可控硅工作原理及参数详解
11页1、流管 结构 用于 个控 压、 由最 控制 只三 Q2 都 可控硅全称 管(Thyristor 构简单、功能 于各种电子产 其原理图符 从可控硅的 控制极 G,正是 大电流的大 可控硅的基 三个 PN 结 最外层 P 型半 制极 G,由最 三极管电路。 下面我们来 如下图所示 都处于截止状 1 称“可控硅整 ) ,是一种具 能强,可起到变 产品中,如调 符号如下图所 的电路符号可 是它使得可控 大功率器件, 基本结构如下 结(J1、J2、 半导体材料引 外层的 N 型 来看看可控硅 示,初始状态 状态,两者地 Au 可可控控 整流元件” (Si 具有三个 PN 结 变频、整流、 光灯、摄像机 所示: 可以看到, 它和 控硅具有与二 随着设计技 下图所示: J3)组成 4 出的电极作 半导体材料引 硅的工作原理 态下,电压 VA 地盘互不侵犯 uthor: Jackie Lo All 控控硅参数硅参数详详 ilicon Contro 结、四层结构 、逆变、无触 机、无线电遥 和二极管一样 二极管完全不 术和制造技术 层 P1N1P2 为阳极 A, 由 引出的电极称 : AK施加到可控 犯。
2、 ong rights reserved, 详详解解 lled Rectifier 构的大功率半 触点开关等多 遥控、组合音 样是一种单方 不同的工作特 术的进步,越 2N2 结构的半 由中间的 P 型 称为阴极 K, 控硅的 A、K NO Spreading ) ,简写为 S 半导体器件。 多种作用,因 音响等。 方向导电的器 特性。可控硅 越来越大容量 半导体器件对 型半导体材料 它可以等效 两个端,此时 without Author SCR,别名晶 可控硅体积 因此现已被广 器件, 只是多 硅是可以处理 量化 。 对外有三个电 料引出的电极 效成如图所示 时三极管 Q1 ization 体闸 积小、 泛应 了一 理耐高 电极, 极称为 示的两 1 与 电电压压 Repe 产生 也为 大于 伏, 此时 VAK电压 压压 VDRM(Pea etitive OffSt 如下图所示 生了基极电流 为 0,电阻 R2 于 VBE2,即使 因此,三极 2 压全部施加到 k Repetitive tate Current) 示,电压 VGK施 流 IB2,此时 Q 2 上也没有压 使是在测试数
3、据 极管 Q2 的发射 Au 到 A、 K 两极 OffState V ) 施加到 G、K Q2 尚处于截止 压降,因此 Q 据手册中的参 射结正偏、集 uthor: Jackie Lo All 极之间, 这个允 Voltage) ,相 两极后,Q2 止状态,可控 Q2 的集电极 参数时,VAK 集电结反偏, ong rights reserved, 允许施加的最 相应的有断态断态 2 的发射结因 控硅阳极电流 发射电压 VC 也至少有 6V 开始处于放 NO Spreading 最大电压 VAK 重复峰值电重复峰值电流流 因正向偏置而 流 IA为 0,Q E2为 VAK,这 V,实际应用 放大状态。 without Author 即断态重断态重复复 流流 IDRM(Pea 而使其导通, Q1 的基极电流 这个电压值通 用时 VAK会有几 ization 峰值峰值 ak 从而 流 IB1 通常远 几百 门门极极 VGK) 为 IC 小( 时的 只有在 G、 极极触发电压触发电压 V ) ,此时流过 刚刚进入放 C2,其值为( (但是已经不 的 Q2 的集电极 3 K 加上正向电 VGT
4、(Gate Trig 过控制极的电流 放大状态(微导 (IB22) , 不为 0 了) , 极发射极压 Au 电压后,才可 gger Voltage 流称为门极门极触触 导通)的三极 尽管放大了 电阻 R2 中也 压降仍然很大 uthor: Jackie Lo All 可以触发可控 ) ,这个值就 触触发电流发电流 IGT 极管 Q2 将基 2 倍,但此 也有微小电流 。 ong rights reserved, 控硅的导通, 就是一个 PN 结 (Gate Trigg 基极电流 IB2进 此时的 IC2还 流,可以看成 NO Spreading 这个触发电 结的结电压 er Voltage) 进行放大,相 比较小,因此 成一个完整的 without Author 电压的最小值 (不是电池电 相应集电极的 此 IA与 IB1也 的电流回路, ization 值称为 电压 电流 比较 但此 只要 极电 机终 经 Q 与此同时, 三 要基极设置合 电流 IC2的出现 处于微导通 终于成熟了, Q1 放大后,其 4 三极管Q1的 合适的电压, 现,使得三极 通状态的三极 三极管 Q1 也 其
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