《纳米压印技术》PPT课件.ppt

单击此处编辑母版标题样式,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,*,*,紫外纳米压印光刻技术,*,*,*,Ultraviolet nanoimprint lithography technology,目录：,介绍,过程,应用,未来前景,Contents,介绍,纳米压印光刻（,NIL,）,是制造纳米尺度图案的方法它是一种简单的纳米光刻工艺，具有成本低，产量高，分辨率高它通过压印抗蚀剂的机械变形和随后的工艺形成图案印记抗蚀剂通常是在印迹期间通过热或,UV,光固化的单体或聚合物制剂控制抗蚀剂和模板之间的粘合以允许适当的释放分类,热塑性纳米压印光刻,(T-NIL),紫外纳米压印光刻,(UV-NIL),微接触印刷（,CP,）,热塑性纳米压印光刻（,T-NIL,）,在标准的,T-NIL,工艺中，将薄的抗蚀刻层（热塑性聚合物）,旋涂在样品基底上然后将具有预定义拓扑图案的模具与样品接触并将它们在一定压力下压在一起当加热到高于聚合物的玻璃化转变温度时，模具上的图案被压入软化的聚合物膜中冷却后，模具与样品分离，图案抗蚀剂留在基材上可以使用图案转移过程（反应离子蚀刻）将抗蚀剂中的图案转印到下面的基底。

T-NIL,步骤,聚合物被加热到它的,玻璃化温度,以上施加压力,模压过程结束后,整个叠层被冷却到聚合物玻璃化温度以下,脱模脱模时要小心,以防止用力过度而使 模具损伤说明：,玻璃化温度，高聚物由高弹态转变为玻璃态的温度紫外纳米压印光刻,(UV-NIL),流程如下：,被单体涂覆的衬底和透明印章装载到对准机中,通过真空被固定在各自的卡盘中当衬底和印章的光学对准完成后,开始接触透过印章的紫外曝光促使压印区域的聚合物发生聚合和固化成型接下来的工艺类似于热压工艺最近紫外压印一个新的发展是提出了步进,-,闪 光压印步进,-,闪光压印发明于,Austin,（奥斯丁）的,Texas,大 学,它可以达到,10 nm,的分辨率工艺如下图所示,目标和结果,石英印章接触压印,进行,UV,曝光,从基板分离印章,清除残留层,氧蚀剂蚀刻,微接触印刷（,CP,）,模板制备,生成,PDMS,压膜,压膜上墨,将压膜转移到承印物,直接接触,是软光刻技术的一种形式，通常使用,PDMS,模板上的凹凸图案压膜来在承印物的表面通过面接触形成油墨自组装单层膜的图案，就类似纳米转移印刷的情况,说明：,PDMS,比例为,10:1,的硅橡胶和硅橡胶固化剂,三种方法的对比,应用,纳米压印光刻已被用于制造用于电，光，光子和生物应用的器件。

对于电子设备，,NIL,已被用于制造,MOSFET,，,O-TFT,，单电子存储器OTFT:,Organic thin film transistor,有机薄膜晶体管,MOSFET:,Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,金属氧化物半导体场效电晶体,对于光学和光子学，已经通过,NIL,制造亚波长谐振光栅滤波器，表面增强拉曼光谱（,SERS,）传感器，波片，抗反射结构，集成光子电路和等离子体激元器件进行了深入研究注释：,未来前景,纳米压印光刻,是一种简单的图案转印工艺，既不受衍射也不受散射效应的限制，也不受二次电子的限制，不需要任何复杂的辐射化学它也是一种潜在的简单和便宜的技术然而,，对纳米尺度图案的延续性障碍是目前依赖于其他光刻技术来生成模板自组装结构可能为,10,纳米或更小尺度的周期性图案的模板提供最终解决方案截至,2007,年,10,月，东芝是唯一一家经过验证的纳米压印光刻技术，面向,22nm,及以上的公司总结,纳米压印技术是纳米尺寸大面积结构复制的最 有前途的下一代技术之一,这种成本低、效率高的纳米结构制作方法已逐渐应用于生物医学、半导体加工和数据存储等领域,因为传统热压印技术和紫外压印工艺存在模板成本高、图形转移不稳定、压印效率低等缺点。