项目名称及要求：热场发射透射电子显微镜系.doc

项目名称及要求：热场发射透射电子显微镜系统序号货物名称技术参数要求数量备注1热场发射透射电子显微镜系统详细指标见附件1推荐品牌：FEI、日本电子、蔡司项目概述：所购置的热场发射透射电子显微镜属于较高端的科研与教学仪器设备主要用于各种材料的高分辨形貌观察、微区晶体结构、相结构、成分分析和选取电子衍射分析测定等，该系统主要由电子光学系统、高压系统、真空系统、能谱仪、CCD成像和制样等部分组成，服务于我校师生、周边院校等单位系统总体构成：电镜主机（包含真空系统、电子光学系统、高压系统、检测器单元等）、冷却循环水系统、能谱仪、自动变压器、CCD成像系统、控制计算机、制样设备、后备电源、标准工具包及相关附件主要指标见附件：热场发射透射电子显微镜（TEM）技术参数附件：热场发射透射电子显微镜（TEM）技术参数（注：技术指标中前加“*”号为必须满足的条款，不允许负偏差）1. 运行环境：1.1 工作温度：18-23 °C1.2 工作湿度：≤ 60% （20 °C）1.3 适用电源：单相，220 V（±10%），50 Hz；三相，380 V（±10%），50 Hz1.4 磁场：水平 ≤ 80 nTp-p，垂直 ≤ 100 nTp-p1.5 接地电阻：≤ 0.4 W1.6 仪器运行的持久性：仪器可连续长期使用2. 设备用途2.1 科学研究2.2 主要用于材料的高分辨形貌观察、晶体结构、相结构、成分分析和电子衍射分析测定等，主要由电镜主机、冷却循环水、能谱仪、自动变压器、CCD成像、制样设备等部件构成。

3. 技术规格3.1 电子枪3.1.1 电子枪类型：肖特基场发射电子枪3.1.2 束流：≥ 0.6 nA（束斑尺寸为1 nm时）3.1.3 束斑漂移：≤ 1 nm/min3.2 分辨率3.2.1 点分辨率：≤ 0.24 nm3.2.2 线分辨率：≤ 0.102 nm3.2.3 信息分辨率：≤ 0.14 nm3.2.4 能量分辨率：≤ 0.75 eV3.3 放大倍数3.3.1 倍数范围：25-1,000,000倍3.3.2 放大倍数重复性:≤ 5%3.4 加速电压3.4.1 电压范围：20-200 kV3.4.2 加速电压全程范围内切换仅需通过软件即可完成3.4.3 加速电压稳定性：≤ 1 ppm/10min3.4.4 物镜电流稳定性：≤ 2 ppm/min3.5 最小束斑尺寸3.5.1 透射模式（TEM）：≤ 1 nm3.5.2 EDS/NBD/CBD模式：≤ 0.3 nm3.6 电子衍射3.6.1 最大会聚角：≥ 100 mrad3.6.2 最大接受角：≥ 13°3.7 物镜3.7.1 球差系数：≤ 1.2 mm3.7.2 色差系数：≤ 1.2 mm3.7.3 最小聚焦步长：≤ 1.8 nm3.8 相机长度：80-4,500 mm3.9 照明模式3.9.1 两种照明模式：平行光模式和汇聚束模式。

每种模式下各有11种束斑尺寸，大小可调3.9.2 照明模式间切换：通过软件即可完成，切换后系统稳定所需时间短于1分钟3.10 样品台3.10.1 5轴样品台，可存储和复位5维（x, y, z, a, b）坐标3.10.2 单倾样品杆3.10.3 低背景双倾样品杆3.10.4 样品移动范围：X，Y ≥ ±1 mm；Z ≥ ±0.375 mm3.10.5 样品台最大样品倾角 ±40°3.10.6 样品台漂移（使用标准样品杆）：≤ 0.5 nm/min3.11 扫描透射附件（STEM）3.11.1 探头：高角环形暗场探头（HAADF）3.11.2 明场分辨率：≤ 0.2 nm3.11.3 暗场分辨率：≤ 0.2 nm3.11.4 HAADF分辨率：≤ 0.2 nm3.11.5 放大倍率：150-230，000，000倍3.11.6 TEM与STEM切换所需热稳定时间：≤ 30 s3.11.7 可同时采集STEM和EDX信号，并实时显示3.12 真空系统3.12.1 真空系统构成：完全无油真空系统，由机械泵、超静音分子泵和离子泵构成3.12.2 真空度：电子枪真空度 ≤ 5×10-7 Pa；样品区真空度 ≤ 2.7×10-5 Pa3.12.3 典型换样时间：≤ 1 min3.12.4 更换样品时无需关高压3.12.5 自动真空抽气及诊断系统，断电、漏电、真空自动保护3.12.6 机械泵可放置在设备间，有效隔离噪音与振动3.12.7 另提供5米长进口真空硅胶管1条3.12.8 自动变压器1台（进口，4 kW，含230、220、210、110、105、100、95 V接线柱）3.13 冷却循环水系统3.13.1 提供标配冷却循环水系统，循环水使用纯水，日常使用免维护3.13.2 冷却系统放在设备间，隔绝噪音与振动，可在电镜室内便捷的控制冷却系统3.13.3 冷却水流量自动控制并可实时显示温度3.14 电镜操作3.14.1 百分百数字化操作，所有的电镜操作和控制按钮都可在基于Windows XP的计算机控制系统上完成，用2个控制台和1个鼠标控制，操作指令执行过程中无延时3.14.2 允许在不同的操作模式和数据采集模式之间快速切换，切换过程中系统自动调回所有相关的操作设置3.14.3 能方便的实现常用功能,包括样品移动、光束移动、放大倍数、模式切换、聚焦、合轴操作等3.14.4 电镜操作者可根据需要拥有一套或多套电镜状态参数，每套状态参数相互独立，可在使用过程中迅速切换调用。

可设置多个用户，每个用户之间的参数设置相对独立，同时还可相互调用每个操作者在完成了自己的工作退出操作系统后，可保留所有的状态当下一次用自己的帐户进入时，电镜将会自动完全回复到上次用户离开时的状态，且其间可允许任何人多次操作，可以间隔任意长时间3.14.5 控制软件具有多种探测器（附件）同时采集数据和频谱分析功能，可进行或后续的离线分析，可在几秒种内完成所需模式（如常用的TEM、HRTEM、STEM、SAED、EDX）之间的切换，实现在同一点的多种模式或手段的综合分析3.15 X射线能谱仪系统（含硬件、软件、控制计算机、打印机和其他能谱运行的必备部件）3.15.1 功能：用在TEM上，在观测微区结构的同时，完成微区点、线、面的成分分析3.15.2 工作条件：同电镜3.15.3 探测器：SDD电制冷探测器，马达驱动3.15.4 晶体活区面积：≥ 30 mm23.15.5 可分析元素范围：Be4-U923.15.6 能量分辨率：优于129 eV （Mn-Ka线）3.15.7 自动伸缩探测器，测定时探测晶体自动接近试样，确保最大接收角和计数率3.15.8 探头自动伸缩保护，计数率超过额定值时能在2秒内自动收缩，保护探头，无需人工或软件干预，探头前段无快门等异物3.15.9 出射角与立体角：与透射电镜相匹配3.15.10 独立于电脑的脉冲与图像处理器3.15.11 硬件结构：采用32位高速PCI总线，避免任何串行总线3.15.12 零峰实时修正谱峰，系统安装调试成功后，无需用户再行校准3.15.13 软件语言：中英文界面可自由切换3.15.14 日常免维护，无任何消耗品3.15.15 能够进行样品微区的点、线、面的定性及定量分析3.15.16 完整的能谱定性、定量分析软件：可实现点、线及所有的面扫描（常规面分布、定量面分布和快速面分布等）功能，可完成微区能谱的采集与定性、定量、粒度、相分析等3.15.17 智能化的自动定性、定量分析工具，自动（手动）标识谱峰，具有峰形优化、自动背底修正、谱峰拟合剥离、多谱比较、谱相减、谱重构、元素侦察等功能；定量分析系统有效鉴别重叠峰，定量数字输出分析结果3.15.18 完整的能谱应用软件：可存储样品每一扫描位置的能谱图，用户以后可在离线状态下从图像上的任何位置创建谱线、线扫描和面分布图，并可以利用元素侦探器分析试样中的微量元素和微量相3.15.19 能谱与电镜一体化软件：自动读取和控制电镜参数，包括放大倍数、工作距离、加速电压及对比度、亮度调节等3.15.20 试验报告：单键即可输出Word，Excel，HTML等多种输出格式3.15.21 电子束漂移校正软件，可对图像漂移进行校正3.15.22 能谱仪与透射电镜相互匹配工作所需的必要附属部件3.16 干泵及其运行所需必要部件：用于样品杆预抽气，防止水汽附着污染3.17 透射电镜CCD成像系统（含硬件、软件、控制电脑、打印机及成像系统运行的必备部件）3.17.1 分辨率：4k×2.7k，1100万像素3.17.2 像素点尺寸：≤ 9 µm×9 µm3.17.3 耦合方式：1:1光纤耦合，HCR高衬度分辨率技术3.17.4 安装位置：底装（正轴）且是抽拉式的3.17.5 操作电压：最大电压至200 kV3.17.6 读取速率：≥ 14 fps3.17.7 抗炫设计：有，且能够直接拍摄电子衍射，可满足日常工作拍摄需求3.17.8 机头保护：机头可伸缩式设计，可实现功能扩充，如EELS3.17.9 动态范围：14位3.17.10 曝光时间：1 ms–30 min3.17.11 制冷模式：半导体制冷加循环冷却水冷却（连接电镜冷却水系统）3.17.12 基本操作软件：Digital Micrograph软件，可实现数据的采集、分析、处理等3.17.13 DIFPack衍射花样分析软件包，可对电子衍射花样直接进行点标定、测量点与点间的距离及角度等3.17.14 图像存储模式：*.dm3图像存储格式，可与.tiff格式、.jpg格式、.emf格式、.bmp格式、.gif格式等自由转换3.17.15 其他与电镜连接及保证成像系统正常工作的必备部件3.18 离子减薄仪3.18.1 基本功能：该设备用于透射电镜的样品制备，适合导体和非导体样品的减薄3.18.2 可独立的小角度快速减薄，无污染、不损伤试样3.18.3 两支潘宁式离子枪，聚焦离子束设计，离子枪在使用中无消耗3.18.4 环形永磁铁聚焦，保证聚焦均匀3.18.5 离子束的电流密度：10m A/cm2（每离子源）3.18.6 减薄角度为 ±10°，每只离子枪均可独立调节3.18.7 离子枪固定，样品台旋转，速度1-6 rpm3.18.8 离子枪束能量0.1–6 keV3.18.9 双束离子束调制系统,可进行≤ 1º的单、双面减薄3.18.10 样品转移后1分钟内真空负载锁定，真空腔内恒定高真空3.18.11 真空系统：无油二级系统，包括：无油隔膜泵和超静音分子泵3.18.12 样品台：铜柱样品台，钼柱样品台，粘式和夹式DuoPost样品台各2个3.18.13 所需气体：氩气，操作压力25 psi，无需水冷3.18.14 氩气钢瓶及压力表1套，提供必要的连接管线与接头3.18.15 样品观察：40x和80x双目镜3.18.16 笔记本电脑控制并用显微镜观察记录3.19 超声波切割机3.19.1 功能：从大块样品上切割出直径为3 mm的电镜样品圆片3.19.2 应用范围：可切割厚度达 5 mm的半导体、陶瓷、地质类等高硬度高脆性材料3.19.3 切割厚度≤ 40 μm–5 mm3.19.4 样品台带磁性，X-Y双向可移3.19.5 带有观察灯的立体显微镜，用于样品准确定位3.19.6 配备微米尺，可快速读取样品厚度及。