问题线路板检测报告.ppt

1一.问题描述线路板线路局部脱落，脱落的线路与基材 基本没有粘接力，观察脱落线路铜箔毛面，线路 边缘均出现氧化现象，见下图：2二.分析过程1.肉眼观察脱落的线路及焊盘，铜箔毛面大部分 都成棕黑色，铜箔已经发生氧化反应 2.用SEM观察脱落线路铜箔毛面，铜瘤表面完整 ，具体见以下的SEM图,元素分析无异常3脱落线路铜箔毛面一4脱落线路铜箔毛面二5铜箔毛面元素分析表一谱图处理 : 类型： 默认值 可能被忽略的峰 : 2.139, 9.718 keV 处理选项 : 所有经过分析的元素 (已归一化) 重复次数 = 3 标准样品 : C C 1-Jul-2008 02:16 PM O SiO2 1-Jun-1999 12:00 AM Cl KCl 1-Jun-1999 12:00 AM Cu Cu 1-Jun-1999 12:00 AM 元素 重量 原子 百分比 百分比 C K 23.09 59.35 O K 2.17 4.19 Cl K 0.35 0.30 Cu K 74.40 36.15 总量100.006铜箔毛面元素分析二•谱图处理 : 类型： 默认值 •可能被忽略的峰 : 2.150, 9.720 keV •处理选项 : 所有经过分析的元素 (已归一化) •重复次数 = 3 •标准样品 : •C C 1-Jul-2008 02:16 PM •O SiO2 1-Jun-1999 12:00 AM •Cu Cu 1-Jun-1999 12:00 AM •元素 重量 原子 •百分比 百分比 •C K 5.17 21.93 •O K 0.86 2.75 •Cu K 93.97 75.32 •总量100.007基材面SEM一8基材面SEM二9基材面元素一•谱图处理 : 类型： 默认值 •可能被忽略的峰 : 9.712, 11.500 keV •处理选项 : 所有经过分析的元素 (已归一化) •重复次数 = 6 •标准样品 : •C C 1-Jul-2008 02:16 PM •O SiO2 1-Jun-1999 12:00 AM •Na Albite 1-Jun-1999 12:00 AM •Al Al2O3 1-Jun-1999 12:00 AM •Si SiO2 1-Jun-1999 12:00 AM •P GaP 1-Jun-1999 12:00 AM •Cl KCl 1-Jun-1999 12:00 AM •K MAD-10 Feldspar 1-Jun-1999 12:00 AM •Ca Wollastonite 1-Jun-1999 12:00 AM •Fe FeS2C 1-Jul-2008 11:06 AM •元素 重量 原子 •百分比 百分比 •C K 47.65 61.81 •O K 31.89 31.05 •Na K 0.69 0.47 •Al K 1.89 1.09 •Si K 0.82 0.46 •P K 0.28 0.14 •Cl K 0.92 0.40 •K K 0.86 0.34 •Ca K 0.53 0.21 •Fe K 14.47 4.0410基材面元素二•谱图处理 : 类型： 默认值 •可能被忽略的峰 : 7.580, 9.700 keV •处理选项 : 所有经过分析的元素 (已归一化) •重复次数 = 5 •标准样品 : •C C 1-Jul-2008 02:16 PM •O SiO2 1-Jun-1999 12:00 AM •Al Al2O3 1-Jun-1999 12:00 AM •Si SiO2 1-Jun-1999 12:00 AM •P GaP 1-Jun-1999 12:00 AM •Ca Wollastonite 1-Jun-1999 12:00 AM •元素 重量 原子 •百分比 百分比 •C K 72.62 79.90 •O K 20.86 17.23 •Al K 1.44 0.70 •Si K 2.60 1.22 •P K 1.21 0.51 •Ca K 1.28 0.42 •总量100.0011SEM图说明： 1.铜箔毛面无粘附树脂； 2.铜箔毛面元素分析无异常； 3.基材面元素分析有较多的铁元素； 4.基材表面有铜瘤压过的凹坑；12三、切片分析图片切片图说明：铜箔与PP分层处，PP层有10-14UM深度的铜瘤压过 的凹痕；1314四.分析结论以上的检测结果证明： 1.铜箔元素分析无异常！脱落的基材面分析到异常元素 铁！ 2.铜箔铜瘤及粗化层与PP间有压合后的凹坑，但铜箔 毛面无粘附树脂。