L~Edit画和门和或门简明教程

1、.wdL-Edit画与门和或门简明教程西安电子科技大学上机教程2021.12.11小韩根本操作步骤：1翻开此程序2另存新文件：选择 FileSave As3取代设定：选择 FileReplace Setup命令，单击右侧的Browser，选择F:EDA实践Ledit90Semplessprexample1light.tdb文件，然后点击ok，会出现警告，按确定钮。4绘制N Well图层：横向34格，纵向19格绘制图层信息在窗口左下角显示有图层类型，宽度，长度，坐标等绘图完成后，通过alt+鼠标左键或者直接用鼠标滚轮来调整图层大小和位置。Ctrl+鼠标滚轮来调整窗口大小。home键将图层放置到整个绘图窗口中心位置。5绘制Active图层：横向22格，纵向9格6绘制P Select图层：横向28格，纵向14格7绘制Poly 图层：据横向2 格，纵向14格完成后进展DRC检查，单击工具栏按钮，或者ToolsDRC，在检查完毕后会出现DRC检查结果，No DRC errors found 说明没有设计规那么错误如果有错误，选中 Display DRC Error Navigator 复选框，点

2、击OK，会出现错误提示窗口，展开错误标记。双击Error3,在幅员中出现错误提示，这时可以通过alt+鼠标左键来调整图形大小位置来消除DRC错误，最后点击DRC图标，反复修改，直到错误消除，这时绘图窗口将会恢复之前的状态。8绘制Active Contact 图层：横纵2格，然后DRC检查9绘制Metal1 图层：纵横4格，DRC检查最好每步完成后都马上进展DRC检查，注意，在此之后将不再提示DRC检查，但每步之后最好检查其中重复的一些操作可以通过复制来完成，该操作通过Ground 来完成。鼠标拖动选中要复制图形，选择DrawGround或直接Ctrl+G，完成后所选中区域将会变成一个整体，可以对组件进项复制、移动操作。一个组件不能对其中的单元操作，要调整组件中单元大小位置，可通过选中图形，选择DrawUnground或直接Ctrl+U解除组件来完成。10重新命名：将Cell0 的名称重新命名，可选择CellRename 命令，翻开Rename Cell对话框，将cell 名称改成nandpmos11新增NMOS 组件：选择CellNew 命令，翻开Create New Cell 对话框

3、，在其中的New cell name 文本框中输入“nandnmos，单击OK 按钮12编辑与非门的NMOS 组件：依照PMOS 组件的编辑流程，建立出Active 图层、N Select 图层、Poly 图层、Active Contact 图层与Metal1 图层。其中，Active 宽为22个格点，高为9个格点；Poly 宽为2 个格点，高为14个格点：N Select宽为18个格点，高为14个格点；Active Contact 宽皆为2 个格点，高皆为2 个格点：Metal1 宽皆为4 个格点，高皆为4 个格点。DRC检查13设计导览：选择view 按钮，翻开Design Navigator 窗口，可以看到Exl0 文件有nandnmos与nandpmos两个cell或直接点工具栏中的按钮，双击便可直接进入单元。14编辑非门的PMOS 组件：新建cell，命名为norpmos，建立出N well图层、Active 图层、P Select 图层、Poly 图层、Active Contact 图层与Metal1 图层。其中，N well 宽为24个格点，高为19个格点；Active

4、宽为14个格点，高为9个格点：Poly 宽为2 个格点，高为14个格点：P Select宽为18个格点，高为14个格点；Active Contact 宽皆为2 个格点，高皆为2 个格点：Metal1 宽皆为4 个格点，高皆为4 个格点。DRC检查(15) 编辑非门的NMOS 组件：新建cell，命名为nornmos，建立出Active 图层、N Select 图层、Poly 图层、Active Contact 图层与Metal1 图层其中，Active 宽为14个格点，高为5个格点；Poly 宽为2 个格点，高为9个格点：N Select宽为18个格点，高为9个格点；Active Contact 宽皆为2 个格点，高皆为2 个格点：Metal1 宽皆为4 个格点，高皆为4 个格点。DRC检查16编辑PMOS 保护环well tap：新建cell，命名为guardpmos，建立出N well图层、Active 图层、N Select 图层、Active Contact 图层与Metal1 图层其中，N well宽为13个格点，高为19个格点；Active 宽为6个格点，高为9个格点；N

5、Select宽为10个格点，高为13个格点；Active Contact 宽皆为2 个格点，高皆为2 个格点：Metal1 宽皆为4 个格点，高皆为4 个格点。DRC检查17编辑NMOS 保护环well tap：新建cell，命名为guardnmos，建立出Active 图层、P Select 图层、Active Contact 图层与Metal1 图层其中，Active 宽为6个格点，高为5个格点；P Select宽为10个格点，高为9个格点；Active Contact 宽皆为2 个格点，高皆为2 个格点：Metal1 宽皆为4 个格点，高皆为4 个格点。DRC检查18编辑与门：在此，所有的cell 都已建立完毕。新建cell 命名为and，在and中选择CellInstance 命令，翻开Select Cell to Instance 对话框，可以看到，在组件列表中有nandpmos，nandnmos, norpmos, nornmos ,guardpmos, guardnmos这6组件，选择nandpmos组件再单击OK 按钮，在编辑画面多出一个nandpmos组件，然后选择n

6、andnmos组件再单击OK 按钮，在编辑画面多出一个与nandpmos重叠的nandnmos组件，可利用Alt 键加鼠标拖曳的方式分开nandpmos与nandnmos，同样的方法分别添加其余组件。19连接栅极Poly：将放置的组件在and中按位置放置好，然后根据逻辑关系绘制连接栅极的多晶层。由于电路的pmos与nmos的栅极极是要相连的，故直接以Poly图层将pmos与nmos的Poly 相连接，绘制出Poly 宽两个格点，绘制后进展DRC检查。20连接源漏极：电路的nmos漏极与pmos漏极是相连的，那么以Metal1 连接即可，利用Metal1 将图中的nmos与pmos的右边扩散区有接触点处相连接，绘制Metal1 宽两个格点、高6 个格点。绘制后进展DRC检查21绘制电源线和地线：由于电路需要有Vdd电源与GND 电源，电源绘制是以Metal1图层表示，利用Metal1 将图中pmos上方与nmos下方各绘制一个宽为72个格点、高为5 个格点的电源图样，绘制后进展DRC检查22参加Vdd与GND 节点名：单击工具栏中插入节点按钮，再到编辑窗口中用鼠标左键拖曳出一个与上方电源

7、图样重叠的宽为72个格点、高为5 个格点的方格后，将出现Edit Object(s)对话框，如下图。在On文本框中选中Metal1层，在Port name 文本框中输入节点名称“Vdd，在Text Alignment 选项组中选择文字相对于框的位置的右边，单击“确定按钮；同样的方法变出GND。(23) 连接电源线与地线：根据逻辑关系，将电源线与地线和pmos，nmos，guardpmos，guardnmos连接起来。完成后DRC检查。24连接与非门和反相器：先绘制反相器输入端口，先在编辑窗口空白处进展编辑，先绘制Poly Contact 图层2*2，再绘制Poly 图层5*5，接着绘制Metal1 图层4*4使之重叠于Poly Contact 图样上，最后将此输入端口图形群组起来，先选中组合区域局部，再选择DrawGroup 命令，会出现Group 对话框。在Group CellName文本框中输入名称portA，之后单击OK 按钮。将portA移至反相器输入端，连接非门和反相器。最后DRC检查。25参加输入端口：由于与门有两个输入端口，且输入信号是从栅极(Poly)输入，输入输出信号

8、由Metal2 传入，故一个与门输入端口需要绘制Metal2 图层、Via 图层、Metal1 层、Poly ontact图层与Poly 图层，才能将信号从Metal2 图层传至Poly 层。先在编辑窗口空白处进展编辑，最后再移至整个组件的位置。先绘制Poly Contact 图层2*2，再绘制Poly 图层5*5，接着绘制Metal1 图层10*4使之重叠于Poly Contact 图样上，接着在Metal1 上要绘制Via 图层2*2，Via 图层是用来连接Metal1 图层与Metal2 图层的接触孔，接着绘制Metal2 图层4*4，它要与图层Via 与Metal1 重叠。DRC检查。将此输入端口图形群组起来，先选中组合区域局部，再选择DrawGroup 命令，会出现Group 对话框。在Group CellName文本框中输入名称portB，之后单击OK 按钮。将port B局部移至与非门栅极的位置当成输入端口，结果如下图。注意，在放置时Metal1 与Metal1 之间要距离3 个格点以上，并要以设计规那么检查无误才可，复制port B放置到另一个输入端口，通过R键来旋转p

9、ortB。最后DRC检查。26在port B组件上参加节点名称作为输入点，需利用参加节点按钮。单击按钮，再在Layers 面板的下拉列表中选择Metal2 选项，使Metal2 图样被选取，再到编辑窗口中用鼠标左键拖曳出一个与port B组件的Metal2 图样重叠的宽为4 个格点、高为4 个格点的方格后，会出现Edit Object(s)对话框，在Port name 文本框输入输入端口名称“A，在Text Alignment 选项组选择文字相对于框的位置的左边，再单击“确定按钮；同样的方法标出B输入端口。27参加输出端口：与门有一个输出端口，先绘制Via 图层，在反相器的Metal1 图层上画出横向两格、纵向两格的方形，接着绘制Metal2 图层4*4，它要与Via 与Metal1 图层重叠。进展DRC检查。将绘制的输出端口取名为OUT，要利用参加节点按钮。单击按钮，再在Layers 面板的下拉列表中选择Metal2 选项，使Metal2 图样被选取，再到编辑窗口中用鼠标左键拖曳出一个与刚绘制的Metal2 图样重叠的宽为4 个格点、高为4 个格点的方格后，出现Edit Object(s)对话框，在Port name 文本框中输入输入端口名称“OUT，在Text Alignment 选项组中选择文字相对于框的位置的右边，再单击“确定按钮。28至此，一个与门完成幅员绘制。或门幅员

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