0.6微米EEPROM工艺制造的转让和优化.doc

硕 士 学位 论文系 ： �本 论文课题 源于集 成 电 路 制造 业的 生 产 实 践 目前， 该系列 工艺研究 结 果 已关 键词： �����甮 ． ����� ������； ����    注 入 高 能量 的 磷和硼， 与接触孔 相 连 注 入 低 能量 的 硼和磷， 在后 续的 一些 氧 化 步 骤 中被推进 � � ／� � 能有 效� ． � ／� ／� � 疘 � ／� � � 浮栅 薄 氧 化层 结 构 的� � � 的工 作原 理 及 等 效电 学 模 型 ．上 ◆ ���� � � 结 构 采用� � � �� ， � � ／ � � � � 瓹 � � � � 木 � 蓿 篊� ／ � � ∽总 电 容 � � � 十� � � � � � � ㄒ 逍 慈 腭詈舷 凳齛 ： � � 疌 该 系 数当 � Ｊ┘ 釉 诳刂普ど鲜保 � 罅康牡 绾蒕 将 会 聚 集 到浮栅 上 ， 导 致 器件 的闽� � � � � � � ．一� ， � 疌 ， � � 酪籄 得 ：积 ， 隧道 氧 化层 厚度 以 及 浮栅 面 积 是 � � � 工 作状 态 和器件 工 艺参 数， 其 变 化 第 二蕈 工 岂 制 造 中 精准 性的优化� � 光刻 的精准 性优化以 上型 号 的胶， 因 为 对线 条 的均 一性有不 同的要 求。

  第 二章 工 艺制造 中 精准性的优化� � 干法 刻 蚀 与 湿 法 刻 蚀 在 工 艺中 的应 用� � � � � � � � � � � � � � � �� � � � � � � � � �可 以 认为缺 陷 完全 被消除  第 二章 工 艺制造 中 精准性的优化㈣上一√’� 血� 曲 第 二章 工 艺制造 中 精准性的优化� � � � � �� � � � � �� � � � � �� � � � � �� � � � � �� � � � ：� � � � ： � � 館 抽 �� � � ： � � � ．� �� � ； � � � 第 二章 工 艺制造 中 精准性的优化 第 三章 工 艺 失效 对 可靠性 的 影响 及 优 化 方 案� � 工 艺 失效 对 可靠性 的 影响 的 评 估 方 法 � � �在 � � �� � 严 重 程 度 � ⑸� 嘎 蕔 察 觉 概 率 “�� � � 制 造而 言的 � � 图 在 以 下 的 几节中，将 � � � � � � ≈� � � � �� � � 皊 � � �� � � � �� � � � �“���� � 弧 綞 � �曩Ⅶ � 瞙 ∞ �纛�� � � � � �鬻�≯� 试 注入电 子 的 能 量不 变的 测 试 方 法 。

 说明 ：  我 们采取 了 一 系 列 的 措 施 具 体 如下：����    � � � � �� � � � � �� � � �层 多晶 硅表 面 受损， 则 多晶 硅的 有 效 厚 度 会 减 少 ， 电 阻值 会 变 大 ， 加在上 面 的 电 压 降 也 � ◇知道 了 失 效 产 生 的 原因 ， 接 下 来 就 是 解决 问题了 由 于 边缘 失 效 严 重， 我 们测 试了 第 一 层 多晶 硅的 厚 度 通 过厚 度 的 差 异 来 论证 当 过刻 现象严 重到某一程 度 时 ， 失 效 便 产 生 了     可以看 到， 通 过提 高 刻 蚀机的 选 择 比， 刻 蚀的 均一 性有 了 明 显 的 提 高 但是 ，光 通 过提 高 选 择 比来 控 制 工 艺 的 稳 定 性 是 远 远 不够的 因 为机器 是 允 许 在一 定 范围 内 有 漂移的 于 是 ， 我 们 从 阻挡层 � � 胧 郑 � 谙卟馐 灾 校 � 尤 胍 徊絆 �厚 度 测 试使 得第 一 层 多晶 硅的 表 面 有 了 保 障 。

除 此之外 ， 在刻 蚀机每 做完� �后 都 加测 � � � � 失效下 图为 � � � 狶 � 狢 的 原理 图结 构 � �漏端电 压加 至 几伏 时击穿漏端电 压加 至 几伏 时击穿测 量 漏端电 压加 至 几伏 时击穿 � 测 试 条 件 � � ．� � � � � � � � 与 正 常的 图形相 比： 首 先 ， 让 我 们 看 一下 � 结结构 图 ：� 结构 图  � 结击穿 液 晶 试 验结果� � � � 笛 橹 谐 鱿值 膆� � � 处 俯 视 图与 正常 情况下 的 剖面图 及 俯 视 图 进行对 比 解决 途径 ：要 解决 � 结漏电 的 问 题， 首 先 要 了 解� 结的 组 成 � � 鹗 � 淀 积 ：见 实 验分 析 ⋯ ；� � � � ���������� ， � 开 尔 文 接触 电 阻 �� � � � � � 无 关 与 氮化 钛 的 厚 度 有 关 ：� � � ;� 呀 � � � 氮化 钛 �� � � � ��������������� � � � � �� � 氮化 钛 厚 度 漏电 情况有 好 转 。

�����试 验三的 结果 表 明 ：� 结漏电 与 一层铝／ 二层铝淀 积 温 度 无 关  �� � � � � ���工 艺 在制 造 中的 特殊性制 造 栅氧 时， 最先 要 做 一步 牺 牲 氧 化 层 主 要 目的 是 消除 硅 片 表 面 的 缺 陷 ，提高栅氧 的 质 量通 常， 牺 牲 氧 化 层 的 厚 度与 实 际 栅氧 的 厚 度相 当 在制 作 工 艺中， 牺 牲 氧 化 层 的 生长 炉 管 与栅氧 生长 的 炉 管 要 分 开 目的 是 为了 防 止交 叉 沾 污 在���制 造 中， 栅氧 的 制 造 还 不 是 最难 的 由 于���使 用 浮 栅来 实 现其功 能 的 ， 那么 浮 栅下 的 ��� � � � � � 的 生 长过 程� � � � � 在 � � � � � � 制 造 中的 问 题型注入剂 量 没 有 漂 移 经 过 逐一 的 疑 点排除 ，最后 ，� � 最 可 能 的 一种失 效机制 但是 ， 试验 表 明 ， 若是 去 除 了�����沾污 问题的 解 决方 案增加氧化 层 的 致 密 性 ， 对 ��前 的 氧化 层 分 两 步来 做。

第 一步，生 长一层 致 密 的 氧化 层 ， 用干 氧生 长第 二 步， 生 长厚 氧化 层 ， 用湿 氧生 长， 与 原 来 的 工 艺 相 同这 样 一来 ， 氧化 层 的 厚 度 没有明 显的 变化 沾 污 现 象 也有了改善 这 是 比较 而言 最 好的 方 案  第 五章 ���工 艺 的现 状及 展望这 些 优 化 都是的���大 幅 度 上 升 使 ���目前 ，������工 艺 在国 内 的晶元制造 上 处于主 导地位 在�纾� 第 六章 总 结针对 由 于光 刻 刻 蚀在小 线宽 工 艺 批 量生 产 上形 貌 不 平 整 ，图 形 失 真，分析 了光 刻 刻 蚀的原 理，研 究 了它 们在大 线宽 工 艺 与 小 线宽 工 艺 中 的精准 度 的差 异 ，通过 调 整 工 艺 环 境 ，程 序，优化了光 刻 刻 蚀后线条 的形 貌 并 应用 于在实 际 生 产 中 其 次 ，为 解 决 薄 氧 生 长 均一 性 难 控制 的问 题，对 炉 管的结构和工 作 原 理进 行最 后，针对 集 成 电路 一 系列 的可靠 性 问 题以 及 在大 规模生 产 中 成 品率 波动 问 参 考 文 献� � 珺 � �� � �� � ��� � � � �� � ．� � � 痚 � �� 《 电 子 材 料 与 器件 工艺》 ， 复 旦大 学材 料 科学系， � � 年�� � � � � � “� � � � ， � 繻施敏�� Ⅲ � � � � �� � � � � ”� � � � 琋 �� � ， � �� �� � � � � � � ， � � � — � ��� � � 甃 � � � � 珿 � � �� 瓸 � � ， � 瓾 � � � ， �� � ， �� � � � �� � ． � � � � �� � �。