
片式电阻项目内部风险抑制.docx
52页泓域/片式电阻项目内部风险抑制片式电阻项目内部风险抑制xxx投资管理公司目录第一章 公司简介 4一、 公司基本信息 4二、 公司简介 4第二章 项目背景分析 6一、 产业环境分析 6二、 材料:国产替代尚处早期,未来空间广阔 7三、 必要性分析 9第三章 项目基本情况 11一、 项目承办单位 11二、 项目实施的可行性 13三、 项目建设选址 15四、 建筑物建设规模 15五、 项目总投资及资金构成 15六、 资金筹措方案 16七、 项目预期经济效益规划目标 16八、 项目建设进度规划 16第四章 内部风险抑制 19一、 风险交流 19二、 信息管理 21三、 保险 21四、 其他利用合同的融资措施 32第五章 法人治理结构 34一、 股东权利及义务 34二、 董事 37三、 高级管理人员 41四、 监事 44第六章 项目风险防范分析 47一、 项目风险分析 47二、 项目风险对策 49第七章 组织机构及人力资源配置 51一、 人力资源配置 51二、 员工技能培训 51第一章 公司简介一、 公司基本信息1、公司名称:xxx投资管理公司2、法定代表人:谭xx3、注册资本:1280万元4、统一社会信用代码:xxxxxxxxxxxxx5、登记机关:xxx市场监督管理局6、成立日期:2015-6-107、营业期限:2015-6-10至无固定期限8、注册地址:xx市xx区xx二、 公司简介公司不断建设和完善企业信息化服务平台,实施“互联网+”企业专项行动,推广适合企业需求的信息化产品和服务,促进互联网和信息技术在企业经营管理各个环节中的应用,业通过信息化提高效率和效益。
搭建信息化服务平台,培育产业链,打造创新链,提升价值链,促进带动产业链上下游企业协同发展当前,国内外经济发展形势依然错综复杂从国际看,世界经济深度调整、复苏乏力,外部环境的不稳定不确定因素增加,中小企业外贸形势依然严峻,出口增长放缓从国内看,发展阶段的转变使经济发展进入新常态,经济增速从高速增长转向中高速增长,经济增长方式从规模速度型粗放增长转向质量效率型集约增长,经济增长动力从物质要素投入为主转向创新驱动为主新常态对经济发展带来新挑战,企业遇到的困难和问题尤为突出面对国际国内经济发展新环境,公司依然面临着较大的经营压力,资本、土地等要素成本持续维持高位公司发展面临挑战的同时,也面临着重大机遇随着改革的深化,新型工业化、城镇化、信息化、农业现代化的推进,以及“大众创业、万众创新”、《中国制造2025》、“互联网+”、“一带一路”等重大战略举措的加速实施,企业发展基本面向好的势头更加巩固公司将把握国内外发展形势,利用好国际国内两个市场、两种资源,抓住发展机遇,转变发展方式,提高发展质量,依靠创业创新开辟发展新路径,赢得发展主动权,实现发展新突破第二章 项目背景分析一、 产业环境分析厦门,简称厦或鹭,别称鹭岛,是福建省副省级市、计划单列市,国务院批复确定的中国经济特区,东南沿海重要的中心城市、港口及风景旅游城市。
截至2019年,全市下辖6个区,总面积1700.61平方公里,建成区面积389.48平方公里,常住人口429万人,户籍人口261.10万人厦门地处中国华东地区、福建省东南端,是国家综合配套改革试验区、国家物流枢纽、东南国际航运中心、自由贸易试验区、国家海洋经济发展示范区,已成为两岸新兴产业和现代服务业合作示范区、两岸区域性金融服务中心和两岸贸易中心厦门由岛内(厦门本岛)、离岛鼓浪屿、西岸海沧半岛、北岸集美半岛、东岸翔安半岛、大嶝岛、小嶝岛、内陆同安、九龙江等组成,陆地面积1699.39平方公里,海域面积390多平方公里厦门通行闽南语厦门话,与漳州、泉州同为闽南地区的组成部分截至2018年,厦门的综合信用指数在36个省会及副省级城市排名第2,营商环境居副省级城市第1位,外贸综合竞争力居全国第5位,厦门港集装箱吞吐量位居全球第14位2018年重新确认国家卫生城市(区)2019年厦门地区生产总值(GD)5995.04亿元,按可比价格计算,比上年增长7.9%,排名福建省第3位2020年1月22日,被住房和城乡建设部命名为国家生态园林城市二、 材料:国产替代尚处早期,未来空间广阔半导体制造环节所需用到的材料大概可分为以下8类,其中硅片在材料成本占比最大,达33%,其次为电子特气、光掩膜版、光刻胶、抛光材料等。
整体来看,我国半导体材料能力较为薄弱,硅片作为主要材料国产化率约20%,大尺寸硅片国产化率仍处低位,ArF光刻胶仅南大光电通过客户验证,EUV光刻胶暂无国内厂商可量产,其他如抛光材料、湿电子化学品等国产化率也较低,国产替代空间广阔国内具备12英寸大硅片生产能力,大尺寸硅片国产替代空间广阔硅片产业壁垒高,市场具有一定的垄断性同时国内企业进入时间较晚,国外企业占据了大部分市场份额,据SEMI数据,2020年全球前五大半导体硅片厂商均为国外企业,合计占据全球87%的市场份额国内大硅片产业布局晚,目前仅立昂微、沪硅产业、中环股份等少数厂商实现了12英寸硅片的量产预计未来随着国内12英寸硅片产能的提升,硅片环节对外依赖度将逐步降低光刻胶:整体受制于人,国内以低端产品量产为主目前全球半导体光刻胶市场主要被日本和美国企业瓜分在g/i线光刻胶领域,19年日本和美国企业合计市占率超8成;在KrF光刻胶方面,日本企业占主导地位,美国杜邦占11%份额;在ArF光刻胶方面,日本企业仍占主导地位;EUV光刻胶则主要由日本JSR及TOK提供国内厂商在技术积累、产能建设等方面存在差距,仅在g/i线、KrF光刻胶领域有少数厂商具备量产能力,南大光电为国内首家突破高端ArF光刻胶的企业,目前已通过两家客户认证,年产能25吨。
工信部于19年12月发布的《重点新材料首批次应用示范指导目录(2019年版)》中,集成电路光刻胶共有包括I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF/ArFi光刻胶、厚膜光刻胶等8种“光刻胶及其关键原材料和配套试剂”入选,在政策扶持下,国内光刻胶企业将有望受益于中国半导体产能快速扩展和供应链自主可控的需求电子特气:国产化步伐加快,部分产品实现替代在全球市场,空气化工、林德集团、液化空气和大阳日酸等四大国外公司控制着全球90%以上的市场份额,国内供给格局与全球相似,形成寡头垄断的局面,18年国内气体公司整体份额12%中国的特种气体行业经过30年的发展和沉淀,国产化具备了客观条件,已有华特股份、南大光电等多家特气公司实现了部分产品进口替代,例如,华特自主研发的Ar/F/Ne等4种混合气于2017年得到全球最大光刻机制造厂商ASML的认证,Ar/Ne/Xe于2020年也得到全球主要光刻机光源制造厂商Gigaphoton认证通过,具备替代进口能力光掩膜版领域,除英特尔、三星、台积电三家全球最先进的晶圆制造厂所用的掩膜版自供外,其它的掩膜版主要被美国Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司所垄断。
我国掩膜版制造主要集中在少数企业和科研院所,如无锡华润、无锡中微等少数企业能制造0.13μm以上StepperMask,在HTM(半透膜)、GTM(灰阶掩膜版)、PSM(先进相移掩膜)等掩膜版领域,我国主要依赖进口抛光材料领域,全球抛光液和抛光垫市场长期被美国和日本企业垄断;在国内,安集科技已打破抛光液的进口依赖局面,2018年抛光液全球市占率2%,鼎龙股份的抛光垫产品也在持续开拓市场湿电子化学品及靶材领域,国内具备一定供应能力,但国产化率仍待提升19年我国超净高纯化学品35%由欧美厂商提供,9%由中国大陆厂商提供,主要为晶瑞电材、中巨芯科技、安集科技靶材方面,目前国内江丰电子已可量产用于90-7nm半导体芯片的钽、铜、钛、铝靶材,有研新材亦具备半导体靶材提供能力整体来看,我国尚处半导体材料发展尚处初期,国产替代迫在眉睫三、 必要性分析(一)现有产能已无法满足公司业务发展需求作为行业的领先企业,公司已建立良好的品牌形象和较高的市场知名度,产品销售形势良好,产销率超过 100%预计未来几年公司的销售规模仍将保持快速增长随着业务发展,公司现有厂房、设备资源已不能满足不断增长的市场需求公司通过优化生产流程、强化管理等手段,不断挖掘产能潜力,但仍难以从根本上缓解产能不足问题。
通过本次项目的建设,公司将有效克服产能不足对公司发展的制约,为公司把握市场机遇奠定基础二)公司产品结构升级的需要随着制造业智能化、自动化产业升级,公司产品的性能也需要不断优化升级公司只有以技术创新和市场开发为驱动,不断研发新产品,提升产品精密化程度,将产品质量水平提升到同类产品的领先水准,提高生产的灵活性和适应性,契合关键零部件国产化的需求,才能在与国外企业的竞争中获得优势,保持公司在领域的国内领先地位第三章 项目基本情况一、 项目承办单位(一)项目承办单位名称xxx投资管理公司(二)项目联系人谭xx(三)项目建设单位概况本公司秉承“顾客至上,锐意进取”的经营理念,坚持“客户第一”的原则为广大客户提供优质的服务公司坚持“责任+爱心”的服务理念,将诚信经营、诚信服务作为企业立世之本,在服务社会、方便大众中赢得信誉、赢得市场满足社会和业主的需要,是我们不懈的追求”的企业观念,面对经济发展步入快车道的良好机遇,正以高昂的热情投身于建设宏伟大业公司秉承“以人为本、品质为本”的发展理念,倡导“诚信尊重”的企业情怀;坚持“品质营造未来,细节决定成败”为质量方针;以“真诚服务赢得市场,以优质品质谋求发展”的营销思路;以科学发展观纵观全局,争取实现行业领军、技术领先、产品领跑的发展目标。
公司不断建设和完善企业信息化服务平台,实施“互联网+”企业专项行动,推广适合企业需求的信息化产品和服务,促进互联网和信息技术在企业经营管理各个环节中的应用,业通过信息化提高效率和效益搭建信息化服务平台,培育产业链,打造创新链,提升价值链,促进带动产业链上下游企业协同发展当前,国内外经济发展形势依然错综复杂从国际看,世界经济深度调整、复苏乏力,外部环境的不稳定不确定因素增加,中小企业外贸形势依然严峻,出口增长放缓从国内看,发展阶段的转变使经济发展进入新常态,经济增速从高速增长转向中高速增长,经济增长方式从规模速度型粗放增长转向质量效率型集约增长,经济增长动力从物质要素投入为主转向创新驱动为主新常态对经济发展带来新挑战,企业遇到的困难和问题尤为突出面对国际国内经济发展新环境,公司依然面临着较大的经营压力,资本、土地等要素成本持续维持高位公司发展面临挑战的同时,也面临着重大机遇随着改革的深化,新型工业化、城镇化、信息化、农业现代化的推进,以及“大众创业、万众创新”、《中国制造2025》、“互联网+”、“一带一路”等重大战略举措的加速实施,企业发展基本面向好的势头更加巩固公司将把握国内外发展形势,利用好国际国内两个市场、两种资源,抓住发展机遇,转变发展方式,提高发展质量,依靠创业创新开辟发展新路径,赢得发展主动权,实现发展新突破。
二、 项目实施的可行性光刻胶:整体受制于人,国内以低端产品量产为主目前全球半导体光刻胶市场主要被日本和美国企业瓜分在g/i线光刻胶领域,19年日本和美国企业合计市占率超8成;在KrF光刻胶方面,日本企业占主导地位,美国杜邦占11%份额;在ArF光刻胶方面,日本企业仍占主导地位;EUV光刻胶则主要由日本JSR及TOK提供国内厂商在技术积累、产能建设等方面存在差距,仅在g/i线、KrF光刻胶领域有少数厂商具备量产能力,南大光电为国。
