优化待测化合物ESI质谱条件.docx

一、优化待测化合物ESI质谱条件1样品导入方式的建立1.1选择适当长度的Peek管将两端通过接头分别与液相系统和切换阀2号口相连1.2选择适当长度Teflon管将一端通过接头与切换阀1号口相连，并将另一端置于废液瓶 中1.3选择适当长度的Peek管将一端通过接头与切换阀3号口相连，另一端通过三通分别与 离子源和样品转移毛细管相连1.4将200 uL左右样品溶液吸入250 uL进样注射器中1.5将进样注射器通过一个接头和一个二通与样品转移毛细管另一端相连1.6按住注射泵黑色释放钮将注射泵手柄升高1.7将进样注射器小心置于支架上并将注射泵手柄下移至进样注射器活塞柄顶端2. 质谱条件优化步骤2.1在Tune Master界面点击On/Standby激活质谱仪2.2选择离子极性模式（正离子或负离子），如需进行正负离子切换，将将Spray Voltage 调至0后操作2.3 进入 Compound Optimization Workspace2.4在Define Scan窗口选择Q1MS扫描模式和Full Scan扫描类型2.5 在 Optimize Compound Dependent Devices 窗口设置下列参数：• Spray Voltage 设为 3500 V• Sheath Gas Pressure 设为 30 arb• Aux Gas Pressure 设为 10 arb• Capillary Temperature 设为 350 °C• Source CID 设为 0 V2.6激活注射泵以5 uL/min流速将进样注射器中的样品溶液导入质谱仪。

2.7激活液相色谱泵选择适当流速将流动相导入质谱仪,观察到待测化合物的准分子离子峰 峰强度在10的6次方左右，否则增大进样流速或选用浓度更高的待测化合物溶液（样品浓 度一般建议1-10ug/mL,建议用甲醇或乙腈溶解）2.8 在 Compound Optimization 界面显示 Single Sample 窗口，选择 MS Only 优化模式和 Syringe Pump Infusion 入口类型选项2.9 优化 Tube Lens Offset、Spray Voltage、Sheath Gas Pressure、Aux Gas Pressure 和Source CID获得待测化合物稳定的准分子离子峰2.10记录并保存准分子离子质谱图2.11 选择 MS+MS/MS 优化模式设置 Pare nt Mass、Charge State 和 Num Product 对子离 子进行优化，优化前完成下列设置：•将 Source CID 设为 0 V• 将 Collision Pressure 设为 1.5 mTorr• 将 Quad MS/MS Bias 设为-1.0 V2.12接受Collision Energy优化结果，并将Source CID设为优化值（由2.9得到）。

2.13记录并保存子离子全扫描质谱图2.14 保存 Tune Method 文件3. 注意事项3.1待测化合物溶液浓度为1-10ug/mL3.2改变流动相比例和流速后应重新进行对Sheath Gas Pressure和Aux Gas Pressure进 行优化3.3 手动优化 Capillary Temperature3.4点击Start开始自动优化程序，优化结束时点击Accept接受优化结果，或者点击Undo 后再点击Accept保持优化前的仪器配置3.5仪器常用参数设置见下表GuicLeltnes tor settmg opernting parameters tor LC/iSl/MK (spray voltage 3 to4.5 kV)LC Flow Rate (pL/inin)SuggestedC olumn IDSize {mm)Capillary Teniperatnre fC)Sheath Gas Pressing (arbitrary units)Ail biliaryGas Pressure (arbitrary unit^W 10Capillary200 to 250' 5 to 30 'Off50 to 1001.0250 to 30010 to 505 to 122 DO to 400'2.1 to 4.6300 to 35020 to 4010 to 20三4003503C to 6010 to 40二、优化待测化合物APCI质谱条件1. 样品导入方式的建立1.1选择适当长度的Peek管将两端通过接头分别与液相系统和切换阀2号口相连。

1.2选择适当长度Teflon管将一端通过接头与切换阀1号口相连，并将另一端置于废液瓶 中1.3选择适当长度的Peek管将一端通过接头与切换阀3号口相连，另一端通过三通分别与 离子源和样品转移毛细管相连1.4将200uL左右样品溶液吸入250uL进样注射器中1.5将进样注射器通过一个接头和一个二通与样品转移毛细管另一端相连1.6按住注射泵黑色释放钮将注射泵手柄升高1.7将进样注射器小心置于支架上并将注射泵手柄下移至进样注射器活塞柄顶端2. 质谱条件优化步骤2.1在Tune Master界面点击On/Standby激活质谱仪2.2选择离子极性模式（正离子或负离子），如需进行正负离子切换，将Discharge Current 调至0后操作2.3 进入 Compound Optimization Workspace2.4在Define Scan窗口选择Q1MS扫描模式和Full Scan扫描类型2.5 在 Optimize Compound Dependent Devices 窗口设置下列参数：•卩将 Discharge Current 设为 4.0 A• 将 APCI Vaporizer Temperature 设为 500°C• 将 Sheath Gas Pressure 设为 30 Arb• 将 Aux Gas Pressure 设为 10 Arb• 将 Capillary Temperature 设为 270C•将 Source CID 设为 0 V2.6激活注射泵以5uL/min流速将进样注射器中的样品溶液导入质谱仪。

2.7激活液相色谱泵选择适当流速将流动相导入质谱仪，观察到待测化合物的准分子离子峰 峰强度在10的6次方左右，否则增大进样流速或选用浓度更高的待测化合物溶液2.8 在 Compound Optimization 界面显示 Single Sample 窗口，选择 MS Only 优化模式和 Syringe Pump Infusion 入口类型选项2.9 优化 Tube Lens Offset、Sheath Gas Pressure、Aux Gas Pressure 和 Source CID 获 得待测化合物稳定的准分子离子峰2.10记录并保存准分子离子质谱图2.11 选择 MS+MS/MS 优化模式设置 Pare nt Mass、Charge State 和 Num Product 对子离 子进行优化，优化前完成下列设置：•将 Source CID 设为 0 V• 将 Collision Pressure 设为 1.5 mTorr• 将 Quad MS/MS Bias 设为-1.0 V2.12接受Collision Energy优化结果，并将Source CID设为优化值（由2.9得到）。

2.13记录并保存子离子全扫描质谱图2.14 保存 Tune Method 文件3. 注意事项3.1待测化合物溶液浓度一般为1-10ug/mL3.2改变流动相比例和流速后应重新进行对Sheath Gas Pressure和Aux Gas Pressure进 行优化3.3 手动优化 Capillary Temperature 且不能高于 270°C3.4点击Start开始自动优化程序，优化结束时点击Accept接受优化结果，或者点击Undo 后再点击Accept保持优化前的仪器配置3.5仪器常用参数设置见下表GuideUnes for setting opei atiug parameters for LC/APCI/AIS (coronn discharge4 Z)LC FIotv Rate (nfL/ujin)Capillary Teuiperatme g\aporizer Temperature fC)Sheath Gas P]ressnre (arbitral y uuirs)Auxiliaiy Gas Pressure (arbitrary units)0.2 to 2.0200 to 350400 to 600■' 30 to 400to5。