奈米产品验证体系光觸媒脱臭涂料验证规范.doc

奈米產品驗證體系光觸媒脫臭塗料驗證規範文件編號：TN-001版次：1.1制/修訂紀錄版次日期制/修訂摘要審查/核准1.095/09/201.196/12/13「技術委員會」改為「技術審議會」光觸媒脫臭塗料驗證規範1. 適用範圍：本規範適用於含奈米光觸媒成分之塗料，視其乾燥塗膜對有臭氣體(例如乙醛氣體)之吸附分解效果，以判定其是否具有脫臭功能本規範有關塗料脫臭功能試驗包含(甲)(乙)兩類的試樣製作及測試操作，依序適用於對試驗氣體吸附可忽略的甲類試樣，以及對試驗氣體吸附不可忽略的乙類試樣2. 參考資料：2.1 日本光觸媒製品技術協議會(SITPA)光觸媒性能評估試驗法(2001年版)IIa氣袋A法2.2 日本光觸媒製品技術協議會(SITPA)光觸媒性能評估試驗法(2001年版) IIb氣袋B法3. 用語解釋：3.1 奈米級光觸媒脫臭塗料：含奈米級光觸媒成份之塗料，並具有脫臭功能者如該塗料需搭配底料或其它劑料時，該系列一併統稱之3.2 脫臭率：係指具有奈米級光觸媒分解空氣中不良成份(臭味)功能之氣體濃度百分比3.3 光觸媒：係指此材料在吸收光之後，可促進化學反應，但本身在反應前後不受改變之材料。

3.4 基板：奈米光觸媒塗料噴塗其上以供測試之板片，一般使用穩定惰性物質，如玻璃、金屬等3.5 吸附性：具有粘附(物理性)或分解(化學性)其他物質功能者4. 等級標準：4.1要求水準項目特性要求水準奈米性奈米光觸媒成份粒徑＜100 nm脫臭功能性對乙醛之脫臭或分解功能去除率70 %以上塗料特性塗料原本應有特性4.2說明申請者必須提供詳實之測試報告以顯示：4.2.1 奈米光觸媒材料之奈米性4.2.2 奈米光觸媒塗料之脫臭功能性5. 試驗方法：5.1 奈米性試驗方法詳見附錄一「奈米級光觸媒脫臭塗料奈米性試驗方法」5.2 功能性試驗方法詳見附錄二「奈米級光觸媒脫臭塗料脫臭功能試驗方法」6. 標示符合奈米標章之奈米級光觸媒脫臭塗料之產品上應標示下列事項：6.1 認可產品名稱6.2 奈米標章及認可之產品功能說明6.3 其他相關法規要求事項7. 附則：本規範經工作小組制定審查，陳奈米標章技術審議會核准後發行，修訂時亦同附錄一：奈米級光觸媒脫臭塗料奈米性試驗方法1. 奈米性試驗方法1.1奈米原材料或塗料奈米原材料或塗料中之光觸媒原料成分晶相係以X-光繞射儀分析1.2設備X-光繞射儀—參考ASTM D3720-90。

1.3樣品製作若原料為液態，以70 °C烘乾後，研磨成粉末後備用將粉體樣品平整地壓填至X-光繞射儀之樣品支持器上(specimen holder)，製備方法參考ASTM D3720-901.4操作操作步驟參考ASTM D5380-93測試之2q角由5°~65°，分析之結果是以各繞射峰之d-spacing與訊號強度表示1.5結果分析鑑定方法參考ASTM D5380-93利用ICDD Alphabetical Index1 之檔案做最初之晶相分析，再利用Powder Data File2做所有繞射峰的檢定1.5.1 將所有繞射峰的d-spacing與強度，以d-spacing由小至大排序列出，若d-spacing > 3.5 Å，則需列到小數第二位，若d-spacing ≤ 3.5 Å，則至少列到小數第三位1.5.2 利用Hanawalt Method、Fink Method或其他系統化之方法鑑定繞射峰之晶相由已知或猜測的組成先做比對，可加速所有繞射峰之晶相的鑑定1.5.3 表一列出常見之光觸媒的d-spacing與繞射強度註(1)：Alphabetical Index – Inorganic Phases, Catalog No. A142, ICDD註(2)：“Powder Diffraction File, Inorganic,” ICDD表一 常見之光觸媒的d-spacing與繞射強度d-spacing 與 相對繞射強度A名稱組成ICDD File Number3.52x2.37021.89241.70021.6672AnataseTiO221-12723.247x2.48752.18831.68761.6242RutileTiO221-12762.476x2.81462.60341.62531.4773Zinc OxideZnO36-1451A 下標表示相對繞射強度，數值以10為強度最高的繞射峰，並以”X”表示。

2. 奈米尺度檢測方法2.1光子相關法2.1.1 參考標準規範ISO 13321:1996規範：Particle size analysis - Photon correlation spectroscopy.2.1.2 檢測方法光子相關法又稱為動態光散射法(Dynamic Light Scattering, DLS)或是準彈性光散射法(Quasi-Elastic Light Scattering, QELS)為現階段最常用的一種奈米級粒徑量測方法之一其受到廣泛使用的主要原因不外乎光子相關法可以快速的提供平均粒徑尺寸與粒徑分佈的資訊，同時軟硬體設備成本相對不高，且在市面上已有多數商用機型可供選擇，量測範圍從1 nm至5,000 nm不等2.1.3 檢測注意事項(1) 本檢測法為濕式量測法，樣本一般準備為濃度0.01 ~ 10 %(視各量測機器為主) 的溶液中，並裝置於1 cm × 1 cm的方形檢測槽(vat)內2) 檢測時需註明浸泡溶液的種類，並告知浸泡溶液的黏度與折射率3) 測定溫度需控制在 ± 0.3 ℃以內4) 測試前需使用0.2 mm的過濾器過濾後再進行檢測5) 檢測設備需使用具追溯的標準粉體樣本先行驗證，以確認檢測設備的準確性。

2.2穿透式/掃描式電子顯微鏡2.2.1 參考標準規範ISO 16700:2004(E)規範：Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Guidelines for calibrating image magnification.2.2.2 檢測原理電子顯微鏡是根據電子與物質作用所產生的訊號來提供奈米材料粒徑大小、分佈及型態的特性和其它的分析方法比較起來，電子顯微鏡除了可以直接量取粒徑大小，最大的優點在於擷取的成像可用來判斷粉體的形狀，並可應用於粒徑分佈從數奈米至數微米大小的廣泛材質2.2.3 檢測注意事項(1) 本檢測法為乾式量測法，毋須浸泡於溶液中2) 系統需抽真空氣壓，易污染真空腔者，應作特殊處理3) 檢測設備需使用具追溯的標準樣本先行驗證，以確認檢測設備的準確性4) 有必要可以將樣本鍍金，以增加系統的判讀性附錄二：奈米級光觸媒脫臭塗料脫臭功能試驗方法本試驗方法(係以乙醛氣體為試驗氣體)，係以具奈米光觸媒脫臭塗料所製備之試片組，於一定時間內一組試片經紫外光照射(明條件處理步驟)，另一組試片則未經紫外光照射(暗條件處理步驟)，比較兩組試片對乙醛氣體的去除效果，以計算其脫臭率。

本試驗方法包含(甲)(乙)兩類的試樣製作及測試操作，依序適用於對試驗氣體之吸附可忽略的甲類試樣，以及對試驗氣體之吸附不可忽略的乙類試樣1. 試驗前準備1.1藥品及器材1.1.1 乙醛氣體：具追溯性之標準氣體1.1.2 試驗與氣體調製用袋：Tedolar袋(材質PVF)，容量5L，附開關栓1個1.1.3 遮光箱：需可完全覆蓋Tedolar袋，使光線無法進入者；使用遮光蓋亦可1.1.4 紫外線照射裝置：平行安裝2支相當於20 W型FL20S·BLB燈管的黑光燈，釋出波長約(310 ~ 400) nm的紫外線1.1.5 紫外線強度測試計：可測波長範圍(310 ~ 400) nm1.1.6 乙醛氣體檢知管：Gastek製92M (檢知範圍2.5 ~ 100 ppm)、92 (檢知範圍4 ~ 750 ppm)，或同等級之檢知管1.1.7 氣體集取機：最好與檢知管同一廠商1.1.8 透明黏膠帶：聚丙烯(PP)材質；不得使用聚氯乙烯(PVC)或橡膠膠帶(Gum tape)1.2試驗氣體的調製使用Tedolar袋，以空氣稀釋乙醛標準氣體，成為3公升(乙醛氣體濃度80 ~ 100 ppm)隨後，關閉迷你栓。

為了使袋內的乙醛濃度更為均一，交互按壓袋子的兩端，以混合內部的氣體；接著放入遮光箱，靜置於室溫(20 ~ 25 ℃) 30分鐘依上法製作試驗用氣體袋4只備用氣體袋製作完成，以檢知管測定氣體濃度，每只氣體袋各測兩次求平均值若任一測試值於80 ~ 100 ppm以外時，則應重調製試驗氣體1.3甲類試樣製作依液態塗料之使用方法(如先塗底料，再塗面料)，將塗料均勻塗佈於(100 ± 2) cm2之非吸附性之惰性基材(如玻璃、金屬板)，待其自乾或烘乾達塗佈層穩定後可得一試料試片；或者，將塗料均勻塗佈於較大面積之非吸附性之惰性基材，待其自乾或烘乾達塗佈層穩定後，再切割成(100 ± 2) cm2之試料試片之後，該試料試片需經過紫外線(1.0 mW/cm2)照射3小時以上的前處理，冷卻至室溫即成一試驗試片如此，以該法製作4片試驗試片備用1.4乙類試樣製作依液態塗料之使用方法(如先塗底料，再塗面料)，將塗料均勻塗佈於(25 ± 1) cm2之非吸附性之惰性基材(如玻璃、金屬板)，待其自乾或烘乾達塗佈層穩定後可得一試料試片；或者，將塗料均勻塗佈於較大面積之非吸附性之惰性基材，待其自乾或烘乾達塗佈層穩定後，再切割成(25 ± 1) cm2之試料試片。

針對使用具吸附性塗料製作之試料試片，依其試片或試樣耐熱性能，應予以70 ~ 120 ℃溫度4小時的加強乾燥處理之後，該試料試片需經過紫外線(1.0 mW/cm2)照射3小時以上的前處理，冷卻至室溫即成一試驗試片如此，以該法製作4片試驗試片備用2. 測試操作2.1甲類試樣測試操作2.1.1將Tedolar袋4只切口，把試驗試片置於袋中，再進行Tedolar切口處密封密封前，先將Tedolar袋內空氣儘量擠排出2.1.2將上述裝妥試驗試片之袋子，與另備妥含試驗氣體的袋子，以矽橡膠管(Silicone tube)連接，打開兩方的袋子的開關栓，按壓含試驗氣體的袋子，使試驗氣體迅速進入裝妥試驗試片之袋中，立刻關閉活栓，並立刻放入遮光箱，於室溫(20 ~ 25 ℃)保存2.1.3依上法製作之試樣4只，靜置至少30 分鐘後，每只試樣分別使用檢知管進行2次氣體濃度檢測，測定結果之平均值(計算值取至小數點第一位，小數點第二位四捨五入)作為「初始氣體濃度」若任一測定值在80 ~ 100 ppm範圍外時，則應重新調製試驗氣體2.1.4上述之試樣分為明、暗條件二組，每組各2只氣體袋1) 暗條件試樣繼續靜置遮光箱中，於室溫(20 ~ 25℃)靜置2小時後，每只試樣分別以檢知管進行2次氣體濃度測定，測定結果之平均值(計算值取至小數點第一位，小數點第二位四捨五入)即為「暗條件試驗區」之測定值。

2) 明條件試樣則以紫外線(1.0 mW/cm2)於。