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离子注入机简介离子注入机简介★ ★ 离子注入机的种离子注入机的种类中束流中束流μA350DNV6200A大束流大束流mANV10-80NV10-160NV10-160SDNV10-180★★6200、、NV10160、、10180、、10160SD简介介离子注入机按照真空系离子注入机按照真空系统分分为三个部分三个部分SOURCEBEAM LINEEND STATIONSOURCEBEAM LINEEND STATION6200FILAMENT ARC EXTRACTION ACCEL / DECELSUPPRESSIONANALYZER SUPPRESSIONACCELERATIONQ-LENSX 、、Y SCANFARADAY SYSTEMEND STATION CONTROLNV10160NV10180NV10160SDFILAMENT ARC VAPORIZER SOURCE MAGNET SUPPRESSIONEXTRACTION (HV)ANALYZERACCELERATION FLAG FARADAYDISK FARADAY 各部分包括的控制器各部分包括的控制器★ ★ 离子注入的原理离子注入的原理 离子源离子源产生的离子在吸极生的离子在吸极电压的作用的作用下构成束流，以一定的速度下构成束流，以一定的速度进入分析器磁入分析器磁场后遭到洛后遭到洛仑磁力磁力发生偏生偏转，，选出我出我们所所需的离子，需的离子，经过加速高加速高压的作用的作用获得一定得一定的能量，离子的能量，离子经过透透镜的聚焦后，以一定的聚焦后，以一定的的扫描方式打入硅片。

描方式打入硅片★★ 离子源的任离子源的任务原理原理 当离子源的灯当离子源的灯丝经过足足够大的直流大的直流电流流时，灯，灯丝受受热后后发射的射的热电子在子在ARC 电压、源磁、源磁场的共同作用下做螺旋状运的共同作用下做螺旋状运动与与工工艺气体碰撞后，工气体碰撞后，工艺气体气体发生生电离离产生生离子★ ★ 质量分析器量分析器洛洛仑磁力：磁力： F=qvB R=mv/qB F=qvB R=mv/qB带电粒子粒子进入磁入磁场遭到力的作用后遭到力的作用后发生偏生偏转 11B+11B+、、 31P+ 31P+、、 40Ar+ 40Ar+、、 75As+ 75As+、、 121Sb+ 121Sb+350D350D：先分析后加速先分析后加速NV1080NV1080：先加速后分析先加速后分析★★ Q-LENS 静静电四极透四极透镜静静电四极透四极透镜：：对离子离子进展聚焦作用展聚焦作用加速后的离子在加速后的离子在Q-LENS静静电四极透四极透镜的作的作用下被聚焦成用下被聚焦成较小的束斑小的束斑★★ FARADAY SYSTEMFARADAY的作用是丈量束流，的作用是丈量束流，经过DOSE控制器准确地控制器准确地计量注入到硅片上的量注入到硅片上的剂量。

量BEAM SETUP：束流打在：束流打在FLAG FARADAYIMPLANT：束流打在：束流打在END STATION〔〔350D〕〕 束流打在束流打在DISK 〔〔NV1080〕〕谢谢！谢谢！2006.8.2。