第六章 局部腐蚀
202页1、第六章 局部腐蚀l第一节 局部腐蚀与全面腐蚀的比较l第二节 小孔腐蚀(点腐蚀、孔蚀)l第三节 电偶腐蚀l第四节 晶间腐蚀l第五节 选择性腐蚀l第六节 缝隙腐蚀第一节 局部腐蚀与全面腐蚀的比较l一 全面腐蚀与局部腐蚀的主要腐蚀形态l二 全面腐蚀(General Corrosion)l1 腐蚀特征l 腐蚀分布于金属的整个表面,腐蚀的结果是使金属全面变薄。l2 电化学过程特点l 腐蚀电池的阴、阳极面积非常小;微阴极和微阳极的位置变幻不定,整个金属表面在溶液中都处于活化状 态。图 1 1l三 局部腐蚀(Localized Corrosion)l1 腐蚀特征l 腐蚀仅局限或集中在金属的某一特定部位。l2 电化学过程特点l 阳极和阴极是独立分开;腐蚀电池中的阳极溶解反应和阴极区腐蚀剂的还原反应在不同区域 发生,而腐蚀产物在第三地点形成;通常阳极区 的面积比阴极区的面积小得多,使阳极区腐蚀剧 烈。l3 引起局部腐蚀的原因l(1)异种金属接触电偶腐蚀;l(2)同一种金属上的自发微观电池晶间l 腐蚀、选择性腐蚀、孔蚀、石墨化腐蚀l 以及应力腐蚀断裂;l(3)差异充气电池引起的局部腐蚀土壤l 腐蚀、缝隙腐
2、蚀、水线腐蚀;l(4)金属离子浓差引起的局部腐蚀;l(5)膜孔电池或活性钝性电池引起的局l 部腐蚀;l(6)杂散电流引起的局部腐蚀;四 全面腐蚀与局部腐蚀的比较项项目全面腐蚀蚀局部腐蚀蚀1 腐蚀蚀形貌腐蚀蚀分布在整个金属表面腐蚀蚀平衡集中在一定区 域,其他部分不腐蚀蚀 2 腐蚀电蚀电 池阴、阳极在表面上变变幻不 定,阴、阳极不可辨别别阴、阳极可分辨3 电电极面积积阳极面积积阴极面积积阳极面积积0.1%l电镀镍添加剂l1 第一类光亮剂(初级光亮剂)l(1)类型 具有 CSO2结构l 对甲苯磺酰胺;l 糖精(芳香族磺酰亚胺类)l 噻吩2磺酸l 苯亚磺酸(芳香族亚磺酸) l(2)初级光亮剂的特点l 能使镀层晶粒减小,具有一定的光泽,但单l 独使用时不能产生全光亮镀层,只能与第二l 类光亮剂配合使用,才能使镀层达到全光亮;l 能降低镀层的张应力,但用量过多时会给镀层带来l 压应力;l 具有 CSO2 结构,在镍催化作用下,使镀层l 的硫含量达0.050.1;l 通过初级光亮剂的不饱和链吸附在阴极表面的晶体l 生长部位。由于适宜于吸附的部位有限,能有效地l 控制镀层硫的夹入量。l2 第二类光亮剂
3、(次级光亮剂)l主要包括醛类、酮类、炔类、氰类和杂环类。l 甲醛,水合氯醛l 香豆素l 1,4丁炔二醇l 乙撑氰醇l 喹啉甲碘化合物l 近年来发展的辅助光亮剂除具有第一类光 亮剂的某些作用外,还能防止或减少镀层针孔 ,与第一类光亮剂、第二类光亮剂配合使用, 加快出光速度和整平速度,对低电流密度区镀 层的光亮起良好作用,还能降低其他光亮剂的 消耗。l 辅助光亮剂具有不饱和的脂肪族链,磺化 基团SO3不一定与不饱和碳相连。l如:乙烯磺酸钠;l 烯丙基磺酸钠;l 苯乙烯磺酸钠;l多层镍体系的抗蚀性l双层镍铬镀层:l 半光亮镍镀层的硫含量相对于光亮镍镀层硫含量 低,即半光亮镍镀层的电势比光亮镍镀层的电势正, 半光亮镍镀层作铁基体上的底镀层,在其上再镀光亮 镍层,光亮镍镀层对于半光亮镍镀层是阳极性镀层。l 若光亮镍镀层中存在孔隙,将下部的半光亮镍镀 层暴露在外时,空气中的水分成为电解质,形成以光 亮镍层为阳极,半光亮镍层为阴极的微电池,使腐蚀 沿着横向在光亮镍层中发展,保护了半光亮镍层不被 腐蚀,从而进一步保护了铁基体,达到电化学保护的 目的。l三层镍铬镀层:l 在双层镍镀层的基础上,半光亮镍与
4、光亮镍镀层之间加镀一层高硫镍镀层(1m);由于高硫镍镀层中的硫含量比光亮镍镀层、半光亮镍镀层高,电势比 光亮镍层更负。l 当光亮镍层存在孔隙时,高硫镍镀层成为微电池的阳极,光亮镍成为阴极,使腐蚀向高硫镍层横向扩 展,而首先被腐蚀掉。使光亮镍层、半光亮镍层不被 腐蚀,从而保护铁基体。l二 小孔腐蚀机理l 1 蚀孔成核l 蚀孔成核原因有两种说法:钝化膜破坏理论 和吸附理论。l(1)钝化膜破坏理论(以不锈钢为例)l 该理论认为当腐蚀性阴离子(如Cl)在不锈钢钝化 膜上吸附后,由于氯离子半径小,而穿过钝化膜,Cl离 子进入膜层后,产生了强烈的感应离子导电,使膜在特 定点上维持高的电流密度并使阳离子杂乱移动,当膜/溶 液界面的电场达到某一临界值 时,就发生小孔腐 蚀。 l(2)吸附理论l 该理论认为点蚀的发生是由于Cl离子和氧的竞争吸附所造成。当金属表面上氧的吸附 点被氯离子所取代时,点蚀就发生了。其原因 是氯离子选择性吸附在氧化膜表面阴离子晶格 周围置换了水分子,使氯离子和氧化膜中阳离 子形成可溶性氯化物,促使金属离子溶入溶液 中。在新露出的基底金属特定点上生成小蚀孔 ,成为蚀孔核。(3)点蚀
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