镀膜流程简介.pptx

鍍膜流程簡介Prepared by Eddy 2021/4Strictly Confidential鍍膜流程排列清洗框入第一面鍍膜排列清洗框入第二面鍍膜FQC鏡片轉出只鍍一面鍍兩面Strictly Confidential排列將鏡片從托盤中取出一一排入合適的洗藍內，對部分易產生燒蝕不潔的鏡片，排列前增加用酒精手動拋光動作，以減少燒蝕及不潔Strictly Confidential超聲波清洗將排列好的鏡片放入清洗機進行清洗.清洗作業主要分三部分: 第一部分洗三槽藥劑及一槽市水，主要去除鏡片表面臟污，油漬等； 第二部分洗中間五槽為兩槽市水&三槽純水，主要去除鏡片表面藥劑； 第三部分對鏡片脫水及烘幹先洗三槽IPA脫水槽再進行烘乾.每槽清洗時間90s,超聲波功率2A.目前主要使用的清洗藥劑為: UP3 ORD-6.1 IPAStrictly Confidential框入將清潔乾淨的鏡片框入鍍膜環，在150W幻燈機下旋轉12圈檢驗不潔水紋傷痕等外觀不良,用60W台燈確認青燒蝕膜欠等外觀不良,然後將鍍膜環放入傘架.框入常見外觀不良現象有: 線傷 不潔 點傷 水紋 破邊 燒蝕 其他Strictly Confidential鍍膜融藥的條件: 真空度:2E-2Pa以下 主閥打開機台達到鍍膜的條件: 真空度:2E-3Pa以下 加熱溫度:350度AR鍍膜主要使用的藥材: H4(LaTiO3) MgF2鍍膜監控方式: 石英晶振片監控 利用附著在石英晶振片表面膜材質量之增加所引發石英晶片共振頻率變化來量測膜層的厚度.利用石英晶體振動頻率與其質量成反比.抽氣加熱融藥真空2E-3 Pa鍍膜洩氣清潔換料Strictly Confidential蒸鍍MaskE-beamShutterChamberSubstrateHolder光學監控系統&膜厚監控系統Strictly Confidential鍍膜設備鍍膜機外觀 鍍膜機內部Strictly Confidential現有鍍膜設備ItemPumping systemDeposited processothersDeposited MaterialSizeQuantityMakerAR coater for Glass2 MP and 1 DP1 EB Polycold, Crystal monitor and optical monitorH4, Al2O3, MgF2,1,300 mm310 setOptorun(JP)AR coater for Plastic2 MP and 1 DP1 EB + 2 thermal sourcePolycold, Crystal monitor and optical monitorH4, Al2O3, MgF2, SiO, TiO2, SiO21,300 mm32 setOptorun(JP)Filter coater2 MP and 1 DP2 EB + IADPolycold, Crystal monitor and optical monitorTa2O5, Nb2O5, TiO2, SiO2,1,300 mm35 setOptorun(JP)Metal coater2 MP and 2 CP1 EB + 2 thermal source + IADCrystal monitorAl, Ag, Au, Ni, H4, Al2O3, TiO2, SiO2, SiO, 1,300 mm33 setOptorun(JP) MP = Mechnical pump; DP= Diffusion pump; CP= Cryo pump EB= Electric beam; IAD= Ion assissted depositionStrictly ConfidentialAR 制程AR 制程為減少鏡片表面反射，一般在10層內白玻反射鍍單層MgF2反射YC系列要求紅外的多層反射普通AR多層反射Strictly Confidential敬請指教敬請指教敬請指教敬請指教Thank YouThank You。