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SEM实验报告(word文档良心出品)

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SEM实验报告(word文档良心出品)

试样Labi扫描电镜与能谱仪的原理及应用(一)实验目的1. 熟悉扫描电子显微镜的结构与工作原理2. 熟悉试样制备的要求3. 了解真空镀碳膜仪,真空镀铂膜仪的操作步骤及状态参数了解扫描电子显微镜的 操作规程,熟悉二次电子像与背散射电子像的不同及应用。4. 了解能谱仪的操作规程,熟悉能谱分析中微区成分的点分析、线分析和面分析的 应用与要求。(二)实验仪器设备及样品准备如下:a)HitachiS-4700扫描电子显微镜b)EDAX能谱仪c)真空镀碳膜仪,真空镀铂膜仪d)超声波清洗仪,电吹风e)脆性断口试样、韧性断口试样、陶瓷试样、电镀试样(三)实验原理电子枪阳极聚光镜充阑第二聚光饶 物镜光.阑 扫描线圏图1.1扫描电镜的成像原理3.1电镜工作原理由最上边电子枪发射出来的电子束,经栅格聚焦后,在加速电压作用下,经过二至三个 电磁透镜所组成的电子光学系统,电子束会聚成一个细的电子数聚焦在样品表面。在末级透 镜上边装有扫描线圈,在它的作用下使电子束在样品表面扫描。由于高能电子束与样品物质 的交互作用,结果产生了各种信息:二次电子、背散射电子、吸收电子、X射线、俄歇电子、 阴极荧光和透射电子等。这些信号被相应的接收器接收,经放大后送到显像管的栅极上,调 制显像管的亮度。由于经过扫描线圈上的电流是与显像管相应的亮度一一对应,也就是说, 电子束打到样品上一点时,在显像管荧光屏上就出现了一个亮点。扫描电镜就是这样采用逐 点成像的方法,把样品表面不同的特征,按顺序,成比例地转换为视频信号,完成一帧图像, 从而使我们在荧光屏上观察到样品表面的各种特征图像。3.2 EDX原理-特征X射线图1.2 X-射线的产生X射线的产生是由于入射电子于样品发生非弹性碰撞的结果,当高能电子与原 子作用时,它可能使原子内层电子被激发,原子处于激发状态,内层出现空位,而 外层电子跃迁到空穴产生特征X射线(如K层电子被激发,从L层电子跃迁到空穴就形 成K a寸线),同时产生连续X射线(背底),特征X射线与原子序数有关,通过计数 Si检测器的脉冲确定元素含量。X射线产生原理如图1.4所示。特征X射线分析法是一种显微分析和成分分析相结合的微区分析,特别适用于 分析试样中微小区域的化学成分。其原理是用电子探针照射在试样表面待测的微小 区域上,来激发试样中各元素的不同波长(或能量)的特征X-射线(或荧光X-射线)。 然后根据射线的波长或能量进行元素定性分析,根据射线强度进行元素的定量分析。 3.3样品要求扫描电镜的优点之一是样品制备简单,对于新鲜的金属断口样品不需要做任何处理,可以直接进行观察,但在有些情况下需对样品进行必要的处理。a)样品表面附着有灰尘和油污,可用有机溶剂(乙醇或丙酮)在超声波清洗器中清 洗;b)样品表面锈蚀或严重氧化,采用化学清洗或电解的方法处理。清洗时可能会失去 一些表面形貌;c)特征的细节,操作过程中应该注意;d)对于不导电的样品,观察前需在表面喷镀一层导电金属或碳,镀膜厚度控制在5-10 nm 为宜。在扫描电镜样品制备过程中,首先必须清洁样品。一般的方法是利用超声波清 洗机和适当的溶剂(如丙酮、无水乙醇等)对样品进行清洗即可。若样品上油污过 多或样品上表面腐蚀产物经超声波清洗仍无法去除,可先用适当的清洗剂(如稀盐 酸水溶液等)进行处理。对于金属等导电的样品,直接将其用导电胶固定在样品台上即可。对于陶瓷等 非导电的样品,将其用导电胶固定在样品台上后,应根据分析目的进行不同的导电 处理。a)对于仅观察组织形貌的样品,将其送入离子溅射仪中喷镀上一层导电膜(一般为 纯金膜)后,就可以放进扫描电镜进行观察了;b)对于不仅观察组织形貌,而且还需用能谱仪作元素分析的样品,则应将其送入真 空镀膜仪中喷镀上一层导电的碳膜后,方可将其放进扫描电镜进行观察和分析。(四)实验步骤1 )了解扫描电子显微镜和能谱仪的结构、原理并熟悉使用方法。2)扫描电镜试样制备要求试样去除表面油污、锈蚀、切屑灰尘,不导电试样进行镀Pt或者C膜;电吹 风吹干。3)二次电子图像的观察二次电子图像能够表征材料最表面的形貌特征。二次电子信号产额多,分辨率 高。为获得立体感强、层次丰富、细节清楚的高质量图像,在观察过程中需要反复 选择设定各种条件参数。高压的选择;束斑电流的选择;物镜光阑的选择;工作距离和试样倾斜角 的选择;聚焦和像散校正;放大倍数的选择;亮度和对比度的选择。4)能谱仪微区成分分析扫描电镜开机;抽真空,稳定运行1015min后开启能谱仪;选择合适的工 作参数,点击“Image”按钮,接收SEM照片;点击“Spc”按钮,对所选区域作全谱分 析;点击鼠标右键,对感兴趣的区域作点、线、面成分分析。5)实验数据的输出与分析(五)数据分析5.1用扫描电镜观察ZrO2颗粒形貌图1.3 ZrO2颗粒的低倍扫面照片15.0kV 14.3mm x50.0kSE(M)1.0Oum图1.4 ZrO2颗粒的高倍扫描照片如图1.3所示,ZrO2颗粒在低倍扫描电子显微镜的形貌很清晰,根据二次电子成像原理, 凸出部分的二次电子产额高,ZrO2颗粒(由于ZrO2不导电,所以颗粒表面事先要喷金或喷 碳)凸出表面,所以在二次电子像中呈现为明亮的像,尤其在颗粒的边缘。根据图像上的标 尺,可粗略估计颗粒的尺寸在115um左右,颗粒尺寸的分布并不均匀,有个别颗粒尺寸很大,可能是ZrO2小的颗粒团聚的结果。如图1.4所示,ZrO2颗粒在50K倍的高倍下有些模糊,这是因为即使镀了层导电薄膜 (为了保持表面相貌的清晰,薄膜不能太厚),导电性不会太好,所以成像不是很清晰。这 是因为电子在颗粒表面堆积,产生电场,对电子枪发射的电子有排斥作用,影响二次电子成 像的分辨率。通过图像可知,低倍扫描像中的微米尺寸的ZrO2颗粒是由很多微小的纳米尺 寸颗粒组成,这是由于在颗粒团聚的结果。尺寸做够小的情况下,表面能大,由于能量越低 系统越稳定,减小颗粒的表面有利于减低能量。2.2用能谱仪元素分析2.2.1点分析ZrO2颗粒25-Oct-2Bf2 07:56:39LSecs: 17ElementWt%At%OK20.9760.20ZrL79.0339.80MatrixCorrectionZAF1.2 -iKCrrtas -|02 -0 Io.c 1.0D2.003.DI4.0DLOOEnerg/ketf7 JOO8.00图1.5 ZrO2中选定微区的成分分析结果图1.5是采用能谱仪(EDS)对ZrO2颗粒进行微区成分点分析的结果,由结果可知,O:Zr的原子数的比值为60.20:39.80,不满足通常分子式中2:1的比例关系,Zr的比值稍微高一些,可能存在其他形式的Zr-O化合物或者颗粒中存在单质Zr。2.2.2线分析焊缝的元素分布图1.6合金焊缝的EDS线成分分析如图1.6所示,以焊缝为分界,焊缝的右侧比左侧的O含量升高,Sn含量降低, Cr的含量降低,Fe的含量升高。由此可知,将被焊接到一起的两块材料是不同类别 的板材,元素含量差别较大。(五)思考题1)简述扫描电镜的基本结构及特点。扫描电子显微镜由电子光学系统,信号处理、图像显示和记录系统,真空系统三个基本 部分组成。电子光学系统包括电子枪、电磁透镜、扫描线圈和样品室,其中电磁透镜只做聚 光镜的作用;信号处理、图像显示和记录系统中二次电子和被反射电子及投射电子都可以采 用闪烁计数器来进行检测;真空系统中一般采用机械泵和分子泵相结合的方式获取所需要的 真空度,其中先用机械泵抽到一定真空度,再用分子泵接着抽至高的真空度。Ji調.払起也佛”啊图1.7扫描电子显微镜的工作原理2) 二次电子像衬度与哪些因素有关?说明所观察图像的典型特征。二次电子的衬度于原子序数无关,与表面形貌有关。二次电子信号来自于样品表面层5 lOnm,信号的强度对样品微区表面相对于入射束的取向非常敏感,随着样品表面相对于入射 束的倾角增大,二次电子的产额增多。因此,二次电子像适合于显示表面形貌衬度。同时, 材料的导电性也可以一定程度的影响表面衬度,绝缘体物质表面电子的堆积可导致衬度变量 亮。图1.3所示,凸出的部分明亮,有很明显的边缘效应,这是因为边缘是棱角位置,二次电子 的产额多,容易被探测器接受。而凹处的部分产生的二次电子不易被接受,显示在SEM像上 比较暗。3) 说明能谱仪的工作原理,即X射线信号的接受,转换及显示过程。各种元素都有自己的特征X射线波长,特征波长的大小取决于能级跃迁过程中释放的特征能 量。能谱仪就是根据不同元素特征波长的能量不同这一特点进行分析的。X射线光子进入锂漂移硅Si(Li)探测器后,在晶体内产生电子一空穴对。在低温下,产生一 个电子一空穴对平均消耗能量为3.8ev。能量为E的X射线光子产生的电子一空穴对为N= E/3.8,特征波长越大,产生的N越大。利用加在晶体两端的偏压收集电子-空穴对,经前置 放大器准换为电流脉冲,电流脉冲的高度取决于N的大小,电流脉冲经主放大器准换为电压 脉冲进入多道脉冲分析器。电子-空穴对形成电压脉冲信号,探测器输出的电压脉冲高度对应X射线的能量。偏压电源样品图1.8锂漂移硅检测器能谱仪框图4)结合元素定性和定量分析的结果及样品形貌,说明能谱分析方法的特点。(1)定点分析一获得样品中一个选定点的全谱分析,确定夹杂、第二相等选定点 所含元素的种类和浓度(定量分析)。(2)线分析一获得样品在一个选定线上的某一元素的浓度变化(定性分析);(3)元素的面分布一获得样品在一个选定区域内某一元素的浓度分布图(定性分 析)。另外EDS还有一些特点:探测X效率高,比较灵敏;工作效率高,可以在 同一时间对所有元素的特征X射线光子能量进行探测和计数,并可在短时间内 获得结果;其内部无机械传动部分,稳定性和重复性好;X射线不需聚焦, 对表面无特殊要求。

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