202X年磁控溅射操作流程及注意事项.docx

磁控溅射操作流程及注意事项一、打开冷却水箱电源（注：水箱电源是设备的总电源检查水压是否足够大（0.1MPa）,水压控制器是否起作用二、 放气2.1确认磁控溅射室内部温度已经 冷却到室温；2.2检查所有阀门是否全部处于 关闭状态；2.3磁控溅射室的放气阀是 V2,放气时旋钮缓慢打开，这可以保证进入气流不会太大；2.4放气完毕将气阀关紧三、 装卸试样与靶材3.1打开B柜总电源（在B9面板上），电源三相指示灯全亮为正常3.2提升或降落（B4 “升”或“降“）样品台要注意点动操作，不要连续操作3.3装卸试样与靶材要戴一次性薄膜手套，避免油污、灰尘等污染3.4磁控靶屏蔽罩与阴极间距为 2-3毫米，屏蔽罩与阴极应该为 断路状态3.5装载试样要注意试验所用样品座位置与档板上溅射孔的对应， 并记录样品座的编号及目前所对应的靶位3.6降落样品台时要注意样品台与溅射室的吻合， 并用工业酒精擦洗干净样品台与溅射室的配合面四、抽真空4.1确认D面板"热电偶测量选择"指示"I "时；4.2确认闸板阀G2、G4已经关闭；4.3打开B4上“机械泵I ”，再打开气阀 V1 ,开始抽低真空4.4打开B3面板的电源开关，同时关闭“复合”键。

可以从B3- 1处观察低真空度低真空测量下限为 0.1Pa）当真空度小于 5Pa可以开始抽高真空4.5关闭气阀V1 ,打开B4上“电磁阀I” （确认听到响声表示电磁阀已开）4.6打开B8面板的磁控室分子泵电源，按下“ START”键，按下FUNC/DATA键，数 字开始逐步上升，等大于 H100.0后打开闸板阀 G1,随后分子泵速上升并稳定到 H400.0O4.7磁控室的高真空度在 B2面板显示，不要一直开着高真空的测量，也不要频繁开 关，通常每隔1-2小时可打开观察一次，等示数稳定后再关闭（一般不超过 3分钟）五、充气5.1确认高真空度达到了 -4、-5的数量级，在充气之前 必须关闭高真空计；5.2打开A1面板上MFC电源，预热3分钟；5.3稍关闭闸板阀G1到一定程度，但不要完全关紧5.4打开V4、V6 （若是二路进气， V5应和V6同时打开）阀门5.5将控制阀扳到“阀控“位置5.6打开气瓶阀门，稍旋紧减压阀至压力示数为 0.1MPa即可；5.7调节MFC阀控的设定（一般在 30左右），再进一步关紧闸板阀使得低真空（ B3-1）读数接近所需的溅射压强，然后通过微调 MFC阀控得到所需的溅射压强。

六、 溅射6.1确认溅射靶位电源已经连接6.2确认定位销已经脱开6.3直流溅射6.3.1打开电源开关，调节旋钮至电压达到一定值（一般不超过 0.3kv）,直流可以顺利启辉，此时电流开始有数值6.3.2电压与电流乘积为功率值，可继续调节旋钮到所需溅射功率，但是要 小于160W6.3.3直流溅射的关闭：调节旋钮至最小，关闭电源6.4射频溅射6.4.1打开Uf预热5分钟6.4.2面板E或F上的量程按钮设定为 200/406.4.3打开Ua,并通过粗调与微调 Ua,接近设定工艺功率，然后通过匹配调节， 即调整面板E或F上的C1和C2,得到所需溅射功率匹配的调整规定如下：F为设定功率（小于 160W）, R要小于1.5或F的8%;对于绝 缘材料，在满足 F功率的要求下，R要尽量小，且最大不能超过 F的15%6.4.4射频溅射的关闭：粗调与微调 Ua关到最小关闭 Uw等待3minr关闭Uf注：连续溅射一小时后需暂停溅射， 关闭气路，等抽真空30分钟后再重新充气溅射七、 溅射结束7.1关闭气瓶阀门，旋松减压阀至压力示数为 0;7.2将MFC阀开关置于“关闭”位，并将流量调至零，然后关闭电源开关；7.3关闭V6和V4阀门（若是二路进气， V5应和V6同时关闭）；7.4打开闸板阀，继续抽真空 30分钟后关闭闸板阀；7.5关闭分子泵：按下“ STOP”键等待分子泵速下降到 H100.0以下关闭电源。

7.6关闭电磁阀I与机械泵I7.7等30分钟后，关冷却水电源八、 其他操作说明8.1加负偏压加偏压方法：打开偏压电源，调整偏压为200v即可偏压要在开始镀膜之前施加8.2基板加热8.2.1确认热偶回路、加热回路连接正常，完好；8.2.2打开加热电源I,设定加热温度，调整电流加热；8.2.3结束加热：先将电流调到最小，然后关闭电源九、清理工作及离开注意事项9.1将所用工具放回原处，整理室内卫生；9.2在离开之前，应确认拉闸断电，关闭门窗十、紧急情况处理突然停电后的措施：尽快关闭闸板阀，然后关闭各路气阀，关闭电路按钮开关进样室加热退火操作流程及注意事项一、打开冷却水箱电源（注：水箱电源是设备的总电源检查水压是否足够大（0.1MPa）,水压控制器是否起作用二、 放气2.1确认进样室内部温度已经 冷却到室温；2.2检查所有阀门是否全部处于 关闭状态；2.3进样室的放气阀是 V8 ,放气时旋钮缓慢打开，这可以保证进入气流不会太大；2.4放气完毕将气阀关紧三、 装卸样品3.1打开进样室门，将样品朝下，送入退火炉内，使样品托的尖端插入圆形槽内，保 证样品托与退火炉平行；3.2关闭进样室门并锁紧旋钮四、 抽真空4.1确认闸板阀 G2、G4已经关闭4.2打开B5面板上“机械泵ID” ，再打开气阀 V9,开始抽低真空。

4.3打开B3面板的电源开关，同时关闭“复合”键可以从B3- 2处观察低真空度低真空测量下限为 0.1Pa）当真空度小于 5Pa可以开始抽高真空4.4关闭气阀V9 ,打开B4上"电磁阀nT（确认听到响声表示电磁阀已开）；4.5打开B7面板的进样室分子泵电源，按下“工作”键，高速 /转速指示灯亮，随后分子泵速上升并稳定到 704,然后打开闸板阀 G34.6进样室的高真空度在 B3-2面板显示（复合键灯亮，测量值为高真空度） ，不要- 直开着高真空的测量，也不要频繁开关，通常 1小时后可达到4x10-3pa,打开后等示数稳定 后再关闭（一般不超过 1分钟）五、 加热退火5.1确认热偶回路、加热回路连接正常，完好；5.2打开对应加热电源，设定加热温度，调整电流加热；5.3结束加热：先将电流调到最小，然后关闭电源六、 结束6.1关闭闸板阀；6.2关闭分子泵：按下“工作”键等待分子泵速下降到 0^关闭电源；7.6关闭电磁阀III与机械泵III;7.7等1小时后，关冷却水电源七、 清理工作及离开注意事项9.1将所用工具放回原处，整理室内卫生；9.2在离开之前，应确认拉闸断电，关闭门窗八、 紧急情况处理突然停电后的措施：尽快关闭闸板阀，关闭电路按钮开关。

附：简单操作步骤一、 磁控溅射1.1 准备工作：打开冷却水箱电源 打开V2放气关闭V2 打开磁控室装样品与靶材r 关闭磁控室1.2 抽真空：开机械泵I 打开V1气阀 至低真空小于 5Pa 关闭V1气阀开电磁阀I 开分子泵 r 至转速大于 H100.0 打开闸板阀G11.3 充气：打开MFC预热3分钟 稍关闭闸板阀 G1 打开V4 打开V6（或V5） 将MFC丁到“阀控” 打开气瓶 r 关紧闸板阀G1 调节MFC1.4 溅射：打开电源开关 调节功率至启辉1.5 溅射结束： 将功率调至最小 "关闭电源 "关闭气瓶 "关MFC " 关V6（或V5）r 关V4 “打开闸板阀 G1 “抽真空30分钟"关闭闸板阀"关 闭分子泵 关闭电磁阀I r 关机械泵I r 30分钟后关冷却水电源1.6 整理工作：整理仪器和卫生 - 拉闸断电，关闭门窗进样室退火2.1 准备工作： 打开冷却水箱电源 打开V2放气关闭V2 打开进样室装样品关闭进样室2.2 抽真空：开机械泵III 打开V9气阀 至低真空小于 5Pa 关闭V9气 阀r 开电磁阀III r 开分子泵 r 至转速稳定704 打开闸板阀G32.3 加热：打开电源 设定加热程序 r 调整电流开始加热2.4 加热结束：将电流调至最小 "关闭电源 " 关闭闸板阀 "关闭分子泵 " 关闭电磁阀III " 关机械泵III " 1小时后关冷却水电源2.5 整理工作：整理仪器和卫生 拉闸断电，关闭门窗附：SR93温度控制器说明书（进样室退火和磁控室基板加热）1. 打开电源，按 GRP,进入Prog （程序）设置：Stepl （升温曲线）：*按“step”调加热温度（C），按“Ent”确认；*按“八’调升温时间（小时），按“Ent”确认；Step2 （保温曲线）：重复上述步骤Step3 （降温曲线）：重复上述步骤（但一般都随炉冷却，保温时间到后直接关电源即可）2. 设定完程序，退回到初始状态，按“ Run”约3秒，绿灯亮，就开始运行3. 缓慢顺时针旋转面板功率调节旋钮， 将电流调至4A，停留2分钟后，将电流调至8A （将旋钮再旋1/2圈即可），一般加热到最局温度只需 8A电流。

4. 关电源时，先调节功率旋钮到底，再关闭电源。