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PSSPSS工艺流程简介工艺流程简介上海广奕电子科技有限公司上海广奕电子科技有限公司1.LED全称：Light emitting diode是一种半导体元 件，又名发光二极管是一种能够将电能转化为可见 光的固态半导体器件，它可以直接把电转化为光2.LED具有反应时间快，寿命长，体积小，绿色坏保等 优点适用于照明，医疗，电子等领域，使用范围非 常广，符合目前世界低碳环保的发展要求，未来的需 求量无法估算3.LED生产工艺简单，资金投入少，生产效率高4.LED目前在国内发展趋势非常快，建厂正在扩大，但 是，国内的工艺水平与国外相比，还具有一定差距， 我公司正在为缩小这种差距而努力PSS标准生产流程图1.1.涂胶涂胶2.2.曝光曝光3.3.显影显影4.ADI4.ADI检查检查5.5.刻蚀刻蚀NCK MEG8-CD步进机 NSR1505G6 NSR1755G7 NSR2205i11CNCK MEG8-CD照明灯， 光学显微镜 Nikon OP200Corial 300IL6 6. .刻蚀后刻蚀后 检查检查7.7.去胶去胶8.8.清洗清洗9.9.终检终检10.10.包装包装聚焦显微镜（丙酮液）ACID Clean强光灯， 光学显微镜 Nikon OP200现有规格 包装盒蓝宝石衬底蓝宝石衬底预清洗预清洗 Wet Wet BenchBenchTrack Coater Track Coater 自动匀胶机自动匀胶机ExposureExposure 步进光刻机步进光刻机TrackTrack自动显影机自动显影机 Developer Developer DeveloperDeveloper Wet BenchWet BenchICP Etcher ICP Etcher 干法蚀刻干法蚀刻Wet BenchWet Bench 去光阻去光阻Metrology Equip.Metrology Equip. ( (OM/SEM/CONFOCAL/AFMOM/SEM/CONFOCAL/AFM) ) 辅助量测辅助量测Wet Etching Wet Etching 湿法湿法蚀刻蚀刻 OxideOxide- -coating (optioncoating (option) )PSSPSS标准工艺流程标准工艺流程PSSPSS主要加工设备主要加工设备考虑到考虑到PSS制程对线制程对线 宽的要求一般曝光尺寸宽的要求一般曝光尺寸 和掩膜板尺寸一比一的和掩膜板尺寸一比一的 设备可能不能满足精度设备可能不能满足精度 的要求，可能需要线宽的要求，可能需要线宽 比为比为５５：：１１的步进式光的步进式光 刻机才能完成，目前国刻机才能完成，目前国 内正在大量使用二手尼内正在大量使用二手尼 康的步进式光刻机作为康的步进式光刻机作为 PSS制程的标准配置。

制程的标准配置工艺流程去水烘工艺流程去水烘 烤烤-涂胶涂胶-软烤软烤-冷却，冷却， 胶厚大约胶厚大约2500nm，， 常见的问题为涂花，常见的问题为涂花， 需要控制厂房的洁需要控制厂房的洁 净度以及清洗的工净度以及清洗的工 艺，一般清洗和涂艺，一般清洗和涂 胶时间隔得越短就胶时间隔得越短就 越好STEPPERSTEPPERTRACKTRACK流程为流程为PEB-显影显影- 硬烤硬烤-冷却，显影冷却，显影 后检查经常出现掉后检查经常出现掉 胶现象，胶现象，IC产业通产业通 常用常用HMDS才解决，才解决， 而而PSS目前没有，目前没有， 蓝宝石要解决这个蓝宝石要解决这个 问题还是要从清洗问题还是要从清洗 工艺上解决工艺上解决一般这里会把格线、一般这里会把格线、 defocusdefocus、涂花、、涂花、 等问题打掉等问题打掉一般可以采用一般可以采用corialcorial 和和MaxisMaxis的的ICPICP，主刻蚀，主刻蚀 气体是气体是BCl3BCl3，，H2H2作为辅作为辅 助调整选择比，此步直助调整选择比，此步直 接决定了未来你的产品接决定了未来你的产品 可以提高可以提高LEDLED芯片多少芯片多少 亮度，所以相对比较关亮度，所以相对比较关 键，不同的选择比可以键，不同的选择比可以 形成不同的形成不同的profileprofile，， 一般底宽越大，高度越一般底宽越大，高度越 高越是受到客户的欢迎。

高越是受到客户的欢迎显影显影ADIADIICPICPPSSPSS主要加工设备主要加工设备匀胶显影设备• 通过高速旋转方式使胶滴（显影液）均匀涂布在基片 上并通过机械手将基片传递到热板上均匀烘干，然 后在冷板上降温全过程自动化的从片盒到片盒之间 处理MAIN BODYTRANSFER ROBOTSPIN UNITMULTI- STAGE OVEN光刻:stepper•考虑到PSS制程对线宽的要求，普通曝光机图形尺寸和掩膜板尺寸 一比一，目前不能满足PSS线宽精度的要求，现有NIKON STEPPER 为５:１的步进投影光刻机当前世界各国PSS行业大量采用，IC 二手NIKON步进投影光刻机已经成为PSS制程的标准配置配置配置数量数量 （（UnitUnit））参考参考Cassette Stage22inchTransfer system12inchReticle storage﹥105inchUV LAMP11000WItemSPECReferencePattern size﹥2pitch﹥2WPH (Base above time.)﹥50 (49shots)25K /STEPPERSTEPPER主要精度参数主要精度参数七个方面七个方面七个方面七个方面FOCUS FOCUS 焦点焦点DISDIS（（DistortionDistortion）） 镜头畸变精度镜头畸变精度WAFER WAFER PREALIGNMENT PREALIGNMENT 上片重复性上片重复性STEPPING STEPPING 步进精度步进精度OVERLAY OVERLAY 套刻精度套刻精度ORTORT （（OrthogonalitOrthogonalit ）） 硅片旋转精度硅片旋转精度RRRR（（ReticleReticle RotationRotation）版）版 旋转精度旋转精度刻蚀：CORIAL300iL• 目前大量采用SUSS设备，实现等离子刻蚀，同时刻蚀胶 柱和衬底，最终形成均匀分布的锥状包。

交货期限与安装时程：交货日期(Lead time)： •Exposure Nikon Stepper (G6): 2 month (Used) •Exposure Nikon Stepper (G7): 2 month (Used) •Exposure Nikon Stepper (i8): 3 month (Used) •Track Developer (3D) : ２ months (Brand new) •PR Developer Wet Bench: ２ months (Brand new)安装所需日期(Installation)： •Exposure Nikon Stepper (G6): 4 weeks •Exposure Nikon Stepper (G7): 4 weeks (Used) •Exposure Nikon Stepper (i8): ４ weeks (Used) •Track Developer (3D) : ２ weeks •PR Developer Wet Bench: ２ 保修服务设备安装调试结束签字后，开始计算： -Exposure Nikon Stepper (G6):6month (Used) -Exposure Nikon Stepper (G7):6month (Used) -Exposure Nikon Stepper (i8):6month (Used) -Track Developer (3D) : 3 months(Brand new) -PR Developer Wet Bench : 3 months (Brand new)保修期服务内容与责任如下： 1、保修期限内，提供必要的检查、清洁、调整或更换零件等预防保 养服务，以维持机台的正常运行。

2、保修期间，如客户设备发生故障时， 接到客呼叫后，在二十四 小时内派技术人员到达现场维修，使设备恢复正常 3、保修期满后，我方提供长期的有偿售后服务谢谢! Thank You!。