清华成功研发光刻机双工件台系统样机_Mary

Outlook技术前沿 25我国成功研制30GS/s超高速数据转换器超高速模拟数字转换器（ADC）员带领下成立了超高速数模混合电路展起到了极大的促进作用。该芯片的和数字模拟转换器（DAC）是下一代研发团队，以实现A D/D A研制的整使用简单灵活，可实现并行多波段/光通信及无线宽带领域的核心芯片，体跨越为目标。经过近10年的技术积多波束运行，并可提供较高的动态范在大数据中心、以太网光互联、短距累，团队在超高速A D C/D A C的设计围。其中，30GS/s 6b ADC芯片面积离互联通信等领域有着广泛应用。方法、理论分析方法及封装测试等方为3.9m m×3.3m m，采用4路交织技美、日等国自上世纪60、70年代起始面积累了丰富的研究经验。术，子ADC采用自主创新的折叠内插终占据该领域的技术最高点。在国家“863”项目的支持下，架构。30GS/s 6b DAC的芯片面积为微电子所于2006年在刘新宇研究团队的研究工作取得了突破性进展，3mm×2.8mm，采用了分段式电流舵成功研制出超高采样率、宽频带的DAC架构。目前，该芯片已在武汉邮30GS/s 6b ADC/DAC芯片，大大电科学院构建的1T b/s相干光O F D M缩短了与先进国家的技术差距，为我传输验证平台上实现应用验证。国在该领域摆脱国外技术壁垒限制增Mary图 30GS/s 6bit ADC和DAC芯片实物图加了关键性的筹码，对下游产业的发清华成功研发光刻机双工件台系统样机清华大学国家科技重大专项“光光刻机是制造大规模集成电路位，被称为超精密技术皇冠上的明刻机双工件台系统样机研发”通过验的核心装备。为将设计图形制作到硅珠。收，使我国成为少数能研制光刻机双片上，并在23c m2的方寸之地集成专家组认为，历经5年攻关，研究工件台这一超精密机械与测控技术领数十亿晶体管，光刻机需达到几十纳团队研制出2套光刻机双工件台掩模台域尖端系统的国家之一。项目由清华米甚至更高的图像分辨率。而光刻机系统样机，关键技术指标已达到国大学机械工程系朱煜教授担任负责两大核心部件之一的工件台，在高速际同类光刻机双工件台水平，并获得人，以研制光刻机双工件台系统样机运动下需达到2n m（相当于头发丝直专利授权122项，为后续产品研发和产为目标，力争为研发6528nm双工件径的三万分之一）的运动精度。由此业化打下了坚实基础。台干式及浸没式光刻机提供具有自主奠定了光刻机超精密工件台技术在超Mary知识产权的产品级技术。精密机械制造与控制领域的最尖端地www.epc.com.cn · 2016年6月 · 今日电子