气泡出现涂胶气泡的因素如下；1、印压偏大；2、玻璃在涂胶过程中有停顿也会出现涂胶气泡；3、涂胶辊和支持辊速度不一致；4. 玻璃背面粘胶一般是由于静电导致的；胶辊在运营过程中、涂胶过程中都会产生静电；假如出现背面粘胶，检查涂胶辊两测的托盘上的锡纸是否脱落或不完整；一般更换锡纸就OK了；5. 胶辊条纹胶辊凹槽内未清洗干净，被残留光刻胶（已经变干）堵塞，导致凹槽内没有光刻胶浸润；假如一直消不掉，须重新清洗胶辊；6. 正面粘胶导致大面积短路假如下料发现有粘胶，导致大面积短路，将酸刻机按“终了停止”，将酸刻机前的玻璃所有取出返工，然后清洗铬版；7. 曝光时CF/ITO分流错误分流机有一个传感器，通过感应BM来鉴定是否为CF，目的是将CF和ITO分流。

调整时1、将光发射装置调整到一个单粒的中间，使光照射在BM上；2、将感应器的光发射装置和光接受装置调整于同一位置；由于各个CF排版方式不同样，所以做CF之前必须确认感应器的位置；8. 曝光图形模糊检查送版时是否铬版药面放反；9. CF过期CF放置时间过久会吸潮，故CF过期需要在高温烘烤30分钟后方可使用；10. 彩膜曝光偏位彩膜曝光偏位有如下四种情况A. 玻璃基板四周的RGB相对于ITO向内侧偏移，玻璃中间的RGB相对于ITO不偏位；因素：基板平台的温度低，玻璃收缩掩模版温度高，掩模版外扩B. 玻璃基板四周的RGB相对于ITO向外侧偏移，玻璃中间的RGB相对于ITO不偏位； 因素：基板平台的温度高，玻璃外扩掩模版温度低，掩模版收缩C. RGB 相对于ITO向同一个方向偏移，且曝光自动对位标记偏位； 因素：曝光机中的相关参数设立不对的曝光机出现问题D. 玻璃四周局部RGB偏位,曝光自动对位标记不偏位； 因素：CF玻璃原材料问题E. 彩膜曝光偏位的解决方法现在使用的CF总长一般比铬版上曝光标记总长要小一点；要保证CF曝光时不发生偏位，须调整基板和掩膜版的温度，一般采用减少铬版温度和升高基板温度来调整偏位；特殊情况下（C）须调整曝光机里的相关参数：OFFSET X（调整X方向），OFFSET Y（调整Y方向），OFFSET T（让玻璃旋转一个固定的角度），使CF和铬版能很好的套合；通过曝光机显示器上的DX值可以初步判断是否有偏位，一般DX值在 -5 --- +5 之间时，不会有偏位，DX值为0时偏位最小；做彩色产品时，在酸刻前检首片CF，用激光修补机检查有无曝光偏位；假如有偏位，根据偏位情况做适当的调整；11. 显影局限性出现显影局限性，假如为规律性显影局限性，需考虑前烘炉中的pin的位置、高度是否合适，是否可以保证玻璃在前烘炉中各处距离热板高度相同。

其他情况可以从以下几个方面考虑：1、检查显影液浓度、喷压、流量是否满足工艺规定；2、测试曝光机光强，检查是否满足工艺规定；3、测试前烘炉温度曲线，确认是否在工艺范围内；4、测试光刻胶膜厚，检查是否有超标；5、确认光刻胶是否变质；6、确认显影喷淋是否存在摇作不摇的现象；7、确认显影喷淋槽中是否存在喷头堵塞或管道漏碱的情况；12. 酸刻局限性出现酸刻局限性，可以从以下几个方面考虑：1、检查酸刻液浓度、喷压、流量是否满足工艺规定；2、检查酸刻机走速是否和玻璃阻值匹配；3、确认是否是显影局限性导致的酸刻局限性；4、确认酸刻喷淋是否存在摇作不摇的现象；5、确认酸刻喷淋槽中是否存在喷头堵塞或管道漏酸的情况；6、确认酸刻过滤芯是否存在问题；13. 脱膜不净出现脱膜不净，假如为规律性脱膜不净，需考虑后烘炉中的pin的位置、高度是否合适，是否可以保证玻璃在后烘炉中各处距离热板高度相同其他情况可以从以下几个方面考虑：1、检查脱膜液浓度、喷压、流量是否满足工艺规定；2、测试后烘炉温度曲线，确认是否在工艺范围内；3、确认光刻胶是否变质；4、确认脱膜喷淋是否存在摇作不摇的现象；5、确认脱膜喷淋槽中是否存在喷头堵塞或管道漏碱的情况；14. 酸刻房的维护酸刻房使用的是强酸，酸的腐蚀性特别强，酸刻房的维护保养非常重要；重点做到防止，防止酸及酸气泄露，要做到以下几点：1、正常生产时，不要打开酸刻机侧盖及上盖；2、发现漏酸及时解决。