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南通大学模电课件第五章

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南通大学模电课件第五章

第5章 场效应管放大电路 场效应管是一种利用电场效应来控制其电流的半导体器件。,特点:输入阻抗高、热稳定性好、噪声小、抗辐射、制造工艺简单 等优点。MOSFET大规模和超大规模集成电路中占有很重要的地位。,P沟道,耗尽型,P沟道,P沟道,(耗尽型),场效应管的分类:,5.1.1 N沟道增强型(绝缘栅)MOSFET 1、结构,5.1 金属氧化物半导体场效应管(MOSFET),L :沟道长度,W :沟道宽度,tox :绝缘层厚度,通常 W L,符号解释: 虚线表示,只有在加上柵极电压后,才有导电沟道(增强型); 箭头方向表示从P指向N,由此可判断沟道类型。 g,d,s分别对应于三极管的b极,c极,e极。,5.1.1 N沟道增强型MOSFET(绝缘栅) 1、结构,5.1 金属氧化物半导体场效应管(MOSFET),剖面图,符号,绝缘栅型,2、工作原理 1)VGS对工作的影响(设VDS=0),当VGS=0时,若加上VDS 0,两个PN结有一个反偏,R很大, iD=0,当VGS 0( 0),绝缘层 平板电容 强电场 排斥空穴(吸引电子),留下负离子。当VGS VT时,未形成导电沟道,这时VDS 0, iD=0,VT 称为开启电压,2、工作原理 1)VGS对工作的影响(设VDS=0),当VGS 0( 0),绝缘层 平板电容 强电场 排斥空穴(吸引电子),留下负离子。当VGS VT时,未形成导电沟道,这时VDS 0, iD=0,当VGS VT,吸引足够多的电子N型薄层(反型层、感生沟道),这时若VDS 0,通过感生沟道产生iD。,2. 工作原理,(2)vDS对沟道的控制作用,靠近漏极d处的电位升高,电场强度减小,沟道变薄,当vGS一定(vGS VT )时,,vDS,ID,沟道电位梯度,整个沟道呈楔形分布,当vGS一定(vGS VT )时,,vDS,ID,沟道电位梯度,当vDS增加到使vGD=VT 时,在紧靠漏极处出现预夹断。,2. 工作原理,(2)vDS对沟道的控制作用,在预夹断处:vGD=vGS-vDS =VT,预夹断后,vDS,夹断区延长,沟道电阻,ID基本不变,2. 工作原理,(2)vDS对沟道的控制作用,2. 工作原理,(3) vDS和vGS同时作用时,vDS一定,vGS变化时,给定一个vGS ,就有一条不同的 iD vDS 曲线。,3. V-I 特性曲线及大信号特性方程,(1)输出特性及大信号特性方程, 截止区 当vGSVT时,导电沟道尚未形成,iD0,为截止工作状态。, 可变电阻区 vDS(vGSVT) 一个受vGS控制的可变电阻, 饱和区 (恒流区又称放大区),3. V-I 特性曲线及大信号特性方程,(1)输出特性及大信号特性方程, 饱和区 (恒流区又称放大区),vGS VT ,且vDS(vGSVT),是vGS2VT时的iD,V-I 特性:,3. V-I 特性曲线及大信号特性方程,(2)转移特性,5.1.2 N沟道耗尽型MOSFET,1. 结构和工作原理(N沟道),二氧化硅绝缘层中掺有大量的正离子,可以在正或负的栅源电压下工作,而且基本上无栅流,5.1.2 N沟道耗尽型MOSFET,2. V-I 特性曲线及大信号特性方程,(N沟道增强型),(N沟道增强型),5.1.3 P沟道MOSFET,5.1.5 MOSFET的主要参数,一、直流参数,NMOS增强型,1. 开启电压VT (增强型参数),2. 夹断电压VP (耗尽型参数),3. 饱和漏电流IDSS (耗尽型参数),4. 直流输入电阻RGS (1091015 ),二、交流参数,1. 输出电阻rds,当不考虑沟道调制效应时,0,rds,5.1.5 MOSFET的主要参数,2. 低频互导gm,二、交流参数,考虑到,则,其中,5.1.5 MOSFET的主要参数,作业: 5.1.2 5.1.3,三、极限参数,1. 最大漏极电流IDM,2. 最大耗散功率PDM,3. 最大漏源电压V(BR)DS,4. 最大栅源电压V(BR)GS,5.2 MOSFET放大电路,5.2.1 MOSFET放大电路,1. 直流偏置及静态工作点的计算,2*. 图解分析,3. 小信号模型分析,5.2.1 MOSFET放大电路,1. 直流偏置及静态工作点的计算,(1)简单的共源极放大电路(N沟道),直流通路,共源极放大电路,5.2.1 MOSFET放大电路,1. 直流偏置及静态工作点的计算,(1)简单的共源极放大电路(N沟道),才工作在饱和区。,只有满足,如果VGS VT ,则工作在截止区,(饱和区),5.2.1 MOSFET放大电路,1. 直流偏置及静态工作点的计算,(1)简单的共源极放大电路(N沟道),假设工作在饱和区,即,验证是否满足,如果不满足,则说明假设错误,须满足VGS VT ,否则工作在截止区,再假设工作在可变电阻区,即,假设工作在饱和区,满足,假设成立,结果即为所求。,解:,例:,设Rg1=60k,Rg2=40k,Rd=15k,,试计算电路的静态漏极电流IDQ和漏源电压VDSQ 。,VDD=5V, VT=1V,,5.2.1 MOSFET放大电路,1. 直流偏置及静态工作点的计算,饱和区,需要验证是否满足,(2)带源极电阻的NMOS共源极放大电路,5.2.1 MOSFET放大电路,3. 小信号模型分析,(1)模型,=0时,高频小信号模型,3. 小信号模型分析,解:书例5.2.2的直流分析已求得:,(2)放大电路分析(例5.2.5),s,3. 小信号模型分析,(2)放大电路分析(例5.2.5),s,3. 小信号模型分析,(2)放大电路分析(例5.2.6),共漏,3. 小信号模型分析,(2)放大电路分析,end,5.3 结型场效应管,5.3.1 JFET的结构和工作原理,5.3.2 JFET的特性曲线及参数,5.3.3 JFET放大电路的小信号模型分析法,5.3.1 JFET的结构和工作原理,1. 结构,# 符号中的箭头方向表示什么?,2. 工作原理, vGS对沟道的控制作用,当vGS0时,(以N沟道JFET为例),当沟道夹断时,对应的栅源电压vGS称为夹断电压VP ( 或VGS(off) )。,对于N沟道的JFET,VP 0。,PN结反偏,耗尽层加厚,沟道变窄。,vGS继续减小,沟道继续变窄。,2. 工作原理,(以N沟道JFET为例), vDS对沟道的控制作用,当vGS=0时,,vDS,ID ,G、D间PN结的反向电压增加,使靠近漏极处的耗尽层加宽,沟道变窄,从上至下呈楔形分布。,当vDS增加到使vGD=VP 时,在紧靠漏极处出现预夹断。,此时vDS ,夹断区延长,沟道电阻,ID基本不变,2. 工作原理,(以N沟道JFET为例), vGS和vDS同时作用时,当VP vGS0 时,导电沟道更容易夹断,,对于同样的vDS , ID的值比vGS=0时的值要小。,在预夹断处,vGD=vGS-vDS =VP,综上分析可知,沟道中只有一种类型的多数载流子参与导电, 所以场效应管也称为单极型三极管。,JFET是电压控制电流器件,iD受vGS控制。,预夹断前iD与vDS呈近似线性关系;预夹断后, iD趋于饱和。,# 为什么JFET的输入电阻比BJT高得多?,JFET栅极与沟道间的PN结是反向偏置的,因 此iG0,输入电阻很高。,5.3.2 JFET的特性曲线及参数,2. 转移特性,1. 输出特性,与MOSFET类似,3. 主要参数,5.3.2 JFET的特性曲线及参数,5.3.3 FET放大电路的小信号模型分析法,1. FET小信号模型,(1)低频模型,(2)高频模型,2. 动态指标分析,(1)低频小信号模型,2. 动态指标分析,(2)低频电压增益,(3)输入电阻,(4)输出电阻,忽略 rds,,由输入输出回路得,则,end,5.5 各种场效应管的比较 从转移特性看N/P沟道、耗尽/增强型FET管的开启电压/夹断电压及栅极偏置。,使用注意事项: 1)衬底的连接:P沟道高电位;N沟道低电位;常将源极和衬底相连。 2)对FET,一般D、S可互换;若衬底与源极已连接在一起,则不能互换。 3)JFET的栅压不能接反,可开路保存;而绝缘栅型需各极间短路保存。 4)MOS管在焊接时须注意外电场的影响,(烙铁断电后再焊接)。,小结: FET使用中应记住:栅压控制、基本无栅流,以及各种类型的VGS和VDS的极性和电压范围。 VDS的极性取决于导通沟道的类型:N沟道VDS 0;P沟道VDS 0。 VGS的极性取决于工作方式和导电沟导类型: J型:N沟道VGS 0;P型VGS 0 MOS管:耗尽型VGS 0或VGS 0; 增强型:N沟道VGSVT;P沟道VGS VT 增强型的MOS管VGS与VDS同极性;耗尽型的MOS管的VGS与VDS有同极性和反极性两种。,例1:已知某场效应管的输出特性如图所示。由图中给出的数据来判断 1)它是哪种类型的场效应管? 2)其夹断电压VP或开启电压VT是多少? 3)若是耗尽型的话,它的IDSS是多少? 解:1) 由于VGS可正可负, 是耗尽型的MOSFET 又 VGS从负往正变化时, iD相应地由大变小, 是P沟道 2)VP=1.5V 3)对应于VGS=0的iD,即IDSS 12mA,

注意事项

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