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37页TFT-LCD原理及設計OUTLINElTFTLCD簡介lTFTLCD的操作原理lTFTLCD的優點lTFTLCD的設計考量lTFTLCD的設計流程TFTLCD簡介lTFTLCD的特性lTFTLCD的操作原理lTFTLCD的優點LCD : 一種光電裝置l光 : Dnm光可分為不同的極化方向m不同極化方向的光經過液晶, 會有不同的光程m光經過此光程差再組合後, 會改變其極化的形式m配合偏光片擋去某個極化方向的光, 即可決定光的穿透率l電 : Dem不同的電壓下, 液晶會有不同的排列方式m不同的液晶排列方式造成不同的光程差, 因而使得穿透率改變如此可將video信號(電)轉換成亮暗顯示(光)TN型液晶 : 亮偏光片1(垂直)偏光片2(水平)水平偏極化光出未偏極化光入液晶未施加電壓 : 偏極化光隨液晶分子扭轉TN型液晶 : 暗無光出未偏極化光入液晶V偏光片1(垂直)偏光片2(水平)液晶的光電特性Tpeak(TN)Tpeak(FFS)主動矩陣式 LCDDATA DRIVERSSCAN DRIVERSl主動元件mTFTmSiNx電容mMIM電容TFTLCD的操作原理l在主動矩陣式 LCD中, 每個畫素具有一TFT, 其閘極連接至水平向的掃描線, 汲極連接至垂直向的資料線, 而源極連接至液晶電極l顯示器同時間一次起動一條水平掃描線, 以將TFT打開, 而垂直資料線送入對應的視訊信號, 對液晶電極充電至適當的電壓l接著關閉TFT, 直到下次重新寫入信號前, 使得電荷保存在電容上; 同時起動次一條水平掃描線,送入對應的視訊信號l依序將整個畫面的視訊資料寫入, 再自第一條重新寫入信號, 一般此重覆的頻率為60~70 Hzl對每個畫素而言, 液晶上所跨的電壓和穿透度具有一定的關係, 而且是完全相同的, 因此, 只要能控制所寫入的電壓, 即可顯示想要的畫面TFTLCD的優點l畫素各自獨立, 可消除串音(crosstalk)現象l畫素自資料線獨立, 在畫素電容上可保持電荷, 故可使用穿透度隨電壓變化較緩的液晶, 出更多灰階l可製成較大面積與較高解析度TFTLCD的設計考量l設計原則 : 確保視訊資料不失真l設計考量 :m設計目標m儲存電容mTFT特性m信號線延遲m曝光分割m其他設計考量1. Global parameters2. Read image3. Map colors4. TFT analysis5. Array analysis6. Cell electrical7. Liquid crystal cell8. Optical analysis9. Display image10. Configure file11. Medici12. Raphael5GIFcolorsVdataVpixelT%GIF236891274,11Liquid Outlook設計目標l解析度 : 驅動頻率, 驅動負載, 畫素大小l面板尺寸 : 驅動負載, 信號延遲, 畫素大小l操作電壓 : TFT充電能力, Feedthrough效應l極性反轉模式 : Cst on gate, common調變l開口率 : 信號線寬, 儲存電容大小l其他光學目標 : 視角, 反應速度, ...極性反轉l液晶不可在直流電壓下操作過久Frame inversionColumn inversionDot inversionRow inversion儲存電容l協助液晶電容之電荷儲存l減少Feedthrough效應lCst on gatem節省common busm增加開口率m驅動電壓設計較複雜CgsCstClcCspCgsCstClcCsp液晶電容之電荷儲存l漏電途徑mTFT關電流m液晶l漏電要求m在新視訊資料寫入前, 漏電不可使電壓變化大於一個灰階CgsCstClcCspGate 打開Qn=Cgs(Vn-Vg)+Cst(Vn-Vst)+Clc(Vn-Vcom)+Csp(Vn-Vs)…(1)Gate 關閉Qn’=Cgs(Vn’-Vg’)+Cst(Vn’-Vst)+Clc(Vn’-Vcom)+Csp(Vn’-Vs’)…(2)(1)-(2)0=Cgs(△Vp-△Vg)+Cst(△Vp)+Clc(△Vp)+Csp (△Vp -△ Vs)電荷守衡CgsCstClcCspFeedthrough效應Clc,aClc,bDVp,a DVp,b W = | DVp,a - DVp,b |(愈小愈好)CgsCstClcCspFeedthrough效應 (續)Feedthrough效應的計算lClc隨電壓而改變lCgs隨電壓而改變l不同電壓下, feedthroughk 大小不同TFT特性l開電流足以在時間內完成充電l關電流不致在時間內漏電太多lCgs愈小, 則feedthrough亦愈小TFT 特性需求On current:Off current:On-to-Off ratio:M. Shur, M. Jacunski, H. Slade, M. Hack, "Analytical Models for Amorphous and Polysilicon Thin Film Transistors for High Definition Display Technology," J. of the Society for Information Display, vol. 3, no. 4, p. 223, 1995信號線延遲lCpixel(有些電容可視實際情況忽略或加入)mFor gate bus :nCgd//Cgd'//Cg0//Cgsm//[(Cgp//Cgdm)+(Cpd//Cpd'//Cs//Clc)]// [Cg'p+(Cpd//Cpd'//Cs//Clc)]mFor data busnCdg//Cdg'//Cd0//Cgsm//[(Cdp//Cdsm)+(Cpg//Cpg'//Cs//Clc)]// [Cd'p+(Cpg//Cpg'//Cs//Clc)]lRpixelmr*[bus length/(bus width * thickness)]lDelay = N(N+1) Rpixel * Cpixel /2L. Pillage and R. Rohrer.“The essence of AWE,” IEEE Circuits and Devices Magazine,Sept. 1994, pp.12-19l光罩vs. TFT基板l補償電容曝光分割其他設計考量l製程的變動量m液晶厚度不均勻性mTFT特性漂移lReverse tilt, rubbing等與液晶相關的問題lESD防護l雷射修補l驅動IC推動能力TFTLCD的設計流程l訂定設計規格, 如 : 尺寸, 解析度…l選擇設計架構l收集相關資料l起始設計l依起始設計作Pixel佈局l應用模擬工具驗證設計l周邊光罩佈局l其他注意事項選擇設計架構lTFT結構及製程m poly-Si, BCE, Tri-Layer, Top gate, FSA…l儲存電容方式mstorage on gate或on common…l驅動方式mFrame inversion, dot inversion…lpixel排列方式m直條, 三角…收集相關資料l製程 : Bus metal(阻值, 厚度, taper), active layer, insulators (厚度, dielectric constant)lTFT特性 : Id-Vg, Id-Vd, Vth uniformity, Cgs……m注意 : 考慮worst case :nVt shift includes process scattering and operation instabilitynMobility at 0 oCnMargin between Vdata,min and Vg,offnMaximum voltage difference on TFTlLC cell特性(含PI等) : 電容-電壓, 漏電l驅動IC : 電壓範圍, 驅動能力起始設計l決定Panel/Pixel sizel高估Clc面積l決定TFT之W 及Cstl高估RC delay以決定scan bus widthl應用起始設計程式決定Panel/Pixel sizel分割玻璃基板lPanel size = 所分割之基板大小 + 留邊 + shorting bar + TAB + 拉線 + ESD + 修補線 + pixel arraylPixel size = array size/解析度高估Clc面積l自pixel size中扣除下列各項 : mbus(data, gate, com) : 以layout rule minimum值低估之mTFT : L由device特性決定, 令W = L低估之, 電極所佔面積亦用layout rule minimum值低估之mCs : 以0低估之, (因可能用com bus width即足夠)m其他間隔區域 : 以layout rule minimum值低估l由此面積計算mClc,max=epar*Clc area/cell gap; Clc,min=eprp*Clc area/cell gapmDClc = Clc,max-Clc,minmRlc = r / Clc area * cell gap決定TFT之W 及 CstlIon : (W/L)mCins(Vg-Vt) > (Clc,max+Cs)*ln(2*gray level) /(1/60Hz /scan line #) lIoff < (Clc,min+Cs)*(Vpixel,max)/gray level #/ (1/60Hz)lW = (Vgh-Vgl)*[DClc*Cgs] /[(Clc,max+Cs+Cgs)* (Clc,min+Cs+Cgd)] < gray levellRC delay = [data line#*(data line#+1)] *(Rpixel*Cpixel)/2lRetention ratio = exp{-(1/60Hz)/((Rlc//Roff)*(Clc+Cs))} < 5%高估 RC delay以決定scan bus widthl一般data bus是用metal II (Al)作, 其電阻低且厚度大, 故通常是受限於layout rulel故主要考慮scan bus 的delay :mCpixel,scan = Cscan,data+Cscan,com+(Cgs串聯Cs+Clc) (取最大值)mRpixel = r*[bus length/(bus width * thickness)]mRC delay = N*(N+1)*Rpixel*Cpixel/2m依RC delay決定bus width應用起始設計程式l限制線交集處即為可設計範圍(圖中 區域)l更動設計值可知各種效應的影響l設計者應知何處為高估, 以知其設計的改善空間依起始設計作Pixel佈局lBus (data, gate, com)lTFTlCstlClcl補償電容lBus間crossoverl其他, 如 : light shield, color filter等l注意reverse tilt, rubbing等與液晶相關的問題應用模擬工具驗證設計l依Pixel佈局建立模擬所需參數m液晶電容重新計算m各bus寬度m雜散電容計算lTFT元件SPICE參數l各電壓(scan, data, common)波形設定周邊光罩佈局l雷射修補線lESD防護電路lPixel至TAB佈線lTABlShorting bars(配合測試方法)lAlign marksmlithography, testing, 壓合, 框膠, 銀膠點, TAB…l銀膠點l其他, 如 : Test keys, 版本編號…其他注意事項l考慮design rule及stepping errorlRecticle floor planm將所設計的panel分割放置在光罩上m配合建立黃光job, 先行嘗試重組lTape out前檢查mcheck list。
