电容屏制作工艺
3页电容屏制作工艺比较:DITO 与 SITO 对比DITO 制造工艺复杂,但透光度、稳定性好,适用于高端应用,据了解,iPhone 采用的是 DITO 工艺;SITO 工艺较 DITO 简单,但稳定性稍差,目前尚在持续改进中;FILM 透光性较差,而且一般边框较厚,美观度不理想,但成本优势明显。DITO 工艺的难度主要在于:第一、工序繁琐而复杂;第二、上下两层 ITO 光刻对位精度极高;第三、生产过程中,玻璃的两面都要保证高度清洁。DITO 对检测 IC 也有很高的要求,由于两层 ITO 间距较大(相隔一层玻璃,而不是如同 SITO 仅相隔绝缘层) ,层间电容较小,检测灵敏度高,但对 IC 的精度要求也高。 SITO 工序的复杂度和精密度,都较 DITO 为低,因此成本较低,但有两个弱点:第一、两层 ITO 先后光刻在玻璃的同一面,附着强度比 DITO 低,性能的稳定性也比 DITO 低;第二、如上段分析,SITO 层间电容大,检测精度不如 DITO
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